專利名稱：歧管和噴嘴之間的熱密封的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及注射模制設備，特別涉及歧管和噴嘴之間的改進密封。
背景技術：
關于熱澆道注射模制系統的普遍問題是，可能在歧管和噴嘴之間出現熔融塑料泄漏。泄漏通常是由熱澆道注射模制系統在專用的操作窗外的操作導致的?，F有技術中具有許多不同的試圖阻止泄漏發(fā)生的噴嘴設計。
位于歧管和蓋板或者熱澆道板之間的一對間隔件，諸如在美國專利US 6,309,207、US 6,062,846和專利申請No.2001/0011415中披露的，在噴嘴主體熔體通道和歧管熔體通道之間施加接觸壓力以在它們之間實現密封。所述間隔件與抵靠歧管的第一間隔件和抵靠蓋板的第二間隔件串聯布置。第二間隔件相對于壓力具有不同于第一間隔件的響應特性。
WO 01/87570 A1披露了一種設置在噴嘴和歧管之間的非平面的密封界面。彈簧將噴嘴推靠在歧管上以產生峰值密封壓力出現在與噴嘴和歧管熔體通道相鄰的位置處的壓力分布。類似地，美國專利US5,896,640披露了一種抵靠噴嘴肩部的密封插件。該密封插件產生具有一定角度的密封作用力并且在噴嘴和歧管通道之間保持密封接觸。密封插件產生出現在與噴嘴和歧管熔體通道相鄰的位置處的峰值密封壓力。
本發(fā)明的一個目的在于，提供一種用于減少在歧管和噴嘴之間的泄漏的新穎的熱密封。

發(fā)明內容
根據本發(fā)明的一個方面，提供一種注射模制設備，所述注射模制設備包括具有歧管通道的歧管，所述歧管通道具有用于接納可模制材料的熔體流的入口和用于將熔體流輸送到噴嘴的噴嘴通道的出口；
設置在噴嘴和歧管之間的密封件，所述密封件包括用于從歧管通道的出口接納熔體流和將熔體流輸送到噴嘴通道的熔體通道；以及用于從噴嘴通道接納熔體流的模腔，所述噴嘴通道通過模型澆口與模腔連通；其中，密封件的熱膨脹系數高于噴嘴和歧管。
根據本發(fā)明的另一個方面，提供一種注射模制設備，所述注射模制設備包括具有用于在壓力下接納可模制材料的熔體流的歧管通道的歧管；設置在歧管中的歧管塞，所述歧管塞具有形成在其中的歧管塞通道，所述歧管塞通道具有用于從歧管通道接納熔體流的入口和用于將熔體流輸送到噴嘴的噴嘴通道的出口；以及用于從噴嘴通道接納熔體流的模腔，所述噴嘴通道通過模型澆口與模腔連通；其中，歧管塞的熱膨脹系數高于噴嘴和歧管。
根據本發(fā)明的另一個實施例，提供一種注射模制設備，所述注射模制設備包括具有歧管通道的歧管，所述歧管通道具有用于在壓力下接納可模制材料的熔體流的入口和出口；具有噴嘴主體和噴嘴頭的噴嘴，噴嘴頭處于與歧管的外表面相鄰的位置處，所述噴嘴具有用于從歧管通道的出口接納熔體流的噴嘴通道；以及用于從噴嘴通道接納熔體流的模腔，所述噴嘴通道通過模型澆口與模腔連通；其中，所述噴嘴頭的至少一部分的熱膨脹系數高于噴嘴主體和歧管。
本發(fā)明具有這樣的優(yōu)點，即，密封件在歧管和噴嘴之間提供連續(xù)密封熔體通道以使在它們之間的連接處的泄漏達到最小。


現將參照附圖對本發(fā)明的實施例進行詳細的描述，在附圖中圖1是本發(fā)明的注射模制設備的第一實施例的側截面圖；
圖2是本發(fā)明的另一個實施例的注射模制設備的一些部分的側截面圖；圖3是圖2中的注射模制設備在操作狀態(tài)下的側截面圖；圖4是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的一些部分的側截面圖；圖5是圖4中的注射模制設備在操作狀態(tài)下的側截面圖；圖6是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的一些部分的側截面圖；圖7是圖6中的注射模制設備在操作狀態(tài)下的側截面圖；圖8是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