亚洲狠狠干,亚洲国产福利精品一区二区,国产八区,激情文学亚洲色图

一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝的制作方法

文檔序號(hào):4610208閱讀:340來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于冶金法提純金屬的技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種電子束熔煉用水冷銅坩堝。
背景技術(shù)
目前,電子束熔煉金屬除雜是冶金法提純金屬的重要方法之一,其高的能量密度, 高的熔煉溫度和局部過(guò)熱可以有效去除金屬中的揮發(fā)性雜質(zhì),電子束熔煉過(guò)程中,一般使用圓弧形的水冷銅坩堝作為熔煉的容器,金屬熔化后液體盛裝于圓弧形水冷銅坩堝內(nèi)。但是,目前使用的圓弧形水冷銅坩堝在熔煉時(shí)形成的熔池表面積相對(duì)較小,而深度相對(duì)較大,這種形狀將不利于雜質(zhì)在金屬熔體表面的揮發(fā)去除,而且這種坩堝體積不易過(guò)大,一般只能熔煉較少質(zhì)量的金屬料,而無(wú)法熔煉較多質(zhì)量的金屬料,這種形狀的坩堝如果體積較大,則其生產(chǎn)成本也相對(duì)較高。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是克服上述不足問(wèn)題,提供一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,實(shí)用性較強(qiáng),可實(shí)現(xiàn)少量金屬料和較大量金屬料的熔煉。本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其由上盤(pán)和底盤(pán)固定連接而成,上盤(pán)帶有內(nèi)凹式平板熔腔,平板熔腔外邊緣形成上盤(pán)的側(cè)板,平板熔腔底板一側(cè)內(nèi)凹開(kāi)設(shè)有弧形熔腔,底盤(pán)內(nèi)部安裝有冷卻水水流通道。所述弧形熔腔采用球冠體形狀的弧形熔腔;弧形熔腔的直徑小于平板熔腔長(zhǎng)度的一半。所述上盤(pán)的側(cè)板與平板熔腔底板的夾角為120-150°。所述冷卻水水流通道由對(duì)稱的兩條水流通道構(gòu)成,兩條水流通道進(jìn)水口在相同一側(cè),而出水口均在另一側(cè)。所述對(duì)稱的兩條水流通道分別設(shè)置呈Z字形狀,且在水流通道拐彎處設(shè)置為圓弧形狀。所述冷卻水水流通道邊緣安裝有橡膠密封圈。所述坩鍋上盤(pán)與底盤(pán)通過(guò)緊固螺絲固定連接,緊固螺絲安裝于底盤(pán)邊緣位置,緊固螺絲個(gè)數(shù)優(yōu)選12-18個(gè)。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,構(gòu)思獨(dú)特,特別設(shè)計(jì)的平板熔腔與小弧形熔腔可分別進(jìn)行少量金屬料的熔煉和大量金屬塊或錠的熔煉,平板熔腔較大的表面積有利于雜質(zhì)的揮發(fā)去除,設(shè)計(jì)坩堝上盤(pán)側(cè)板與平板熔腔底部的夾角為120-150°,有利于熔煉后金屬錠的取出, 橡膠密封圈以及緊固螺絲的作用可防止冷卻水的外漏。綜上,本實(shí)用新型可實(shí)現(xiàn)電子束熔煉過(guò)程中對(duì)少量金屬料和大量金屬塊或錠的熔煉,并可提供較大的熔池表面積,有利于揮發(fā)性雜質(zhì)的去除,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、功能實(shí)用,安全性好,成本較低的優(yōu)點(diǎn)。
圖1為一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝正面結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖。圖2為附圖1中坩堝底盤(pán)俯視結(jié)構(gòu)圖。圖中1.弧形熔腔,2.平板熔腔,3.上盤(pán)側(cè)板,4.上盤(pán)底板,5.緊固螺絲,6. 底盤(pán),7.出水口,8.橡膠密封圈,9.進(jìn)水口,10.水流通道。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型,但本實(shí)用新型并不局限于具體實(shí)施例。如圖1所示的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其由上盤(pán)和底盤(pán)6固定連接而成,上盤(pán)帶有內(nèi)凹式平板熔腔2,平板熔腔外邊緣形成上盤(pán)側(cè)板3,平板熔腔底面為上盤(pán)底板4,上盤(pán)側(cè)板與平板熔腔底板的夾角為 120-150°,上盤(pán)側(cè)板3做成與平板熔腔底板有一定的傾斜角,有利于熔煉后硅錠的順利取出,上盤(pán)底板一側(cè)內(nèi)凹開(kāi)設(shè)有弧形熔腔1,弧形熔腔采用球冠體形狀的弧形熔腔,弧形熔 腔位于平板熔腔的右側(cè)位置,其直徑小于平板熔腔長(zhǎng)度的一半,弧形熔腔可用于實(shí)驗(yàn)用熔煉少量的金屬料,如設(shè)計(jì)成熔煉硅料最多可熔煉lOOOg,平板熔腔可用于大量的金屬塊料或金屬錠的熔煉,如設(shè)計(jì)成熔煉硅料最多可熔煉6kg。