本實用新型涉及保潔設備技術領域，具體而言，涉及一種輻射表清潔機構及設備。

背景技術：

在氣象、農(nóng)業(yè)領域中使用的許多觀測儀器和儀表往往暴露在大氣環(huán)境中，而輻射表是最常用的觀測儀表之一。由于大氣環(huán)境中的灰塵、降雨和降雪等對輻射表的透光度影響極大，嚴重影響了輻射表的準確測量?，F(xiàn)有專利(ZL20132401422)公開了一種用于無人值守輻射表的清潔裝置，該清潔裝置由紅外線感應器、單片機、吹風機控制元件和吹風機組成。清潔裝置安裝在輻射表的斜上方，該清潔裝置可以設置指定的時間來開啟吹風機，通過對輻射表吹風來進行清潔；在有降雨/雪的時候，單片機就通過模擬電子開關給吹風機啟動信號，從而啟動吹風機對輻射表進行清潔。

發(fā)明人在研究中發(fā)現(xiàn)，該清潔裝置是長時間地安裝在輻射表的斜上方，且安裝位置到輻射表的距離較近。但是，現(xiàn)有的輻射表和早期的輻射表的視場角一般為150°，新版本的輻射表的視場角一般為180°。這意味著該清潔裝置一定會影響到輻射表的觀測，并且其對輻射表清潔所帶來的數(shù)據(jù)精度提高是不能夠超過安裝清潔裝置而引起的觀測誤差的。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型實施例的目的在于提供一種輻射表清潔機構及設備，旨在對輻射表進行有效清潔以及提高其觀測精度。

第一方面，本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔機構，用于清潔輻射表的向下方向的短波輻射，所述輻射表清潔機構包括：清潔短波輻射的清潔裝置，驅(qū)動所述清潔裝置進行工作且位于所述清潔裝置底端的轉盤，支撐所述轉盤和清潔裝置的支撐桿，所述支撐桿與所述轉盤固定相連，其中，所述清潔裝置包括具有開口結構的半球形的清潔盤以及貼合于所述清潔盤內(nèi)側的清潔布，所述開口結構的開口方向遠離所述轉盤設置。

優(yōu)選地，所述輻射表清潔機構還包括與所述轉盤連接的電機以及與所述電機電性連接的電源，其中，所述電機和電源安裝于所述支撐桿中。

優(yōu)選地，所述輻射表清潔機構還包括設置在所述支撐桿上，與所述電源和電機分別電性連接的控制按鈕。

優(yōu)選地，所述輻射表清潔機構還包括與所述電源電性連接的處理器，所述處理器與一遙控器通信連接，以根據(jù)所述遙控器發(fā)送的控制信號控制所述電源的工作狀態(tài)。

優(yōu)選地，所述支撐桿與所述轉盤相連的一端設置有固定盤，所述固定盤與所述支撐桿一體成型，所述支撐桿通過所述固定盤與所述轉盤固定相連。

優(yōu)選地，所述支撐桿包括至少兩段活動桿，相鄰兩段活動桿之間為活動連接，以調(diào)節(jié)所述支撐桿的總長度。

優(yōu)選地，相鄰兩段活動桿上均勻間隔設置有孔徑匹配的通孔，所述輻射表清潔機構還包括用于穿入所述通孔中的固定螺桿，以調(diào)節(jié)所述支撐桿的總長度。

