本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式涉及一種冷卻器，其中通過致使制冷劑流過與加熱體熱接觸的流路來輻射由加熱體產(chǎn)生的熱。另外，本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式涉及一種包括用于使流體的流動方向彎曲的彎曲流路的流路單元。

背景技術(shù)：

為了輻射由諸如電子部件的加熱體產(chǎn)生的熱，存在制冷劑(諸如冷卻水)流過與加熱體熱接觸的流路的冷卻器。在這樣的冷卻器中，為了致使制冷劑平滑地流過流路并提高冷卻效率，例如，在jp特開2014-20115號公報和jp特開2015-154699號公報中，多個肋或翅片設(shè)置在流路內(nèi)并且分割流路。

在jp特開2014-20115號公報中，用于致使制冷劑筆直流動的筆直流路和用于使制冷劑的流動方向彎曲的彎曲流路連接。加熱體與筆直流路熱接觸。因此，為了促進(jìn)制冷劑的湍流，多個波紋狀翅片分別在制冷劑的流動方向和流路的寬度方向上以預(yù)定間隔設(shè)置在筆直流路中。另外，為了平滑地引導(dǎo)制冷劑，彎曲的翅片在流路的寬度方向上以預(yù)定間隔設(shè)置在彎曲流路中。

在jp特開2015-154699號公報中，加熱體與彎曲成u形的彎曲流路熱接觸。因此，為了平滑地引導(dǎo)制冷劑，多個弓形肋(突起部)分別在制冷劑的流動方向和流路的寬度方向上以預(yù)定間隔設(shè)置在彎曲流路中。肋也充當(dāng)輻射翅片。

另外，為了平滑地引導(dǎo)諸如用于空氣調(diào)節(jié)的其它流路中的流體，用于在曲率半徑方向上分割彎曲流路的技術(shù)被公開在jp特開平7-269524號公報和jp特開2009-248866號公報中。

在jp特開平7-269524中，多個弓形引導(dǎo)葉片在彎曲流路的曲率半徑方向上以預(yù)定間隔設(shè)置。因此，為了致使流過由引導(dǎo)葉片分割的各分割路徑的流體流速均勻，每個分割路徑的彎曲形狀類似。

在jp特開2009-248866號公報中，為了降低空氣流過彎曲流路時的噪聲，橫截面為月牙形狀的通道分割壁部設(shè)置在彎曲流路中，從而在曲率半徑方向上將彎曲流路分為兩個。因此，由通道分割壁部分割的兩個分割路徑的橫截面面積基本上彼此相等。另外，與兩個分割路徑的通道分割壁部垂直的橫截面面積的總和同分別與彎曲流路的上游側(cè)和下游側(cè)連接的筆直流路的橫截面面積彼此相等。

圖7和圖8是示出現(xiàn)有技術(shù)的冷卻器70和80的彎曲流路73和83的視圖。例如，彎曲流路73和83中的每者均布置在包括加熱體的裝置的殼體(未示出)內(nèi)。彎曲流路73和83中的每者均設(shè)置有用于在曲率半徑方向ri1至ri8和ro1至ro8上分割彎曲流路73和83中的每者的多個分割翅片76和86。分割翅片76和86中的每者在曲率半徑方向ri1至ri8和ro1至ro8上的厚度是恒定的。

在圖7的實(shí)例中，由分割翅片分割的各分割路徑73a、73b、73c、73d、73e、73f、73g和73h的各寬度w1至w8均沿著分割翅片76是恒定的。因此，流過各分割路徑73a至73h的制冷劑的流速不降低，另外制冷劑的冷卻性能也不降低。

