專利名稱：涂敷裝置及其基板保持方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及往基板上涂敷涂敷液的涂敷裝置及其基板保持方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器和等離子顯示器等平板顯示器使用的是往玻璃基板上涂 敷抗蝕液的結(jié)構(gòu)(稱為涂敷基板)。該涂敷基板利用均勻涂敷抗蝕液的涂 敷裝置形成。
該涂敷裝置具有載置基板的工作臺和噴出抗蝕液的涂敷單元， 一面從 涂敷單元噴出抗蝕液一面移動涂敷單元，從而在基板上形成均勻厚度的抗 蝕液膜。
這種涂敷裝置中，作為將基板保持在工作臺上的裝置， 一般已知是通 過在工作臺上形成吸附孔，在該吸附孔中產(chǎn)生負(fù)壓從而將基板吸附保持在 工作臺上(例如參照專利文獻(xiàn)1)。具體地說，是將吸附孔與負(fù)壓產(chǎn)生裝置 連接，將該負(fù)壓產(chǎn)生裝置設(shè)定成低壓(高真空側(cè))，從而在吸附孔中產(chǎn)生 負(fù)壓。然后，若向工作臺供給基板，則通過負(fù)壓產(chǎn)生裝置進(jìn)行高速排氣， 從而在吸附孔中迅速產(chǎn)生負(fù)壓，縮短了將基板吸附到工作臺上所需要的吸 附時(shí)間，謀求涂敷裝置的作業(yè)周期的提高。
專利文獻(xiàn)l:特開2006—281091號公報(bào)
可是，上述涂敷裝置中，是通過負(fù)壓產(chǎn)生裝置進(jìn)行高速排氣，從而在 吸附孔中產(chǎn)生大的負(fù)壓(高真空側(cè)壓力)。存在的問題是若在產(chǎn)生這樣大 的吸引力的狀態(tài)下進(jìn)行涂敷，則有可能在與吸附孔相當(dāng)?shù)幕宀糠之a(chǎn)生涂 敷不均。
從而，若設(shè)定成使吸附孔中產(chǎn)生的負(fù)壓變?nèi)?設(shè)定成大氣壓側(cè))，則 在負(fù)壓產(chǎn)生裝置中不能進(jìn)行高速排氣，在吸附孔中產(chǎn)生設(shè)定壓力的時(shí)間變 長。即，將基板吸附到工作臺上所需要的時(shí)間變長，結(jié)果是產(chǎn)生涂敷裝置 的作業(yè)周期長期化的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是鑒于上述問題點(diǎn)而產(chǎn)生的，其目的在于提供一種將吸附基 板的吸引力設(shè)定成不會產(chǎn)生涂敷不均的程度時(shí)也能夠抑制涂敷裝置作業(yè) 周期長期化的涂敷裝置及其基板保持方法。
為了解決上述課題，本發(fā)明的涂敷裝置，具備載置基板的工作臺； 在所述工作臺的表面形成的吸引孔中產(chǎn)生吸引力并將基板吸附保持在工 作臺的表面的基板保持裝置；和相對于保持在所述工作臺的表面的基板相 對移動且噴出涂敷液的涂敷單元，所述涂敷裝置的特征在于，所述基板保 持裝置具有能夠調(diào)節(jié)對基板的吸引力的壓力調(diào)節(jié)部，該壓力調(diào)節(jié)部能夠調(diào) 節(jié)成初始壓和保持壓，所述初始壓吸附剛剛載置在工作臺的表面的基板， 在利用該初始壓吸附基板之后，所述保持壓維持基板保持在工作臺的表面 的狀態(tài)，該保持壓設(shè)定成小于所述初始壓。