的側截面圖；圖9是圖8中的注射模制設備在操作狀態(tài)下的側截面圖；圖10是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的側截面圖；圖11是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的側截面圖；圖12是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的側截面圖；圖13是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的側截面圖；圖14是本發(fā)明的注射模制設備的另一個實施例的側截面圖；圖15是圖14中的注射模制設備的密封插件的側視圖；以及圖16是沿著圖15上的線A所得到的橫截面圖。
具體實施例方式
現參見圖1，注射模制設備用附圖標記10表示。該注射模制設備包括歧管12，歧管12具有貫穿其的歧管通道14。位于歧管通道14的入口處的歧管襯套16從機器噴嘴(未示出)接納可模制材料的熔體流。熔體流流過歧管通道14并且被輸送到出口18，如箭頭17所示。歧管加熱器15設置在歧管12中以使熔體流處于所需的溫度下。
噴嘴20位于歧管12和相應的模腔30之間，模腔30形成在模腔板35中。每一個噴嘴20包括用于從相應的歧管出口18接納熔體流并且將熔體流輸送到相應的模腔30中的噴嘴通道22。模型澆口31設置在模腔30的入口處，與噴嘴20的尖端相鄰。每一個噴嘴20包括被閥活塞23驅動的閥銷21。閥銷21可選擇性地移動以打開和關閉各個模型澆口31。每一個噴嘴20還設有加熱器40，加熱器40有助于使通過噴嘴20的熔體流保持在所需溫度下。冷卻通道33設置在模腔30附近以有助于其冷卻。
圖1的注射模制設備10還包括位于噴嘴20和歧管12之間的密封件或者密封插件44。下面將參照圖2至圖7對于密封插件進行詳細描述。在下面每一個注射模制設備的實施例中，相同的附圖標記表示相同的部件。
參見圖2，其中示出了注射模制設備的另一個實施例。在該實施例中，歧管板36抵靠模腔板35a。
噴嘴肩部32被設置在噴嘴20a的上端處。噴嘴肩部32包括上表面26，上表面26抵靠歧管12a的出口表面28。噴嘴肩部32包括由歧管板36支撐的方向朝下的間隔凸緣34。
背板50處于與歧管12a相鄰的位置并且偏移間隙51。彈簧52設置在背板50和歧管12a之間。彈簧52或者可是一個剛性的間隔件。彈簧52吸收由于熱膨脹而導致的歧管12a的移動，當歧管12a和噴嘴20a加熱到操作溫度范圍時會出現熱膨脹。
噴嘴20a還包括形成在上表面26或者噴嘴20a的歧管接觸表面上的凹槽41。凹槽41的深度是由肩部46限定的。密封插件44a嵌套在凹槽41中，密封插件44a通常是一個具有孔47的套。熔體流從歧管出口18a流過孔47并且流入到噴嘴通道22a中。密封插件44a具有長度60和壁厚62。壁厚62通常在2至3毫米的范圍內。密封插件44a和歧管12a是這樣布置的，即，使由48表示的冷時間隙設置在密封插件44a和歧管12a之間。
密封插件44a的導熱性高于歧管12a和噴嘴20a，噴嘴20a通常是由諸如H13或者P20鋼的工具鋼制成。密封插件44a可由銅、鈹銅、黃銅、碳化物或者一些鋼制成?；蛘?，可使用導熱性高于歧管12a和噴嘴20a的任何適合的材料。
圖2示出了處于冷或者非操作狀態(tài)下的注射模制設備10a，其中設備10a在操作溫度以下。該狀態(tài)出現在注射模制設備10a操作之前。參見圖3，其中示出了處于操作狀態(tài)下的注射模制設備10a，其中注射模制設備10a的溫度在操作溫度范圍內。如圖中所示，密封插件44a延長以消除冷時間隙48并且如箭頭54所示將密封作用力施加在歧管12a的外表面28上。