而在圖7的情況下，朝著彎曲流路73的外側(cè)，各分割路徑73a至73h的內(nèi)曲率半徑ri1、ri2、ri3、ri4、ri5、ri6、ri7和ri8以及外曲率半徑ro1、ro2、ro3、ro4、ro5、ro6、ro7和ro8增加(ri1<ri2<ri3<ri4<ri5<ri6<ri7<ri8，并且ro1<ro2<ro3<ro4<ro5<ro6<ro7<ro8)。因此，因?yàn)閺澢髀?3的外曲率半徑ro9增加(ro8<ro9)并且制冷劑不會從圖7中的彎曲流路73流向右下區(qū)域，所以能夠由流過彎曲流路73的制冷劑冷卻的有效冷卻區(qū)域zb變窄。由此，彎曲流路73與安裝在殼體上的加熱體之間的熱接觸面積減少。因此，擔(dān)心由加熱體產(chǎn)生的熱不能被制冷劑有效地冷卻。另外，彎曲流路73不能布置在狹窄部(諸如殼體的中央部)中，并且擔(dān)心由安裝在狹窄部上的加熱體產(chǎn)生的熱不能被制冷劑冷卻。

在圖8的實(shí)例中，由分割翅片86分割的各分割路徑83a、83b、83c、83d、83e、83f、83g和83h的內(nèi)曲率半徑ri1’、ri2’、ri3’、ri4’、ri5’、ri6’、ri7’和ri8’基本上彼此相等另外，各分割路徑83a至83h的外曲率半徑ro1’、ro2’、ro3’、ro4’、ro5’、ro6’、ro7’和ro8’也基本上彼此相等因此，彎曲流路83的外曲率半徑ro9’小于圖7的彎曲流路73的外曲率半徑ro9(ro9>ro9’)，并且能夠被流過彎曲流路83的制冷劑冷卻的有效冷卻區(qū)域zc變寬(zb<zc)。

而在圖8的情況下，各分割路徑83a至83h的寬度w1’至w8’沿著分割翅片86是變化的。因此，制冷劑的流速在各分割路徑83a至83h的寬度w1’至w8’的加寬部處降低。因此，制冷劑的冷卻性能也降低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的目的是提供一種能夠通過在不降低彎曲流路中的制冷劑流速的情況下減小彎曲流路的外曲率半徑來加寬冷卻區(qū)域而提高冷卻性能的冷卻器。本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的另一目的是提供一種在不降低彎曲流路中的流體流速的情況下減小彎曲流路的外曲率半徑的流路單元。

一種根據(jù)本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的冷卻器包括：彎曲流路，所述彎曲流路與加熱體熱接觸，使從上游流入的制冷劑的流動方向彎曲，并且致使所述制冷劑向下游流出；以及分割翅片，所述分割翅片在曲率半徑方向上將所述彎曲流路分割為兩個以上分割路徑。所述制冷劑流過所述彎曲流路的各分割路徑，并且由所述加熱體產(chǎn)生的熱被輻射。因此，各分割路徑在所述彎曲流路的所述曲率半徑方向上的寬度沿著所述分割翅片是恒定的。所述分割路徑的內(nèi)曲率半徑基本上彼此相等，并且所述分割路徑的外曲率半徑基本上彼此相等。另外，在所述彎曲流路的中央部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度厚于在所述彎曲流路的上游部和下游部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度。

根據(jù)所述冷卻器，在所述彎曲流路中，由所述分割翅片分割的各分割路徑在所述曲率半徑方向上的寬度沿著所述分割翅片是恒定的。因此，可以抑制流過各分割路徑的所述制冷劑的流速降低。因此，所述制冷劑平滑地流過所述彎曲流路的各分割路徑，由與所述彎曲流路熱接觸的所述加熱體產(chǎn)生的熱能被所述制冷劑高效地輻射，并且提高了冷卻性能。