根據(jù)上述涂敷裝置，在吸附載置在工作臺上的基板時(shí)在吸引孔中產(chǎn)生 負(fù)壓(小于大氣壓的壓力)迅速吸附，在壓力達(dá)到初始壓后，利用所述壓 力調(diào)節(jié)部調(diào)節(jié)成小于初始壓的保持壓，從而能夠?qū)⑽降幕灞３衷诠ぷ?臺上。因而，當(dāng)利用涂敷單元往基板上涂敷涂敷液時(shí)，能夠往依靠小于初 始壓的保持壓吸附保持的基板上進(jìn)行涂敷，從而，與現(xiàn)有那樣以吸附載置 在工作臺上的基板的初始壓狀態(tài)進(jìn)行涂敷的情況相比，能夠抑制在與吸引 孔相當(dāng)?shù)牟糠之a(chǎn)生涂敷不均。另外，形成依靠小于初始壓的保持壓將基板 保持在工作臺上的構(gòu)成，也能夠在吸附基板之際高速地產(chǎn)生初始壓，從而 能夠消除涂敷裝置作業(yè)周期長期化的問題。
另外能夠采用以下構(gòu)成，所述基板保持裝置具備在所述吸引孔中產(chǎn)生 吸引力的吸引力產(chǎn)生裝置和將該吸引力產(chǎn)生裝置與所述吸引孔連通連接 的管道，所述壓力調(diào)節(jié)部分別具備調(diào)節(jié)成所述初始壓的管道路徑和調(diào)節(jié)成 所述保持壓的管道路徑。
根據(jù)該構(gòu)成，只要切換管道路徑，就能夠容易地切換吸引孔中的初始 壓的產(chǎn)生和保持壓的產(chǎn)生。從而能夠提高初始壓和保持壓的切換響應(yīng)性。
另外能夠采用以下構(gòu)成，在與所述吸引孔連接的附近的管道上配備壓 力計(jì)，在該壓力計(jì)達(dá)到初始壓時(shí)調(diào)節(jié)成所述保持壓。根據(jù)該構(gòu)成，由于壓力計(jì)設(shè)置在管道的吸引孔附近，從而與安裝在其 他管道部分的情況相比，能夠抑制壓力損失的影響，高精度地測量吸引孔 中的壓力。
為了解決上述課題，本發(fā)明的涂敷裝置的基板保持方法，該涂敷裝置 具備載置基板的工作臺；在所述工作臺的表面產(chǎn)生吸引力并吸附保持基 板的基板保持裝置；和相對于保持在所述工作臺的表面的基板相對移動且 噴出涂敷液的涂敷單元，所述涂敷裝置的基板保持方法的特征在于，所述 基板保持裝置具有壓力調(diào)節(jié)部，該壓力調(diào)節(jié)部通過調(diào)節(jié)附加給基板的壓力 能夠調(diào)節(jié)對基板的吸引力，利用該壓力調(diào)節(jié)部在使相對于吸附在工作臺的 表面的基板的壓力達(dá)到規(guī)定的初始壓后，調(diào)節(jié)成小于該初始壓的保持壓來 保持基板。
根據(jù)該涂敷裝置的基板保持方法，在吸附載置在工作臺上的基板時(shí)在 吸引孔中產(chǎn)生負(fù)壓，迅速吸附，在壓力達(dá)到初始壓后，利用所述壓力調(diào)節(jié) 部調(diào)節(jié)成小于初始壓的保持壓，從而與現(xiàn)有那樣以吸附載置在工作臺上的 基板的初始壓狀態(tài)進(jìn)行涂敷的情況相比，能夠抑制在與吸引孔相當(dāng)?shù)牟糠?產(chǎn)生涂敷不均。另外，形成依靠小于初始壓的保持壓將基板保持在工作臺 上的構(gòu)成，也能夠在吸附基板之際高速地產(chǎn)生初始壓，從而能夠消除涂敷 裝置作業(yè)周期長期化的問題。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明的涂敷裝置及其基板保持方法，將吸附基板的吸引力設(shè)定 成不會產(chǎn)生涂敷不均的程度時(shí)也能夠抑制涂敷裝置作業(yè)周期長期化。


圖1是表示本發(fā)明實(shí)施方式的涂敷裝置的立體圖。
圖2是涂敷單元腳部附近的概略圖。
圖3是表示涂敷裝置的真空泵和管道系統(tǒng)的概略圖。
圖4是表示上述涂敷裝置的控制系統(tǒng)的框圖。
圖5是表示上述涂敷裝置的動作的流程圖。