在操作中，注射模制設備10a在圖2中所示的冷狀態(tài)下起動，其中所有部件處于基本相同的環(huán)境溫度下。在操作過程中，具有歧管通道14a的歧管12a和具有噴嘴通道22a的噴嘴20a被加熱接著被保持在它們相應的溫度下以使熔體流可無阻地流入激冷的熔體腔30a中。噴嘴20a和歧管12a處于操作溫度范圍內的同時必須保持相互緊密對準。歧管12a和噴嘴20a可經受不同的熱膨脹量，特別是如果它們是由不同的材料構成。在圖2中的注射模制設備中，使得歧管12a具有相對于噴嘴20a的橫向位移，這是由于噴嘴20a沒有通過緊固件與歧管12a接合在一起。
當歧管12a加熱到操作溫度時，通過與歧管12a接觸以及通過加熱器40使得噴嘴20a被加熱。由于熱膨脹，歧管12a在噴嘴20a和彈簧52上施加壓力。同時，由于噴嘴20a的熱膨脹，噴嘴20a在歧管20a的出口表面28上施加壓力。因此，彈簧52壓縮以避免歧管12a和噴嘴20a受損。密封插件44a也通過大于噴嘴20a的膨脹從而在歧管12a的外表面28上施加密封作用力來對溫度升高作出響應。由于密封插件44a具有高的導熱性，因此密封插件44a的長度60增加的量大于周圍部件增加的量。這在圖3中由長度60′表示。由密封插件44a施加在歧管12a上的壓力大于由熔體流產生的注射作用力，注射作用力試圖將歧管12a和噴嘴20a推開并且對于熔體流產生間隙以在壓力下泄漏。
彈簧52是相對剛性的并且壓縮以減小可能大到足以使噴嘴20a或者歧管12a受損的作用力。彈簧52由于密封插件44a施加的密封作用力而沒有壓縮。相反，密封插件44a被設計成如果施加的密封作用力太大而會至少部分崩潰的形式。密封插件44a是比較廉價的部件，因此，如果受損可容易更換。
本領域普通技術人員應該理解的是，密封插件44a的長度60和壁厚62可被改變以適合特定應用的密封要求。
現參見圖4，其中示出了注射模制設備10b的另一個實施例。注射模制設備10b與分別在圖1、圖2和圖3中所示的注射模制10和10a類似。噴嘴20b包括從其頂部向外延伸的肩部凸緣70。肩部凸緣70通過緊固件72與歧管12b接合?？墒褂酶郊拥木o固件72，但是，為了簡單起見，圖中僅示出了一個。
歧管板36b抵靠模腔30b的模腔板35b并支撐噴嘴20b。噴嘴20b接合安裝元件38，安裝元件38從歧管板36b的內壁42延伸以使噴嘴20b和緊固在其上的歧管12b相對于模腔板35b定位。
具有肩部46b的第一凹槽41b形成在噴嘴20b的上表面26b中。具有肩部76的第一凹槽74形成在歧管12b的出口表面28b中。具有孔47b的密封插件44b嵌套在凹槽41b中并且通過第二凹槽74的一部分延伸到噴嘴20b的上表面26b以外。熔體流從歧管出口18b通過密封插件44b的孔47b流到噴嘴通道22b。
密封插件44b具有長度60b并且構造與圖2和圖3的密封插件44a類似。密封插件44b和歧管12b是這樣布置的，即，使由48b表示的冷時間隙設置在密封插件44b和歧管12b的肩部76之間。
在操作中，注射模制設備10b在圖4中所示的冷狀態(tài)下起動并且被加熱到圖5的操作狀態(tài)，如參照圖2和圖3所述的。當具有歧管通道14b的歧管12b加熱到操作溫度時，通過與歧管12b接觸以及通過加熱器40使得具有噴嘴通道22b的噴嘴20b被加熱。緊固件72通常隨著歧管12b和噴嘴20b一起膨脹。歧管12b和噴嘴20b的組件膨脹被彈簧52吸收。間隙51被減小以避免歧管12b和噴嘴20b受損。
同時，密封插件44b膨脹并且沿著箭頭54b所示的方向在歧管肩部76上施加壓力，如圖5中所示。由于密封插件44b的導熱性高于噴嘴20b和歧管12b，因此密封插件44b的長度60b增加的量大于周圍部件增加的量。這在圖5中由長度60b′表示。由密封插件44b施加在歧管肩部76上的壓力大于由熔體流產生的注射作用力，注射作用力試圖將歧管12b和噴嘴20b推開。
注射模制設備10b的密封插件44b還使得噴嘴20b相對于歧管12b定位。密封插件44b突出到噴嘴20b的上表面26b以外以使噴嘴通道20b可與歧管出口18b對準。