另外，所述分割路徑的所述內(nèi)曲率半徑基本上彼此相等，并且所述外曲率半徑也基本上彼此相等。在所述中央部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度厚于在所述上游部或所述下游部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度。因此，所述彎曲流路的外曲率半徑能與最內(nèi)分割路徑的外曲率半徑同樣小。因此，所述彎曲流路的整個寬度擴(kuò)大，并且能夠由流過所述彎曲流路的所述制冷劑冷卻的有效冷卻區(qū)域能變寬。結(jié)果，所述彎曲流路與所述加熱體之間的熱接觸面積增加，由所述加熱體產(chǎn)生的熱能被所述制冷劑高效地輻射，并且提高了冷卻性能。另外，所述彎曲流路布置在狹窄空間中，并且由安裝在所述狹窄空間上的所述加熱體產(chǎn)生的熱能被所述制冷劑輻射。

在本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式中，在所述冷卻器中，各分割路徑的與所述制冷劑的所述流動方向垂直的橫截面面積可沿著所述分割翅片是恒定的。

另外，在本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式中，在所述冷卻器中，所述分割翅片的與所述彎曲流路的所述曲率半徑方向和所述制冷劑的所述流動方向平行的橫截面形狀可以為所述彎曲流路的內(nèi)側(cè)虧缺的月牙形狀。

另外，在本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式中，在所述冷卻器中，所述分割路徑的與所述分割翅片垂直的寬度可基本上彼此相等，或者所述分割路徑的與所述制冷劑的所述流動方向垂直的所述橫截面面積可基本上彼此相等。

另外，在本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式中，所述冷卻器可進(jìn)一步包括：上游側(cè)筆直流路，所述上游側(cè)筆直流路連接到所述彎曲流路的上游側(cè)并且致使所述制冷劑筆直地流動；以及下游側(cè)筆直流路，所述下游側(cè)筆直流路連接到所述彎曲流路的下游側(cè)并且致使所述制冷劑筆直地流動。所述分割翅片可與所述制冷劑的所述流動方向平行地設(shè)置在所述上游側(cè)筆直流路、所述彎曲流路和所述下游側(cè)筆直流路上。

另外，在本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式中，在所述冷卻器中，所述彎曲流路的與所述制冷劑的所述流動方向垂直的橫截面形狀可以為矩形。所述分割翅片可被設(shè)置成在所述彎曲流路中具有柱狀形狀并且可將由所述加熱體產(chǎn)生的熱傳遞到所述制冷劑。

另外，一種根據(jù)本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的流路單元包括：彎曲流路，所述彎曲流路使從上游流入的流體的流動方向彎曲并且致使所述流體向下游流出；以及分割翅片，所述分割翅片在曲率半徑方向上將所述彎曲流路分割為兩個以上分割路徑。所述流體流過所述彎曲流路的各分割路徑。各分割路徑在所述彎曲流路的所述曲率半徑方向上的寬度沿著所述分割翅片是恒定的。所述分割路徑的內(nèi)曲率半徑基本上彼此相等，并且所述分割路徑的外曲率半徑基本上彼此相等。另外，在所述彎曲流路的中央部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度厚于在所述彎曲流路的上游部和下游部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度。

根據(jù)所述流路單元，在所述彎曲流路中，由所述分割翅片分割的各分割路徑在所述曲率半徑方向上的寬度沿著所述分割翅片是恒定的。因此，可以抑制流過每個分割路徑的所述流體的流速降低。另外，所述分割路徑的所述內(nèi)曲率半徑基本上彼此相等，并且所述外曲率半徑也基本上彼此相等。在所述中央部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度厚于在所述上游部或所述下游部中所述分割翅片在所述曲率半徑方向上的厚度。因此，所述彎曲流路的外曲率半徑能與最內(nèi)分割路徑的外曲率半徑同樣小。

根據(jù)本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的冷卻器，能在不降低所述彎曲流路中的所述制冷劑的流速的情況下通過減少所述彎曲流路的外曲率半徑來加寬冷卻區(qū)域而提高冷卻性能。根據(jù)本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的所述流路單元，能在不降低所述彎曲流路中的所述流體的流速的情況下減小所述彎曲流路的外曲率半徑。