圖中，IO —基板，21—工作臺，21a—吸引孔，30—涂敷單元，40 — 基板保持裝置，41一壓力調(diào)節(jié)部，50—管道，51a—主閥，52a—副閥，52b一副調(diào)壓器，53 —壓力計(jì)。
具體實(shí)施例方式
利用

本發(fā)明的實(shí)施方式。
圖1是概略表示本發(fā)明一實(shí)施方式的涂敷裝置的立體圖，圖2是表示 涂敷單元腳部附近的概略圖，圖3是表示涂敷裝置的管道系統(tǒng)的圖。
如圖1 圖3所示，涂敷裝置是在基板10上形成藥液和抗蝕液等液狀 物(以下稱為涂敷液)的涂敷膜的裝置，具備底座2、用來載置基板10 的工作臺21和能夠相對于該工作臺21沿特定方向移動地構(gòu)成的涂敷單元 30。
還有，以下的說明中，以涂敷單元30移動的方向?yàn)閄軸方向，以與 之在水平面上正交的方向?yàn)閅軸方向，以與X軸及Y軸方向雙方正交的 方向?yàn)閆軸方向進(jìn)行說明所述底座2在其中央部分配置工作臺21。該工作臺21用來載置搬入 的基板10。在該工作臺21上設(shè)置基板保持裝置40，利用該基板保持裝置 40保持基板10。具體地說，通過在該工作臺21表面形成的多個(gè)吸引孔21a 中產(chǎn)生吸引力，從而將基板10吸附保持在工作臺21表面上。
艮P,該基板保持裝置40具有真空泵81 (本發(fā)明的吸引力產(chǎn)生裝置) 和連通連接該真空泵81 (參照圖3)和吸引孔21a的管道50，通過使真空 泵81動作，從而經(jīng)由管道50在吸引孔21a中產(chǎn)生負(fù)壓(小于大氣壓的壓
力)，以能夠保持基板io。
另外，基板保持裝置40具有壓力調(diào)節(jié)部41，本實(shí)施方式中，利用壓 力調(diào)節(jié)部41能夠調(diào)節(jié)成初始壓和保持壓。在此，所謂初始壓是將剛剛載 置在工作臺21表面的基板10吸附到工作臺21表面時(shí)的壓力，是利用真 空泵81進(jìn)行高速排氣、在吸引孔21a中迅速產(chǎn)生負(fù)壓用以瞬時(shí)吸附基板 IO的壓力。另外，所謂保持壓是在依靠初始壓吸附基板10后，用以維持 基板10被保持在工作臺21表面上的狀態(tài)的壓力，是小于初始壓的壓力， 是吸附在工作臺21上的基板10不會產(chǎn)生位置偏移的壓力。
壓力調(diào)節(jié)部41中調(diào)節(jié)成初始壓的管道(主管道51)和調(diào)節(jié)成保持壓 的管道(副管道52)由分別獨(dú)立的管道路徑構(gòu)成。具體地說，如圖2所示，在調(diào)節(jié)成初始壓的主管道51上設(shè)置主閥51a，通過開閉該主閥51a從而能 夠連通或隔斷真空泵81和吸引孔21a。從而，在該主閥51a全開的狀態(tài)下 使真空泵81動作，從而在吸引孔21a中產(chǎn)生初始壓。從而，能夠?qū)d置 在工作臺21表面的基板10附加初始壓進(jìn)行吸附。
另外，在調(diào)節(jié)成保持壓的副管道52上設(shè)有副閥52a和副調(diào)壓器52b。 該副閥52a與主閥51a相同，通過開閉該副閥52a，從而能夠?qū)⒄婵毡?1 和吸引孔21a通過副管道52連通或隔斷。另外，副調(diào)壓器52b是將管道 設(shè)定為規(guī)定的壓力，本實(shí)施方式中設(shè)定副調(diào)壓器52b的設(shè)定壓力為保持壓。 因而，在副閥52a全開的狀態(tài)下使真空泵81動作，從而利用副調(diào)壓器52b 控制壓力，因而在吸引孔21a中產(chǎn)生保持壓。還有，若在主閥51a及副閥 52a全開的狀態(tài)下使真空泵81動作，則通過主管道51進(jìn)行吸引，從而在 吸引孔21a中產(chǎn)生初始壓。
