專利名稱：一種新型真空退火爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種在熱處理過(guò)程中不需要抽真空、充氮?dú)?、不?huì)在金屬表面產(chǎn)生氧化層的新型真空退火爐。
在熱處理過(guò)程中如退火、淬火中，現(xiàn)有的退火爐在退火工藝中需要抽真空，充氮?dú)猓以诮饘佼a(chǎn)品表面常產(chǎn)生氧化層，同時(shí)還存在著脫碳現(xiàn)象，退火后還需要用剝殼機(jī)除去氧化層，在退火爐中的高溫橡膠密封圈和石棉密封圈易變質(zhì)老化，因此造成現(xiàn)有的生產(chǎn)工藝流程長(zhǎng)，成本高，工藝復(fù)雜，產(chǎn)品質(zhì)量低，耗費(fèi)資源。
本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足而提供一種可簡(jiǎn)化熱處理工藝、提高產(chǎn)品質(zhì)量和工作效率、降能節(jié)耗的新型真空退火爐。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的由爐體、設(shè)置在爐體中的絕熱層、設(shè)置在絕熱層中的反射屏、設(shè)置在反射屏中的加熱體、處于加熱體中的工件組成，在爐體密封口處包圍有一層除氧劑。爐體密封口處結(jié)構(gòu)為一種凹凸結(jié)構(gòu)，凹槽內(nèi)放置有除氧劑。
本實(shí)用新型具有不需充氮?dú)?、不需抽氧氣、不需冷卻、節(jié)約時(shí)間、縮短工藝流程、降低成本的優(yōu)點(diǎn)，處理過(guò)的金屬表面無(wú)氧化層，表面光滑如鏡，不需剝殼機(jī)除氧化層，金屬不脫碳和不生銹，不需要再進(jìn)行酸洗和堿洗。
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明。


圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
如
圖1所示，本實(shí)用新型由爐體1、設(shè)置在爐體中的絕熱層2、設(shè)置在絕熱層中的反射屏3、設(shè)置在反射屏中的加熱體4、處于加熱體中的工件5組成，在爐體密封口處包圍有一層除氧劑7。除氧劑也可以放置在爐體內(nèi)部一部分。在爐體密封口處結(jié)構(gòu)為一種凹凸結(jié)構(gòu)，即爐底8與爐體1之間以凹槽形式連接。凹槽6內(nèi)放置有除氧劑。這種爐子可以是箱式回火爐、井式真空爐、臺(tái)式真空爐、硅碳棒淬火爐等需要進(jìn)行真空熱處理的爐子。只要在密封口處或接口處包圍有除氧劑進(jìn)行密封，就可達(dá)到除氧目的。
權(quán)利要求1.一種新型真空退火爐，由爐體(1)、設(shè)置在爐體中的絕熱層(2)、設(shè)置在絕熱層中的反射屏(3)、設(shè)置在反射屏中的加熱體(4)、處于加熱體中的工件(5)組成，其特征在于在爐體密封口處包圍有一層除氧劑(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型真空退火爐，其特征在于爐體密封口處結(jié)構(gòu)為一種凹凸結(jié)構(gòu)，凹槽內(nèi)放置有除氧劑(7)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種在熱處理過(guò)程中不需要抽真空、充氮?dú)?、不?huì)在金屬表面產(chǎn)生氧化層的新型真空退火爐,由爐體、設(shè)在爐體中的絕熱層、設(shè)在絕熱層中的反射屏、設(shè)在反射屏中的加熱體、處于加熱體中的工件組成,在爐體密封口處包圍有一層除氧劑,爐體密封口處結(jié)構(gòu)為一種凹凸結(jié)構(gòu),凹槽內(nèi)放置有除氧劑,具有可簡(jiǎn)化熱處理工藝、提高產(chǎn)品質(zhì)量和工作效率、降能節(jié)耗的優(yōu)點(diǎn),適于在退火、淬火等熱處理過(guò)程中使用。
文檔編號(hào)F27B5/00GK2396356SQ9923780
公開(kāi)日2000年9月13日 申請(qǐng)日期1999年5月28日 優(yōu)先權(quán)日1999年5月28日
發(fā)明者趙獻(xiàn)濤, 趙廉生 申請(qǐng)人:趙獻(xiàn)濤, 趙廉生