專利名稱:用于清洗機(jī)的噴射裝置及使用該噴射裝置的清洗機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型涉及太陽電池制造領(lǐng)域,尤其涉及一種用于清洗機(jī)的噴射裝置及使用 該噴射裝置的清洗機(jī)。
背景技術(shù):
在太陽電池生產(chǎn)制造過程中會用到很多清洗機(jī)。以水平式去磷硅玻璃清洗機(jī)為 例,水平式去磷硅玻璃清洗機(jī)通常包括清洗槽及用于輸送硅片的輸送輥組,當(dāng)硅片在輸送 輥組上行進(jìn)時使硅片與清洗液如稀氫氟酸溶液接觸從而利用稀氫氟酸溶液與磷硅化合物 的反應(yīng)來去除磷硅玻璃,然后再經(jīng)過去離子水漂洗。磷硅玻璃是指當(dāng)使用P型硅作為電池 基體材料時,在擴(kuò)散過程中,磷和硅在硅片表面形成的一層化合物。這層物質(zhì)會影響太陽光 的入射,而且也會降低硅片表面和電極的接觸性能,導(dǎo)致電池質(zhì)量下降,所以需要去除這層 磷硅玻璃。如圖1所示,水平式去磷硅玻璃清洗機(jī)常采用噴射方式對輸送輥組上的硅片進(jìn)行 清洗。硅片11通過其最后一道清洗槽時,從噴射裝置的噴管12上的噴嘴121噴出的水流 量相對較大,而噴嘴121噴出的水柱與硅片之間的夾角即噴射角度通常為45度,使得硅片 11受到的沖力較大,很容易導(dǎo)致碎片而造成損失,因此有必要進(jìn)行改進(jìn)。另外,如果采用減少水流量的方法以減小硅片受到的沖力,硅片11的清洗效果會 受到影響;如果移動噴管12的位置,由于操作空間狹小,需要對清洗機(jī)自身進(jìn)行改造,改造 成本較高。
實(shí)用新型內(nèi)容為了解決上述技術(shù)問題,本實(shí)用新型的目的是提供一種用于清洗機(jī)的噴射裝置及 使用該噴射裝置的清洗機(jī),其能夠在不改變水流量的前提下降低對硅片的沖力進(jìn)而降低碎 片率且改造成本較低。為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供了一種用于清洗機(jī)的噴射裝置,包括多個噴 嘴、噴管及具有連接通道的延長桿,所述噴嘴和噴管通過延長桿相連通,所述延長桿包括噴 嘴連接段和噴管連接段,所述噴嘴連接段和所述噴管連接段之間的夾角大于90度且小于 135 度。作為優(yōu)選,所述噴管連接段設(shè)有與所述噴管匹配的外螺紋連接頭,所述噴嘴連接 段設(shè)有與所述噴嘴匹配的內(nèi)螺紋連接孔,延長桿通過螺紋連接方式分別與噴管和噴嘴相固 定連接。作為優(yōu)選,所述夾角為120度。從而使得噴射角度由現(xiàn)有技術(shù)中的45度變?yōu)?0 度,由于減小了噴射角度,因此能夠在不改變水流量的前提下降低對硅片的沖力。作為優(yōu)選,所述噴嘴連接段的端部還設(shè)有放置密封圈的密封圈槽,所述密封圈槽 的內(nèi)徑大于所述內(nèi)螺紋連接孔的內(nèi)徑。在所述密封圈槽內(nèi)放置密封圈,安裝噴嘴后能達(dá)到 良好的密封效果;同樣,在噴管連接段也可設(shè)有密封圈。
3[0010]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型還提供了一種清洗機(jī),包括清洗槽及輸送輥組,還 包括上述的噴射裝置,其用于清洗所述輸送輥組上的硅片。作為優(yōu)選,所述噴射裝置的多個噴嘴分別設(shè)置在所述輸送輥組的上下兩側(cè)。作為優(yōu)選,所述輸送輥組上下兩側(cè)的多個噴嘴為對稱式分布。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是由于本實(shí)用新型的用于清洗機(jī)的噴射裝 置巧妙地設(shè)計了延長桿,在不改變水流量的前提下通過減小噴嘴的噴射角度,很好地解決 了沖力較大引起工件碎片的問題,降低了碎片率。清洗機(jī)只要使用這種噴射裝置,即可根據(jù) 實(shí)際需要使用不同角度的延長桿改變噴射角度以滿足清洗要求,不需要對清洗機(jī)自身進(jìn)行 改進(jìn),因此改造費(fèi)用較低,具有很強(qiáng)的實(shí)用性。
圖1是現(xiàn)有技術(shù)中清洗機(jī)的噴射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例的噴射裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;圖3是圖2中的延長桿的結(jié)構(gòu)示意圖;圖4是圖3沿A-A向剖切后的剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說明本實(shí)用新型的實(shí)施例。如圖2至圖4所示,本實(shí)施例的噴射裝置包括多個噴嘴121、噴管12及延長桿2, 延長桿2內(nèi)部設(shè)有連接通道,噴嘴121和噴管12通過延長桿2相連通,噴管12內(nèi)用于清洗 硅片的液體經(jīng)延長桿2的連接通道由噴嘴121噴出。