附圖說明

圖1a至圖1c是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施方式的冷卻器的視圖。

圖2是示出圖1a至圖1c的冷卻器的使用例的視圖。

圖3是示出圖1a至圖1c的冷卻器的使用例的視圖。

圖4是圖1a至圖1c的冷卻器的彎曲流路的放大視圖。

圖5a和圖5b是分別沿著圖4的va-va橫截面和vb-vb橫截面截取的橫截面視圖。

圖6a和圖6b是示出圖1a至圖1c的冷卻器的模擬例的圖示。

圖7是示出現(xiàn)有技術(shù)的冷卻器的彎曲流路的視圖。

圖8是示出現(xiàn)有技術(shù)的冷卻器的彎曲流路的視圖。

具體實(shí)施方式

在本發(fā)明的實(shí)施方式中，闡述了許多具體細(xì)節(jié)以便提供對本發(fā)明的透徹理解。然而，將對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員顯而易見的是，本發(fā)明可在沒有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實(shí)踐。在其它情況下，沒有詳細(xì)地描述公知的特征以避免模糊本發(fā)明。

下文中，將參照附圖描述本發(fā)明的實(shí)施方式。在每幅圖中，相同的部分或?qū)?yīng)的部分被賦予相同的附圖標(biāo)記。

圖1a至圖1c是示出根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施方式的冷卻器10的視圖。在圖1a至圖1c中，圖1a示出了從上方觀察的冷卻器10，圖1b示出了從圖1a的箭頭y1觀察的冷卻器10的視圖，而圖1c示出了從圖1a的箭頭y2觀察的冷卻器10的視圖。

冷卻器10包括例如由具有高導(dǎo)熱性的金屬(諸如鋁)形成的管11。管11設(shè)置有使作為流體的制冷劑從中流過的流路。例如，使用冷卻水作為制冷劑。冷卻器10是本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式的“流路單元”的實(shí)例。

管11包括：窄流路1和5，其具有與制冷劑的流動方向f垂直的窄橫截面面積；以及寬流路2、3和4，其具有與制冷劑的流動方向f垂直的寬橫截面面積。

在窄流路1和5之中，一個窄流路1構(gòu)成制冷劑的流動入口，而另一個窄流路5構(gòu)成制冷劑的流動出口。窄流路1和5的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面形狀為圓形(圖1b)。

如圖1a所示，寬流路2、3和4設(shè)置在窄流路1與窄流路5之間。具體而言，寬流路2的上游端連接到窄流路1的下游端。另外，寬流路3的上游端連接到寬流路2的下游端，并且寬流路4的上游端連接到寬流路3的下游端。此外，窄流路5的上游端連接到寬流路4的下游端。相鄰流路1至5的中心線l重合。

在寬流路2、3和4之中，流路3是將制冷劑的流動方向f彎曲大致90°的彎曲流路。流路2和4是使制冷劑從中筆直流過的筆直流路。即，上游側(cè)筆直流路2和下游側(cè)筆直流路4連接到彎曲流路3的上游側(cè)和下游側(cè)。

圖2和圖3是示出冷卻器10的實(shí)例的視圖。如圖2和圖3所示，冷卻器10布置在包括加熱體50的電子裝置的殼體40內(nèi)。殼體40形成為箱形。

在圖2的實(shí)例中，冷卻器10布置在殼體40內(nèi)使得流路2至4布置在殼體40的中央部中。在圖3的實(shí)例中，冷卻器10布置在殼體40內(nèi)使得流路2至4沿著殼體40的角部41布置。為了致使制冷劑相對于冷卻器10流入和流出，窄流路1的上游部和窄流路5的下游部從殼體40突出。

加熱體50安裝到殼體40上的面對彎曲流路3的位置。因此，加熱體50與構(gòu)成彎曲流路3的管11的外側(cè)部分熱接觸。加熱體50由例如由于電流的流動而發(fā)熱的電子部件構(gòu)成。