另外，在管道50上設(shè)置壓力計(jì)53。該壓力計(jì)53用來測量管道50內(nèi) 的壓力，本實(shí)施方式中，設(shè)置在工作臺21正下方的吸引孔21a附近的管 道50部分。從而抑制了壓力損失等的影響，能夠高精度地測量吸引孔21a 的壓力狀態(tài)。
另外，在工作臺21上設(shè)有使基板10升降動作的基板升降機(jī)構(gòu)。具體 地說，在工作臺21表面形成多個(gè)銷孔，在該銷孔中埋設(shè)有能夠沿Z軸方 向升降動作的升降銷(沒有圖示)。即，若在從工作臺21表面突出升降銷 的狀態(tài)下搬入基板10，則升降銷的前端部分抵接基板10，能夠保持基板 10，下降升降銷將其收容在銷孔中，從而將基板10載置在工作臺21表面。
另外，在工作臺21表面載置基板10的狀態(tài)下，上升升降銷，從而升 降銷的前端部分抵接基板10，以使能夠用多個(gè)升降銷的前端部分將基板 IO保持在規(guī)定的高度位置。從而，能夠盡可能地抑制保持與基板10的接 觸部分，能夠不損傷基板10地順暢更換。
另外，涂敷單元30用來往基板10上涂敷涂敷液。該涂敷單元30如 圖l、圖2所示，具有與底座2連結(jié)的腳部31和沿Y軸方向延伸的管頭 部34，以沿Y軸方向橫跨在底座2上的狀態(tài)能夠沿X軸方向移動地進(jìn)行 安裝。具體地說，在底座2的Y軸方向兩端部分分別設(shè)置沿X軸方向延 伸的軌道22，腳部31沿該軌道22滑動自如地進(jìn)行安裝。并且，在腳部31上安裝線性馬達(dá)33，通過驅(qū)動控制線性馬達(dá)33，從而能夠使涂敷單元 30沿X軸方向移動，在任意位置停止。
在涂敷單元30的腳部31如圖2所示安裝有涂敷涂敷液的管頭部34。 具體地說，在該腳部31上設(shè)有沿Z軸方向延伸的軌道37和沿著該軌道 37滑動的滑塊35，將這些滑塊35和管頭部34連結(jié)。并且，在滑塊35上 安裝由伺服馬達(dá)36 (參照圖4)驅(qū)動的滾珠螺桿機(jī)構(gòu)，通過驅(qū)動控制該伺 服馬達(dá)36，從而能夠使滑塊35沿Z軸方向移動，同時(shí)能夠停止在任意位 置。g卩，管頭部34相對于保持在工作臺21上的基板10能夠接觸脫離地 進(jìn)行支撐。
管頭部34用來涂敷涂敷液并在基板10上形成涂敷膜。該管頭部34 是具有單向延伸形狀的柱狀構(gòu)件，與涂敷單元30的移動方向幾乎正交地 設(shè)置。在該管頭部34上形成縱向延伸的縫隙噴嘴34a，以使向管頭部34 供給的涂敷液從縫隙噴嘴34a橫貫縱向均勻噴出。因而，將涂敷單元30 以從縫隙噴嘴34a噴出涂敷液的狀態(tài)沿X軸方向移動，從而橫貫縫隙噴嘴 34a的縱向在基板10上形成一定厚度的涂敷膜。
接下來，利用圖4所示的框圖關(guān)于上述涂敷裝置的控制系統(tǒng)的構(gòu)成進(jìn) 行說明。
圖4是表示該涂敷裝置所設(shè)置的控制裝置90的控制系統(tǒng)的框圖。如 圖4所示，該涂敷裝置設(shè)有控制上述各種單元的驅(qū)動的控制裝置90。該控 制裝置90具有控制本體部91、驅(qū)動控制部92、壓力控制部93、輸入輸出 裝置控制部94和外部裝置控制部95。
控制本體部91包括執(zhí)行邏輯運(yùn)算的大家熟知的CPU、預(yù)先存儲控制 該CPU的各種程序等的ROM、在裝置動作過程中臨時(shí)存儲各種數(shù)據(jù)的 RAM、存儲各種程序和OS、還有生產(chǎn)程序等各種數(shù)據(jù)的HDD等。并且， 控制本體部91具有主控制部91a、判定部91b和、存儲部91c。