延長桿2包括噴嘴連接段22和噴管連接段21,噴管連接段21設(shè)有與噴管12匹配 的外螺紋連接頭211,噴嘴連接段22設(shè)有與噴嘴22匹配的內(nèi)螺紋連接孔221,本實(shí)施例中 噴嘴連接段22和噴管連接段21之間的夾角為120度。當(dāng)然,噴嘴連接段22和噴管連接段21之間的夾角可以是大于90度且小于135度 內(nèi)的任意角度,可根據(jù)實(shí)際需要選擇。為了描述方便,以下僅以夾角為120度進(jìn)行說明,其 它噴射角度原理相同。為了使得噴嘴121和內(nèi)螺紋連接孔221連接后能達(dá)到良好的密封效果,噴嘴連接 段22的端部還設(shè)有放置密封圈的密封圈槽222,密封圈槽222的內(nèi)徑大于內(nèi)螺紋連接孔 221的內(nèi)徑,如此一來,可以將密封圈(未圖示)放置在密封圈槽222內(nèi),再連接噴嘴121, 達(dá)到良好的密封效果;同樣的考慮,在噴管連接段21上也可設(shè)有密封圈(未圖示)。從圖2中可以看出,延長桿2的外螺紋連接頭211連接噴管12,內(nèi)螺紋連接孔連接 噴嘴121,使得噴嘴121的噴射角度由現(xiàn)有技術(shù)的45度變成了 30度。通過使用延長桿2, 在水流量不變的情況下減小了噴射角度,減小了噴射水流對硅片20的沖力,從而使得硅片 20的碎片率大大降低。本實(shí)用新型的清洗機(jī),包括清洗槽、輸送輥組及上述的用于清洗所述輸送輥組上 的硅片的噴射裝置。噴射裝置的多個噴嘴分別對稱地設(shè)置在輸送輥組的上下兩側(cè),對經(jīng)過 的硅片20進(jìn)行清洗。上述清洗機(jī)的噴射裝置,不需要改變噴管12的位置,僅需在噴管12與多個噴嘴121之間增加延長桿2即可減小噴射角度,減小了噴射水流對硅片20的沖力,從而使得硅片 20的碎片率大大降低。并且,由于不需要對清洗機(jī)主體進(jìn)行改造,改造成本較低,具有很強(qiáng) 的實(shí)用性。 以上實(shí)施例僅為本實(shí)用新型的示例性實(shí)施例,不用于限制本實(shí)用新型,本實(shí)用新 型的保護(hù)范圍由權(quán)利要求書限定。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)和保護(hù)范圍 內(nèi),對本實(shí)用新型做出各種修改或等同替換,這種修改或等同替換也應(yīng)視為落在本實(shí)用新 型的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求一種用于清洗機(jī)的噴射裝置,包括噴管和多個噴嘴,其特征在于,還包括具有連接通道的延長桿,所述噴嘴和噴管通過延長桿相連通,所述延長桿包括噴嘴連接段和噴管連接段,所述噴嘴連接段和所述噴管連接段之間的夾角大于90度且小于135度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗機(jī)的噴射裝置,其特征在于,所述噴管連接段設(shè)有 與所述噴管匹配的外螺紋連接頭,所述噴嘴連接段設(shè)有與所述噴嘴匹配的內(nèi)螺紋連接孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于清洗機(jī)的噴射裝置,其特征在于,所述噴嘴連接段和所 述噴管連接段之間的夾角為120度。
4.根據(jù)上述任一權(quán)利要求所述的用于清洗機(jī)的噴射裝置,其特征在于,所述噴嘴連接 段的端部還設(shè)有放置密封圈的密封圈槽。
5.一種清洗機(jī),包括清洗槽及輸送輥組,其特征在于,還包括權(quán)利要求1至4之任一項(xiàng) 所述的用于清洗所述輸送輥組上的硅片的噴射裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種清洗機(jī),其特征在于所述噴射裝置的多個噴嘴分別設(shè) 置在輸送輥組的上下兩側(cè)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種清洗機(jī),其特征在于所述輸送輥組的上下兩側(cè)的多個 噴嘴為對稱式分布。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種用于清洗機(jī)的噴射裝置及使用該噴射裝置的清洗機(jī),該噴射裝置包括噴嘴、噴管以及內(nèi)部具有連接通道的延長桿,所述噴嘴和噴管通過延長桿相連通,所述延長桿包括噴嘴連接段和噴管連接段,所述噴嘴連接段和所述噴管連接段之間的夾角大于90度且小于135度。本實(shí)用新型的噴射裝置在噴嘴與噴管之間增加了延長桿,能夠在不改變水流量的前提下減小噴嘴的噴射角度,很好地解決了沖力較大引起工件碎片的問題,降低了碎片率。使用這種噴射裝置的清洗機(jī),由于不需要對清洗機(jī)主體進(jìn)行改造,改造成本較低具有很強(qiáng)的實(shí)用性。
文檔編號B05B9/00GK201625605SQ20102011411
公開日2010年11月10日 申請日期2010年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月29日
發(fā)明者陸杰, 陳豪 申請人:無錫尚德太陽能電力有限公司