優(yōu)選地，所述相鄰兩段活動桿之間采用螺紋方式進行連接，每段活動桿上設置有刻度線。

優(yōu)選地，所述轉盤內(nèi)設置有存儲清潔液的存儲腔室。

第二方面，本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔設備，包括：

用于清潔輻射表的向上方向短波輻射的第一輻射表清潔機構；

用于清潔輻射表的向上方向長波輻射的第二輻射表清潔機構；

用于清潔輻射表的向下方向長波輻射的第三輻射表清潔機構；及

用于清潔輻射表的向下方向短波輻射的輻射表清潔機構，其中：

所述第一輻射表清潔機構和第二輻射表清潔機構設置于所述清潔裝置的背面，所述第三輻射表清潔機構和輻射表清潔機構設置于所述清潔裝置的上層。

本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔機構，在清潔裝置的底端設置驅(qū)動該清潔裝置進行工作的轉盤，所述轉盤的底端與支撐桿固定相連，以使該支撐桿對所述轉盤和清潔裝置進行支撐。所述清潔裝置包括半球形的清潔盤以及貼合于所述清潔盤內(nèi)側的清潔布，所述轉盤的轉動可帶動所述清潔盤進行旋轉，從而利用所述清潔布對輻射表進行清潔。另外，所述半球形的清潔盤的頂部設置有開口結構，所述開口結構的開口方向遠離所述轉盤設置，能夠?qū)ο蛳路较虻亩滩ㄝ椛涞妮椛浔磉M行清潔。

進一步地，本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔設備，包括設置于所述清潔裝置的背面的第一輻射表清潔機構和第二輻射表清潔機構，能夠?qū)ο蛏戏较蜉椛涞妮椛浔磉M行有效清潔。另外，該輻射表清潔設備還包括設置于所述清潔裝置的上層的第三輻射表清潔機構和輻射表清潔機構，能夠?qū)ο蛳路较蜉椛涞妮椛浔磉M行有效清潔。

為使本實用新型的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附附圖，作詳細說明如下。

附圖說明

目前清潔裝置是長時間地安裝在輻射表的斜上方，且安裝位置到輻射表的距離較近。但是，現(xiàn)有的輻射表和早期的輻射表的視場角一般為150°，新版本的輻射表的視場角一般為180°。這意味著該清潔裝置一定會影響到輻射表的觀測，并且其對輻射表清潔所帶來的數(shù)據(jù)精度提高是不能夠超過安裝清潔裝置而引起的觀測誤差的。

鑒于此，本實用新型的設計者通過長期的探索和嘗試，以及多次的實驗和努力，不斷的改革創(chuàng)新，設計出了一種輻射表清潔機構及設備，可以較好地改善上述問題。

為了更清楚地說明本實用新型實施方式的技術方案，下面將對實施方式中所需要使用的附圖作簡單地介紹，應當理解，以下附圖僅示出了本實用新型的某些實施例，因此不應被看作是對范圍的限定，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他相關的附圖。

圖1是本實用新型實施方式提供的一種輻射表清潔設備的組成框圖。

圖2是本實用新型實施方式提供的一種輻射表清潔設備的立體結構示意圖。

圖3是本實用新型實施方式提供的一種輻射表清潔設備的平面結構示意圖。

圖4是應用于圖3中的固定螺桿的放大結構示意圖。

圖5是本實用新型實施方式提供的一種輻射表清潔機構的爆炸結構示意圖。

圖中標記分別為：

圖標：10-輻射表清潔設備；100-第一輻射表清潔機構；200-第二輻射表清潔機構；300-第三輻射表清潔機構；400-輻射表清潔機構；401-清潔裝置；402-轉盤；403-支撐桿；404-開口結構；405-固定盤；406-固定螺桿。

具體實施方式

為使本實用新型實施方式的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結合本實用新型實施方式中的附圖，對本實用新型實施方式中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施方式是本實用新型的一部分實施方式，而不是全部的實施方式?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤┓绞?，本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施方式，都屬于本實用新型保護的范圍。因此，以下對在附圖中提供的本實用新型的實施方式的詳細描述并非旨在限制要求保護的本實用新型的范圍，而是僅僅表示本實用新型的選定實施方式。

在本實用新型的描述中，需要理解的是，術語“上”、“下”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的設備或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本實用新型的限制。

此外，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數(shù)量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本實用新型的描述中，“多個”的含義是兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。

在本實用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術語應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通或兩個元件的相互作用關系。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術語在本實用新型中的具體含義。