制冷劑從供應(yīng)源(未示出)流入冷卻器10的窄流路1，并且制冷劑從窄流路5經(jīng)流路2至4流向供應(yīng)目的地。如上所述，制冷劑流過流路1至5，從而由加熱體50產(chǎn)生的熱被輻射，加熱體50被冷卻。

圖4是冷卻器10的彎曲流路3的放大視圖。具體而言，圖4示出了從上方觀察的彎曲流路3的內(nèi)側(cè)的狀態(tài)。圖5a和圖5b是分別沿著圖4的va-va橫截面和vb-vb橫截面截取的橫截面視圖。va-va橫截面和vb-vb橫截面垂直于制冷劑的流動方向f。

如圖4所示，在曲率半徑方向ria至rih和roa至roh上將彎曲流路3分割為兩個以上的分割翅片6設(shè)置在彎曲流路3中。具體而言，多個(七個)分割翅片6在曲率半徑方向ria至rih和roa至roh上以預(yù)定間隔設(shè)置。

如圖5a和圖5b所示，彎曲流路3的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面形狀為矩形。每個分割翅片6均以柱狀形狀設(shè)置在彎曲流路3中以連接到彎曲流路3的頂表面和底表面。

如圖1a至圖1c所示，每個分割翅片6均與制冷劑的流動方向f平行地設(shè)置在上游側(cè)筆直流路2的下游部、彎曲流路3和下游側(cè)筆直流路4的上游部上。因此，由分割翅片6分割的各分割路徑3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g和3h形成在上游側(cè)筆直流路2的下游部、彎曲流路3和下游側(cè)筆直流路4的上游部上。

另外在筆直流路2和4中，每個分割翅片6均設(shè)置為柱狀形狀以連接到流路2和4的頂表面和底表面(圖1b)。類似于彎曲流路3，筆直流路2和4的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面形狀為矩形(圖1b)。各分割路徑3a至3h的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面形狀也為矩形(圖5a和圖5b)。

制冷劑流過各分割路徑3a至3h，從而與彎曲流路3熱接觸的加熱體50產(chǎn)生的熱被輻射。在這種情況下，每個分割翅片6還充當(dāng)輻射翅片。即，每個分割翅片6均由金屬(諸如鋁)制成，由加熱體50產(chǎn)生的熱被傳遞到流過各分割路徑3a至3h的制冷劑，并且熱被輻射。

如圖4所示，在彎曲流路3中，每個分割翅片6的與曲率半徑方向ria至rih和roa至roh以及制冷劑的流動方向f平行的橫截面形狀為彎曲流路3的內(nèi)側(cè)虧缺的月牙形狀。即，從彎曲流路3的上游部和下游部起朝著中央部，分割翅片6的與曲率半徑方向ria至rih和roa至roh平行的厚度變厚。從上游側(cè)筆直流路2的下游部起在彎曲流路3的上游部中以及從彎曲流路3的下游部起在下游側(cè)筆直流路4的上游部中的分割翅片6的厚度薄于彎曲流路3的中央部的厚度，且恒定。

如上所述，形成了分割翅片6，從而各分割路徑3a至3h在彎曲流路3的曲率半徑方向上的寬度wa至wh沿著分割翅片6是恒定的。另外，各分割路徑3a至3h的內(nèi)曲率半徑ria至rih基本上彼此相等另外，各分割路徑3a至3h的外曲率半徑roa至roh基本上彼此相等

具體而言，在圖4的實(shí)例中，分割路徑3b至3g(除了彎曲流路3的最內(nèi)側(cè)的分割路徑3a和最外側(cè)的分割路徑3h)的內(nèi)曲率半徑rib至rig彼此相等(rib＝ric＝rid＝rie＝rif＝rig)。分割路徑3a的內(nèi)曲率半徑ria、分割路徑3h的內(nèi)曲率半徑rih和分割路徑3b至3g的內(nèi)曲率半徑rib至rig彼此不相等，但基本上彼此相等(至rig)。另外，分割路徑3a至3g(除了彎曲流路3的最外側(cè)的分割路徑3h)的外曲率半徑roa至rog彼此相等(roa＝rob＝roc＝rod＝roe＝rof＝rog)。分割路徑3h的外曲率半徑roh和分割路徑3a至3g的外曲率半徑roa至rog彼此不相等，但基本上彼此相等(至rog)。