現參見圖6和圖7，其中示出了注射模制設備10c的另一個實施例。注射模制設備10c與分別在圖4和圖5中所示的注射模制10b類似，但注射模制設備10c包括與圖2和圖3的密封插件44a類似的密封插件44c。具有歧管通道14c的歧管12c與圖4和圖5中所示的歧管12b類似，但它具有平的出口平面28c并且不包括第二凹槽74。由于已經參照圖1至圖5對用于減少噴嘴20c和歧管12c之間的泄漏的密封插件44c的密封作用進行了詳細描述，因此無需對圖6和圖7的實施例的操作進行詳細描述。
參見圖8，其中示出了處于冷的或者非操作狀態(tài)下的注射模制設備10d的另一個實施例。歧管12d包括用于將熔體流通過出口18d輸送到噴嘴20d的噴嘴通道22d的歧管通道14d。環(huán)圈90設置在噴嘴的上表面26d和歧管12d的外表面28d之間。環(huán)圈90包括肩部32d和間隔凸緣部分34d。
歧管塞80安裝在歧管12d中的孔82中并且形成通道14d的一部分。歧管塞80以一種對于本領域技術人員是顯而易見的方式被壓配合在孔82中。冷時間隙84存在于歧管塞80的下表面86和歧管12d的外表面28d之間。歧管塞80起到與前面已經參照圖1-7描述的密封插件44類似的作用。另外，歧管塞80是由類似的材料制成的。
當歧管12d加熱到操作溫度時，歧管塞80延長以消除冷時間隙84，如圖4中所示，并且通過環(huán)圈90將壓力施加在噴嘴20d上。圖9中示出了由于歧管塞80而使得歧管12d和環(huán)圈90之間的泄漏被減小的操作狀態(tài)。
圖10示出了注射模制設備10f的另一個實施例。注射模制設備10f是具有多個噴嘴20f的多腔注射模制設備，多個噴嘴20f將熔體注入到多個模腔30f中。為了簡單起見，圖10示出了一個噴嘴20f和模腔30f。注射模制設備10f包括歧管12f，歧管12f具有貫穿其的歧管通道14f，歧管通道14f用于從機器噴嘴(未示出)接納可模制材料的熔體流。熔體流流過歧管通道14f并且被輸送到歧管12f的出口18f。歧管加熱器15f設置在歧管12f中以使熔體流處于所需的溫度下。
背板50f處于與歧管12f相鄰的位置并且偏移間隙51f。彈簧52f設置在背板50f和歧管12f之間。
噴嘴20f位于歧管12f和形成在模腔板35f中的模腔30f之間。每一個噴嘴20f包括用于從歧管出口18f接納熔體流并且將熔體流輸送到模腔30f中的噴嘴通道22f。模型澆口31f設置在模腔30f的入口處，與噴嘴20f的尖端24f相鄰。每一個噴嘴20f設有一個或者多個加熱器40f，加熱器40f有助于使通過噴嘴20f的熔體流保持在所需溫度下。
噴嘴肩部32f被設置在噴嘴20f的上端處。噴嘴肩部32f包括上表面26f，上表面26f抵靠歧管12f的出口表面28f。間隔件34f位于噴嘴肩部32f的下表面和歧管板36f的接觸表面37之間。間隔件34f是由諸如鈦或者陶瓷的低導熱性材料制成的。對于本領域技術人員顯而易見的是，間隔件34f使得噴嘴20f相對于歧管12f和模腔30f定位并且與它們對準。
歧管板36f抵靠模腔板35f。冷卻通道33f在模腔30f附近穿過歧管板36f以有助于其中的熔體冷卻。
噴嘴20f包括凹槽41f，凹槽41f形成在噴嘴20f的上表面26f或者歧管接觸表面上。凹槽41f是由肩部46f限定的。具有孔47f的密封插件44f嵌套在凹槽41f中。當注射模制設備10f處于冷狀態(tài)下時，間隙(未示出)設置在密封插件44f和歧管12f的出口表面28f之間。密封插件44f的壁厚通常在2至3毫米的范圍內。
密封插件44f的導熱性高于歧管12f和噴嘴20f，噴嘴20f通常是由諸如H13或者P20鋼的工具鋼制成。密封插件44f可由銅、鈹銅、黃銅、碳化物或者一些鋼制成?；蛘?，可使用導熱性高于歧管12f和噴嘴20f的任何適合的材料。