應注意到：相似的標號和字母在下面的附圖中表示類似項，因此，一旦某一項在一個附圖中被定義，則在隨后的附圖中不需要對其進行進一步定義和解釋。

如圖1所示，是本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔設備10的組成框圖。該輻射表清潔設備10可以包括第一輻射表清潔機構100、第二輻射表清潔機構200、第三輻射表清潔機構300以及輻射表清潔機構400。其中，所述第一輻射表清潔機構100和第二輻射表清潔機構200位于所述輻射表清潔設備10的背面區(qū)域。所述第三輻射表清潔機構300以及輻射表清潔機構400位于所述輻射表清潔設備10的上層區(qū)域。

本實施例中，所述第一輻射表清潔機構100用于清潔輻射表的向上方向短波輻射，例如：觀測地表反射和發(fā)射的短波輻射的輻射表等。所述第二輻射表清潔機構200用于清潔輻射表的向上方向的長波輻射，例如：觀測地表反射和發(fā)射的長波輻射的輻射表等。

另外，所述第三輻射表清潔機構300用于清潔輻射表的向下方向長波輻射，例如：觀測太陽及大氣層向下方向輻射的長波輻射的輻射表等。所述輻射表清潔機構400用于清潔輻射表的向下方向短波輻射的輻射表，例如：觀測太陽及大氣層向下方向輻射的短波輻射的輻射表等。

綜上所述，所述輻射表清潔設備10能夠?qū)Ω鞣N輻射表(向上方向的長波輻射表、向上方向的短波輻射表、向下方向的長波輻射表以及向下方向的短波輻射表等)進行有效地清潔。

請一并參閱圖2-圖4，該輻射表清潔機構400可用于清潔輻射表的向下方向的短波輻射。其中，所述輻射表清潔機構400可以包括清潔裝置401、轉盤402和支撐桿403等。本實施例中，所述清潔裝置401可以包括一清潔盤以及清潔布，所述清潔布貼合于所述清潔盤的內(nèi)側，用于對輻射表進行清潔。所述清潔盤與所述轉盤402固定相連，所述轉盤402位于所述清潔裝置401的底端，用于驅(qū)動所述清潔裝置401進行工作。實施時，可按照一定的頻率對輻射表進行清潔，有效降低對輻射數(shù)據(jù)的影響。

在所述支撐桿403與所述轉盤402相連的一端設置有固定盤405，所述支撐桿403可通過所述固定盤405與所述轉盤402固定相連。本實施例中，所述固定盤405與所述支撐桿403一體成型。在所述固定盤405和轉盤402上設置有多個螺紋通孔，通過將螺絲分別穿入所述固定盤405與所述轉盤402中的多個螺紋通孔，實現(xiàn)所述支撐桿403與所述轉盤402的固定連接。

為了對短波輻射的輻射表進行清潔，所述清潔盤制作為半球形，可有效吸收短波輻射，并在所述清潔盤的頂部設置一開口結構404，該開口結構404的開口方向遠離所述轉盤402設置。另外，在所述轉盤402內(nèi)還設置有存儲腔室，該存儲腔室用于存儲清潔液(例如：水、酒精和清潔劑等)，以增加對所述輻射表進行清潔的潔凈度。當然，還可以通過人工將清潔液噴在所述輻射表的表面，從而提高對所述輻射表進行清潔的潔凈度。

本實施例中，所述支撐桿403可以包括至少兩段活動桿，相鄰兩段活動桿之間為活動連接。其中，所述相鄰兩段活動桿的口徑相匹配，即其中一段活動桿可內(nèi)嵌在另一段活動桿中，并能夠沿著另一段活動桿進行滑動，從而調(diào)節(jié)所述支撐桿403的總長度。所述相鄰兩段活動桿之間可采用固定螺桿406或者螺紋進行連接固定等。