在各分割路徑3a至3h中，內(nèi)曲率半徑ria至rih小于外曲率半徑roa至roh(ria<roa，rib<rob，ric<roc，rid<rod，rie<roe，rif<rof，rig<rog，并且rih<roh)。在相鄰兩個分割路徑之中，外側(cè)的分割路徑的內(nèi)曲率半徑小于內(nèi)側(cè)的分割路徑的外曲率半徑(rib<roa，ric<rob，rid<roc，rie<rod，rif<roe，rig<rof，并且rih<rog)。因此，每個分割翅片6的與曲率半徑方向ria至rih和roa至roh以及制冷劑的流動方向f平行的橫截面形狀為彎曲流路3的內(nèi)側(cè)虧缺的月牙形狀。

各分割路徑3a至3h的與寬度wa至wh垂直的高度ha至hh(圖5a和圖5b)沿著分割翅片6是恒定的。因此，各分割路徑3a至3h的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面面積sa至sh(圖5a和圖5b)沿著分割翅片6也是恒定的。

另外，各分割路徑3a至3h的寬度wa至wh基本上彼此相等各分割路徑3a至3h的高度ha至hh也基本上彼此相等因此，各分割路徑3a至3h的橫截面面積sa至sh也基本上彼此相等

具體而言，在圖4以及圖5a和圖5b的實(shí)例中，各分割路徑3a至3h的高度ha至hh彼此相等(ha＝hb＝hc＝hd＝he＝hf＝hg＝hh)。因此，彎曲流路3的最內(nèi)側(cè)和最外側(cè)的分割路徑3a和3h的寬度wa和wh以及橫截面面積sa和sh彼此相等(wa＝wh并且sa＝sh)，并且其它分割路徑3b至3g的寬度wb至wg以及橫截面面積sb至sg彼此相等(wb＝wc＝wd＝we＝wf＝wg，并且sb＝sc＝sd＝se＝sf＝sg)。分割路徑3b至3g的寬度wb至wg以及橫截面面積sb至sg相對于分割路徑3a和3h的寬度wa和wh以及橫截面面積sa和sh彼此不相等，但基本上彼此相等(至wg，并且至sg)。

如上所述，各分割路徑3a至3h的寬度wa至wh、曲率半徑ria至rih和roa至roh、高度ha至hh以及橫截面面積sa至sh恒定或基本上彼此相等不僅包括作為對象的多個數(shù)值彼此相等(＝)，而且多個數(shù)值之差基本上等于或小于預(yù)定值。這也適用于下述制冷劑的流速恒定或基本上彼此相等的情況。

圖6a和圖6b是示出冷卻器10的模擬例的圖示。具體而言，如圖1a中的箭頭f指出的，在制冷劑(冷卻水)從冷卻器10的窄流路1流入并且制冷劑從窄流路5經(jīng)寬流路2至4流出的情況下，圖6a示出了制冷劑在圖4的橫截面面積va-va的流速分布，并且圖6b示出了制冷劑在圖4的橫截面面積vb-vb的流速分布。

如上所述，作為制冷劑的流動入口的窄流路1的橫截面面積窄于寬流路2和3的橫截面面積，并且流路1、2和3的中心線重合(圖1a)。因此，如圖6a和圖6b所示，制冷劑在位于中央的分割路徑3c、3d、3e和3f中的流速大于位于彎曲流路3的兩端側(cè)上的分割路徑3a、3b、3g和3h中的流速。