在操作中，注射模制設備10f在冷狀態(tài)下起動，其中所有部件處于基本相同的環(huán)境溫度下。在操作過程中，歧管12f和噴嘴20f被加熱接著被保持在它們相應的溫度下以使熔體流可無阻地流入激冷的熔體腔30f中。當歧管12f加熱到操作溫度(如圖10中所示)時，密封插件44f膨脹。由于密封插件44f具有較高的熱膨脹系數，因此密封插件44f的長度增加的量大于包括噴嘴20f和歧管12f的周圍部件增加的量。同樣，密封插件44f在歧管12f的外表面28f上施加密封作用力。密封插件44f的膨脹實際上可使得噴嘴20f的上表面26f和歧管12f的外表面28略微移開，但是部件之間的流體連通被密封。密封插件44f的孔47f提供連續(xù)的密封的路徑以在歧管出口18f和噴嘴通道22f之間流動。
圖11中示出了注射模制設備10g的另一個實施例，其中噴嘴20g具有噴嘴主體104和噴嘴頭或者肩部102。噴嘴頭102通過大于周圍部件的膨脹以在歧管12g的歧管通道14g和噴嘴通道22g之間產生密封來以與前面實施例的密封插件44類似的方式操作。噴嘴主體104和噴嘴頭102例如通過釬焊或者螺紋連接(未示出)而被接合在一起。在該實施例中，頭部102可由不同于主體104的材料制成。頭部102是由具有較高的導熱性的材料制成的并且被歧管12g加熱。間隔件34g是由具有較低的導熱性的材料制成的。對于本領域技術人員顯而易見的是，間隔件34g使得噴嘴20g相對于歧管12g和模腔30定位并且與它們對準。
圖12示出了注射模制設備10h的另一個實施例。在該實施例中，噴嘴頭102h包括嵌套在設置于噴嘴主體104中的凹槽41h中的套部106。噴嘴頭102h是由具有導熱性高于噴嘴主體104h的材料制成的并且被歧管12h加熱。所示的注射模制設備10h處于操作主體并且噴嘴頭102h以與上述實施例的密封插件44類似的方式施加密封作用力54h。
參見圖13，其中示出了注射模制設備10i的另一個實施例。密封插件44i安裝在形成于歧管12i的出口表面28i中的凹槽41i中。凹槽41i圍繞歧管通道14i的出口18i。密封插件44i包括與歧管通道14i對準的孔47i以在歧管通道14i和噴嘴通道22i之間提供連續(xù)路徑。
間隔件100i使背板50i與歧管12i分離。間隔件100i通常是由諸如鈦或者陶瓷的絕熱材料制成的。間隔件100i的功能與圖2的彈簧52類似，但是由于它是由絕熱材料制成的，因此歧管12i和背板50i之間的間隙基本上保持不變。
圖13中所示的注射模制設備10i處于操作狀態(tài)。在該狀態(tài)下，密封插件44i處于膨脹狀態(tài)，其中密封插件44i的長度60i充填凹槽41i并且密封插件44i在噴嘴20i的噴嘴頭22i上施加密封作用力。密封插件44i的功能與前面所述的圖8和圖9的歧管塞80類似。
圖14中示出了注射模制設備10j的另一個實施例。在該實施例中，歧管12j具有貫穿其的歧管通道14j，歧管通道14j用于從機器噴嘴(未示出)接納可模制材料的熔體流。噴嘴20j設置歧管12j附近。每一個噴嘴20j包括用于從各個歧管出口18j接納熔體流并且通過噴嘴尖端(未示出)將熔體流輸送到各個模腔(未示出)中的噴嘴通道22j。每一個噴嘴20j還設有與連接器43相連的加熱器40j。加熱器40j有助于使通過噴嘴20j的熔體流保持在所需溫度下。
歧管12j包括形成在歧管12j的出口表面28j中的凹槽41j。凹槽41j是階梯式的并且包括第一螺紋部分110和第一基本平滑部分112。凹槽41j的尺寸確定成適于接納密封插件44j。在圖15和圖16中所示的密封插件44j包括第一端面114、第二端面116和穿過其的孔47j。密封插件44j的外表面118包括設置在第二螺紋部分122和第一基本平滑部分124之間的頸部120。密封插件44j的第二螺紋部分122的尺寸確定成適于與密封插件44j的第一螺紋部分110配合以將密封插件44j固定在歧管12j上。如圖中所示，密封插件44j還包括形成在其第二端面116上的一對工藝孔126(圖15中僅示出了一個工藝孔)以便于安裝。