底盤(pán)6內(nèi)部安裝有冷卻水水流通道10,冷卻水水流通道如圖2所示,由對(duì)稱的兩條水流通道構(gòu)成,兩條水流通道進(jìn)水口在相同一側(cè),而出水口均在另一側(cè)。所述對(duì)稱的兩條水流通道分別設(shè)置呈Z字形狀,保證冷卻能力足夠,進(jìn)水口 9水溫度為30°C,出水口 7水溫度小于50°C,且在水流通道拐彎處設(shè)置為圓弧形狀,可保證水流通暢,從而增加冷卻水的流速;冷卻水水流通道邊緣安裝有橡膠密封圈。其中坩鍋上盤(pán)底板與底盤(pán)通過(guò)緊固螺絲固定連接,緊固螺絲安裝于底盤(pán)邊緣位置,緊固螺絲個(gè)數(shù)優(yōu)選12-18個(gè)。橡膠密封圈8和緊固螺絲5的作用在于將冷卻水密封于坩堝底盤(pán)6和坩堝上盤(pán)底板4之間,以防止冷卻水的滲漏。
權(quán)利要求1.一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是其由上盤(pán)和底盤(pán)固定連接而成, 上盤(pán)帶有內(nèi)凹式平板熔腔,平板熔腔外邊緣形成上盤(pán)的側(cè)板,平板熔腔底板一側(cè)內(nèi)凹開(kāi)設(shè)有弧形熔腔,底盤(pán)內(nèi)部安裝有冷卻水水流通道。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是所述弧形熔腔采用球冠體形狀的弧形熔腔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是弧形熔腔的直徑小于平板熔腔長(zhǎng)度的一半。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是所述上盤(pán)側(cè)板與平板熔腔底板的夾角為120-150°。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是所述冷卻水水流通道由對(duì)稱的兩條水流通道構(gòu)成,兩條水流通道進(jìn)水口在相同一側(cè),而出水口均在另一側(cè)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是所述對(duì)稱的兩條水流通道分別設(shè)置呈Z字形狀,且在水流通道拐彎處設(shè)置為圓弧形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是所述冷卻水水流通道邊緣安裝有橡膠密封圈。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其特征是所述坩鍋上盤(pán)與底盤(pán)通過(guò)緊固螺絲固定連接,緊固螺絲安裝于底盤(pán)邊緣位置,緊固螺絲個(gè)數(shù)優(yōu)選 12-18 個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型屬于冶金法提純金屬的技術(shù)領(lǐng)域。一種電子束熔煉用多功能水冷銅坩堝,其由上盤(pán)和底盤(pán)固定連接而成,上盤(pán)帶有內(nèi)凹式平板熔腔,平板熔腔外邊緣形成上盤(pán)的側(cè)板,平板熔腔底板一側(cè)內(nèi)凹開(kāi)設(shè)有弧形熔腔,底盤(pán)內(nèi)部安裝有冷卻水水流通道。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,構(gòu)思獨(dú)特,特別設(shè)計(jì)的平板熔腔與小弧形熔腔可分別進(jìn)行少量金屬料的熔煉和大量金屬塊或錠的熔煉,平板熔腔較大的表面積有利于雜質(zhì)的揮發(fā)去除,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、功能實(shí)用,安全性好,成本較低的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)F27B14/10GK202066346SQ201120155480
公開(kāi)日2011年12月7日 申請(qǐng)日期2011年5月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年5月16日
發(fā)明者戰(zhàn)麗姝, 譚毅, 顧正 申請(qǐng)人:大連隆田科技有限公司
網(wǎng)友詢問(wèn)留言 已有0條留言
  • 還沒(méi)有人留言評(píng)論。精彩留言會(huì)獲得點(diǎn)贊!
1