然而，各分割路徑3a至3h的寬度wa至wh以及橫截面面積sa至sh沿著分割翅片6是恒定的。因此，流過圖4的va-va橫截面的各分割路徑3a至3h的制冷劑的流速(圖6a)與流過圖4的vb-vb橫截面的各分割路徑3a至3h的制冷劑的流速(圖6b)基本上彼此相等。即，流過彎曲流路3中的各分割路徑3a至3h的制冷劑的流速沿著分割翅片6基本上保持恒定。

根據(jù)上述實(shí)施方式，在冷卻器10的彎曲流路3以及筆直流路2和4中，由分割翅片6分割的各分割路徑3a至3h的寬度wa至wh沿著分割翅片6是恒定的。因此，可以抑制流過各分割路徑3a至3h的制冷劑的流速降低。結(jié)果，制冷劑平滑地流過各分割路徑3a至3h，由與彎曲流路3熱接觸的加熱體50產(chǎn)生的熱能被制冷劑高效地輻射，并且提高了冷卻性能。

另外，各分割路徑3a至3h的內(nèi)曲率半徑ria至rih基本上彼此相等，外曲率半徑roa至roh也基本上彼此相等，并且位于中央部中的分割翅片6的曲率半徑ria至rih和roa至roh的厚度厚于位于上游部或下游部中的分割翅片6的曲率半徑。因此，彎曲流路3的外曲率半徑rox(圖4)能與最內(nèi)側(cè)的分割路徑3a的外曲率半徑roa同樣小因此，彎曲流路3的與分割翅片6垂直的整個寬度wx(圖5b)寬于各分割路徑3a至3h的寬度wa至wh與彎曲流路3的兩側(cè)壁3k(圖4)的厚度的總和的值。能夠被流過彎曲流路3的制冷劑冷卻的有效冷卻區(qū)域za(圖4)能寬于圖7所示的現(xiàn)有技術(shù)的彎曲流路73的有效冷卻區(qū)域zb。結(jié)果，例如，彎曲流路3與加熱體50之間的熱接觸面積增加，由加熱體50產(chǎn)生的熱能被制冷劑高效地輻射，并且提高了冷卻性能。

另外，彎曲流路3的外曲率半徑rox能抑制得與最內(nèi)側(cè)的分割路徑3a的外曲率半徑roa同樣小。因此，可以容易地沿著殼體40的狹窄部諸如角部41(圖3)來布置彎曲流路3。因此，由安裝在狹窄部上的加熱體50產(chǎn)生的熱被流過彎曲流路3的制冷劑高效地輻射并且可以提高冷卻性能。另外，殼體40的不能被彎曲流路3冷卻的死區(qū)減少，并且彎曲流路3的有效冷卻區(qū)域za變寬。因此，可以容易地將加熱體50或其它部件布置在殼體40上。即，可以增加加熱體50或其它部件在殼體40上的布置自由度。

另外，在上述實(shí)施方式中，各分割路徑3a至3h的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面面積sa至sh沿著分割翅片6是恒定的。因此，能在角部中進(jìn)一步抑制流過各分割路徑3a至3h的制冷劑的流速降低。

另外，在如圖4所示的上述實(shí)施方式中，分割翅片6的與彎曲流路3的曲率半徑方向ria至rih和roa至roh以及制冷劑的流動方向f平行的橫截面形狀為月牙形狀。因此，可以可靠地實(shí)現(xiàn)：各分割路徑3a至3h的內(nèi)曲率半徑ria至rih基本上彼此相等，并且外曲率半徑roa至roh基本上彼此相等，同時各分割路徑3a至3h的寬度wa至wh沿著分割翅片6是恒定的。另外，因?yàn)榉指畛崞?由具有高導(dǎo)熱性的金屬形成，分割翅片6的橫截面為月牙形狀的部分將來自加熱體的熱高效地傳遞到制冷劑并且能冷卻加熱體。