密封插件44j和歧管12j是這樣布置的，即，使冷時間隙被設置在密封插件44j和噴嘴20j的配合表面26j上。密封插件44j是由一種導熱性高于歧管12j和噴嘴20j的材料制成的。密封插件44j可由銅、鈹銅、黃銅、碳化物或者一些鋼制成。可使用導熱性高于歧管12j和噴嘴20j的任何適合的材料。密封插件44j的壁厚通常在2至4毫米的范圍內。
在操作中，注射模制設備10j在冷狀態(tài)下起動，其中所有部件處于基本相同的環(huán)境溫度下。在操作過程中，歧管12j被加熱接著被保持在它們相應的溫度下以使熔體流可無阻地流入熔體腔中。加熱的操作狀態(tài)在圖14中所示。密封插件44j通過大于歧管12j的膨脹從而在噴嘴20j的配合表面26j上施加密封作用力來對溫度升高作出響應。由于密封插件44j具有高的導熱性，因此密封插件44j的長度60j增加的量大于周圍部件增加的量。由密封插件44j施加在噴嘴20j上的壓力大于由熔體流產生的注射作用力，注射作用力試圖將密封插件44j和噴嘴20j推開并且對于熔體流產生間隙以在壓力下泄漏。
盡管已經對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進行了描述，但本領域技術人員應該理解的是，可在不脫離由附屬的權利要求所限定的精神和范圍的情況下可進行變型和改進。
權利要求
1.一種注射模制設備，它包括具有歧管通道的歧管，所述歧管通道具有用于接納可模制材料的熔體流的入口和用于將熔體流輸送到噴嘴的噴嘴通道的出口；設置在噴嘴和歧管之間的密封件，所述密封件包括用于從歧管通道的出口接納熔體流和將熔體流輸送到噴嘴通道的熔體通道；以及用于從噴嘴通道接納熔體流的模腔，所述噴嘴通道通過模型澆口與模腔連通；其中，所述密封件的熱膨脹系數高于所述噴嘴和所述歧管。
2.如權利要求1所述的注射模制設備，其特征在于，凹槽形成在所述噴嘴的歧管接觸表面上，所述凹槽的尺寸確定成適于接納所述密封件。
3.如權利要求2所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件的所述熔體通道在所述噴嘴通道和所述歧管的所述出口之間提供連續(xù)的路徑。
4.如權利要求3所述的注射模制設備，其特征在于，在冷狀態(tài)下，在所述密封件和所述歧管之間提供間隙。
5.如權利要求4所述的注射模制設備，其特征在于，在操作溫度下所述密封件抵靠所述歧管以在所述密封件和所述歧管之間提供密封。
6.如權利要求5所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由銅制成的。
7.如權利要求5所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由鈹銅制成的。
8.如權利要求5所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由黃銅制成的。
9.如權利要求1所述的注射模制設備，其特征在于，第一凹槽設置在所述歧管的出口表面上，而第二凹槽設置在所述噴嘴的歧管接觸表面上，所述第一凹槽和所述第二凹槽對準以接納所述密封件。
10.如權利要求9所述的注射模制設備，其特征在于，在冷狀態(tài)下，在所述密封件和所述第一凹槽的偏離表面之間提供間隙。
11.如權利要求10所述的注射模制設備，其特征在于，在操作濕度下所述密封件抵靠所述第一凹槽的偏離表面以在所述密封件和所述歧管之間提供密封。
12.如權利要求11所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由銅制成的。
13.如權利要求11所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由鈹銅制成的。