詳細地，請參閱圖5，是本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔機構400的爆炸結構示意圖。其中，當相鄰兩段活動桿之間采用固定螺桿406進行連接固定時，在沿著每段活動桿的長度方向上均勻間隔設置多個通孔，所述多個通孔的孔徑相等，并與所述螺桿的孔徑相對應，以使所述螺桿能夠穿入所述多個通孔中，從而實現(xiàn)所述相鄰兩段活動桿之間的連接。通過調(diào)節(jié)所述相鄰兩段活動桿之間的相對位置后再進行連接，能夠調(diào)節(jié)所述支撐桿403的總長度。

當相鄰兩段活動桿之間采用螺紋方式進行連接固定時，在所述其中一段活動桿的連接端部區(qū)域的外壁設置外螺紋，所述另一段活動桿的連接端部區(qū)域的內(nèi)壁設置與該外螺紋相匹配的內(nèi)螺紋，通過所述外螺紋和內(nèi)螺紋的相互配合，從而實現(xiàn)所述相鄰兩段活動桿之間的連接，并能夠調(diào)節(jié)所述支撐桿403的總長度。

本實施例中，所述輻射表清潔機構400還可以包括電機以及電源。其中，所述電機和電源分別安裝于所述支撐桿403中，且所述電機和電源可電性連接，所述電機與所述轉盤402連接。在所述電源和電機接通時，所述電源則所述電機進行轉動，而所述電機的轉動帶動所述轉盤402進行旋轉，進而對輻射表進行清潔。

為了對所述電機的轉動進行控制，所述輻射表清潔機構400還包括控制按鈕。所述控制按鈕分別與所述電源和電機電性相連，用于控制所述電源和電機的連接狀態(tài)，從而對所述電機的工作狀態(tài)進行切換。本實施例中，所述控制按鈕設置在所述支撐桿403的側壁。當所述控制按鈕被按下時，所述電源和電機為接通狀態(tài)，所述電機工作。反之，所述電機不工作。

另外，所述輻射表清潔機構400還可以包括處理器。其中，所述處理器與所述電源電性連接，以及與一遙控器通信連接。所述處理器用于根據(jù)所述遙控器發(fā)射的信號對所述電機和電源的連接狀態(tài)進行切換。本實施例中，所述處理器設置在所述支撐桿403內(nèi)。當所述處理器檢測到遙控器發(fā)射的啟動工作的信號時，將所述電源和電機接通，所述電機工作。反之，所述電機不工作。

本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔機構400，在清潔裝置401的底端設置驅(qū)動該清潔裝置401進行工作的轉盤402，所述轉盤402的底端與支撐桿403固定相連，以使該支撐桿403對所述轉盤402和清潔裝置401進行支撐。所述清潔裝置401包括半球形的清潔盤以及貼合于所述清潔盤內(nèi)側的清潔布，所述轉盤402的轉動可帶動所述清潔盤進行旋轉，從而利用所述清潔布對輻射表進行清潔。另外，所述半球形的清潔盤的頂部設置有開口結構404，該開口結構404的開口方向遠離所述轉盤設置，能夠?qū)ο蛳路较虻亩滩ㄝ椛涞妮椛浔磉M行清潔。

進一步地，本實用新型實施例提供的一種輻射表清潔設備10，包括設置于所述清潔裝置401的背面的第一輻射表清潔機構100和第二輻射表清潔機構200，能夠?qū)ο蛏戏较蜉椛涞妮椛浔磉M行有效清潔。另外，該輻射表清潔設備10還包括設置于所述清潔裝置401的上層的第三輻射表清潔機構300和輻射表清潔機構400，能夠?qū)ο蛳路较蜉椛涞妮椛浔磉M行有效清潔。

在本實用新型中，除非另有明確的規(guī)定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接觸，也可以包括第一和第二特征不是直接接觸而是通過它們之間的另外的特征接觸。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或僅僅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或僅僅表示第一特征水平高度小于第二特征。

以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施方式而已，并不用于限制本實用新型，對于本領域的技術人員來說，本實用新型可以有各種更改和變化。凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。