另外，在上述實(shí)施方式中，因?yàn)楦鞣指盥窂?a至3h的寬度wa至wh基本上彼此相等，各分割路徑3a至3h的橫截面面積sa至sh也基本上彼此相等。因此，流過各分割路徑3a至3h的制冷劑的流率和流速差能抑制得較小。另外，可以避免分割翅片6的形狀復(fù)雜化。

另外，在上述實(shí)施方式中，分割翅片6與制冷劑的流動方向f平行地設(shè)置在上游側(cè)筆直流路2、彎曲流路3和下游側(cè)筆直流路4上。因此，分割路徑3a至3h形成在流路2至4上，并且分割路徑3a至3h的寬度wa至wh、橫截面面積sa至sh以及制冷劑的流速在流路2至4上能是恒定的。

此外，在上述實(shí)施方式中，彎曲流路3的橫截面形狀為矩形，并且分割翅片6以柱狀形狀設(shè)置在彎曲流路3中。因此，各分割路徑3a至3h的與制冷劑的流動方向f垂直的橫截面形狀也為矩形并且可以容易地形成分割翅片6。另外，流過各分割路徑3a至3h的制冷劑的流率和流速差能抑制得較小。此外，因?yàn)榉指畛崞?充當(dāng)輻射翅片，所以由加熱體50產(chǎn)生的熱容易地經(jīng)分割翅片6傳遞到流過各分割路徑3a至3h的制冷劑并且可以進(jìn)一步提高冷卻性能。

本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式能采用除了以上實(shí)施方式的各種實(shí)施方式。例如，在如圖4等所示的上述實(shí)施方式中，示出了將分割翅片6設(shè)置在彎曲成大致90°的彎曲流路3中的實(shí)例，但本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式不僅限于該實(shí)例。另外，一個或兩個以上分割翅片設(shè)置在彎曲成除了90°以外的角度(銳角或鈍角)的彎曲流路中，并且彎曲流路可分割為兩個以上。

另外，在上述實(shí)施方式中，示出了將分割翅片6設(shè)置在上游側(cè)筆直流路2、彎曲流路3和下游側(cè)筆直流路4上的實(shí)例，但本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式不僅限于該實(shí)例。另外，分割翅片僅設(shè)置在彎曲流路中，或者分割翅片可設(shè)置在彎曲流路和筆直流路(與其上游側(cè)和下游側(cè)連續(xù))中。

另外，在上述實(shí)施方式中，示出了將分割翅片6以柱狀形狀設(shè)置在彎曲流路3等中的實(shí)例，但本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式不僅限于該實(shí)例。另外，例如，凸臺形分割翅片可設(shè)置成僅連接到彎曲流路的底表面。

另外，在上述實(shí)施方式中，示出了彎曲流路3的橫截面形狀為矩形的實(shí)例，但本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式不僅限于該實(shí)例。另外，例如，彎曲流路的橫截面形狀可以是圓形形狀、橢圓形形狀或另一形狀。

此外，在上述實(shí)施方式中，示出了本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式應(yīng)用于布置在電子裝置的殼體40內(nèi)并冷卻安裝在殼體40上的加熱體50的冷卻器10的實(shí)例，但例如，本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式還能應(yīng)用于安裝在框架或底盤上并冷卻安裝在基板等上的加熱體的冷卻器。此外，本發(fā)明的一個或多個實(shí)施方式能應(yīng)用于用于除冷卻之外的應(yīng)用的包括彎曲流路的流路單元。

雖然已經(jīng)相對于有限數(shù)目的實(shí)施方式描述了本發(fā)明，但是受益于本公開的本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識到，能在不背離如本文中公開的本發(fā)明的范圍的情況下設(shè)計出其它實(shí)施方式。因此，本發(fā)明的范圍應(yīng)該僅由所附權(quán)利要求書來限制。

相關(guān)申請的交叉援引

本申請基于2016年2月16日提交的日本專利申請no.2016-026761并要求其優(yōu)先權(quán)，該專利申請的全部內(nèi)容通過援引并入本文。