14.如權利要求11所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由黃銅制成的。
15.如權利要求1所述的注射模制設備，其特征在于，所述歧管包括設置在其出口表面上的用于接納所述密封件的第一凹槽，所述密封件的所述熔體通道與所述噴嘴通道和所述歧管的所述出口對準。
16.如權利要求15所述的注射模制設備，其特征在于，在冷狀態(tài)下，在所述噴嘴的歧管接觸表面和所述密封件之間提供間隙。
17.如權利要求16所述的注射模制設備，其特征在于，在操作溫度下在所述密封件和所述噴嘴的所述歧管接觸表面之間提供密封。
18.如權利要求17所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由銅制成的。
19.如權利要求17所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由鈹銅制成的。
20.如權利要求17所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件是由黃銅制成的。
21.如權利要求16所述的注射模制設備，其特征在于，所述密封件包括位于其外表面的至少一部分上的螺紋，所述密封件的所述螺紋用于與所述第一凹槽的帶螺紋的內表面配合。
22.一種注射模制設備，它包括具有用于在壓力下接納可模制材料的熔體流的歧管通道的歧管；設置在歧管中的歧管塞，所述歧管塞具有形成在其中的歧管塞通道，所述歧管塞通道具有用于從歧管通道接納熔體流的入口和用于將熔體流輸送到噴嘴的噴嘴通道的出口；以及用于從噴嘴通道接納熔體流的模腔，所述噴嘴通道通過模型澆口與模腔連通；其中，所述歧管塞的熱膨脹系數高于所述噴嘴和所述歧管。
23.如權利要求22所述的注射模制設備，其特征在于，在冷狀態(tài)下，在所述歧管塞的下邊緣和所述噴嘴的歧管接觸表面之間提供間隙。
24.如權利要求23所述的注射模制設備，其特征在于，在操作溫度下所述歧管塞抵靠所述噴嘴的所述歧管接觸表面以在所述歧管塞和所述歧管之間提供密封。
25.如權利要求24所述的注射模制設備，其特征在于，所述歧管塞是由銅制成的。
26.如權利要求24所述的注射模制設備，其特征在于，所述歧管塞是由鈹銅制成的。
27.如權利要求24所述的注射模制設備，其特征在于，所述歧管塞是由黃銅制成的。
28.一種注射模制設備，它包括具有通道的歧管，所述歧管通道具有用于在壓力下接納可模制材料的熔體流的入口和出口；具有噴嘴主體和噴嘴頭的噴嘴，噴嘴頭處于與歧管的外表面相鄰的位置處，所述噴嘴具有用于從歧管通道的出口接納熔體流的噴嘴通道；以及用于從噴嘴通道接納熔體流的模腔，所述噴嘴通道通過模型澆口與模腔連通；其中，所述噴嘴頭的至少一部分的熱膨脹系數高于所述噴嘴主體和所述歧管。
29.如權利要求28所述的注射模制設備，其特征在于，在冷狀態(tài)下，在所述噴嘴頭和所述歧管的出口表面之間提供間隙。
30.如權利要求29所述的注射模制設備，其特征在于，在操作溫度下所述噴嘴頭抵靠所述歧管的出口表面以在所述噴嘴頭和所述歧管之間提供密封。
31.如權利要求30所述的注射模制設備，其特征在于，所述噴嘴頭與所述噴嘴主體是一體的。
全文摘要
一種設置在噴嘴(20)和歧管(12)之間的密封(44)。密封(44)在歧管(12)的出口(18)和噴嘴通道(22)之間提供熔體通道。密封(44)具有比噴嘴(20)和歧管(12)高的熱膨脹系數以便當注射模制設備處于操作溫度下時在歧管(12)和噴嘴(20)之間提供改進的密封。
文檔編號B29C45/27GK1646293SQ03807927
公開日2005年7月27日 申請日期2003年2月4日 優(yōu)先權日2002年2月4日
發(fā)明者丹尼斯·巴賓, 克雷格·倫威克, 羅伯特·西西利亞, 海倫·維里特 申請人:標準模具有限公司