主控制部91a為了按照預(yù)先存儲的程序執(zhí)行一系列涂敷動作，經(jīng)由驅(qū) 動控制部92驅(qū)動控制各單元的伺服馬達(dá)36、線線馬達(dá)33等驅(qū)動裝置。
判定部91b是判定吸附保持基板10時(shí)產(chǎn)生吸引力的壓力狀態(tài)是否合 適。目卩、判定由壓力計(jì)53檢測的壓力是否達(dá)到初始壓。具體地說，在后 述的存儲部91c存儲預(yù)先設(shè)定的初始壓數(shù)據(jù)，判斷檢測的壓力是否為該初始壓。假如達(dá)到初始壓時(shí)經(jīng)由后述的壓力控制部93進(jìn)行控制以使主閥51a 成為關(guān)閉狀態(tài)。從而連通吸引孔21a和真空泵81的管道51只切換到副管 道52，從而在吸引孔21a中產(chǎn)生的壓力被調(diào)節(jié)成由副調(diào)壓器52b設(shè)定的保 持壓。另外，當(dāng)壓力計(jì)53沒有達(dá)到初始壓時(shí)，主閥51a及副閥52a的狀 態(tài)維持在原來狀態(tài)。
存儲部91c用來儲存各種數(shù)據(jù)，同時(shí)臨時(shí)儲存運(yùn)算結(jié)果等。具體地說， 存儲初始壓、保持壓等數(shù)據(jù)。
驅(qū)動控制部92根據(jù)來自控制本體部91的控制信號，驅(qū)動控制線性馬 達(dá)33、伺服馬達(dá)36等。具體地說，通過控制線性馬達(dá)33及伺服馬達(dá)36 從而驅(qū)動控制涂敷單元30的移動及管頭部34的升降動作等。
壓力控制部93用來檢測管道50內(nèi)的壓力，另外，還根據(jù)來自控制本 體部91的控制信號，控制吸引孔21a中產(chǎn)生的壓力。具體地說，根據(jù)來 自壓力計(jì)53的信號，檢測吸引孔21a附近的管道50內(nèi)的壓力。另外，當(dāng) 壓力計(jì)53顯示初始壓從而從控制本體部91發(fā)送切換成保持壓這種意思的 信號時(shí)，控制主閥51a的驅(qū)動以使主閥51a從打開狀態(tài)成為關(guān)閉狀態(tài)，從 而控制管道50內(nèi)(準(zhǔn)確地說是吸引孔21a附近)成為保持壓。
輸入輸出裝置控制部94控制鍵盤83 、觸摸面板82等各輸入輸出裝置。 具體地說，可從鍵盤83及觸摸面板82進(jìn)行涂敷動作的條件設(shè)定等，能夠 適宜進(jìn)行初始壓、保持壓等的設(shè)定。另外，當(dāng)從初始壓調(diào)節(jié)成保持壓時(shí)、 管道50內(nèi)沒有成為要調(diào)節(jié)的保持壓時(shí)，在觸摸面板上進(jìn)行警告顯示，對 操作員發(fā)出警告。
外部裝置控制部95根據(jù)來自控制本體部91的控制信號，進(jìn)行外部裝 置的驅(qū)動控制。本實(shí)施方式中與真空泵81連接，通過驅(qū)動該真空泵81從 而能夠在吸引孔21a中產(chǎn)生負(fù)壓。
接下來，參照圖5所示的流程圖，關(guān)于該涂敷裝置的動作進(jìn)行說明。
首先，在步驟Sl中，進(jìn)行基板10的搬入。具體地說，以從工作臺 21表面突出多個(gè)升降銷的狀態(tài)待機(jī)，利用沒有圖示的機(jī)器手在升降銷的前 端部分載置基板10。
接下來，在步驟S2中，在工作臺21上載置基板10。具體地說，從 基板10載置在升降銷前端部分的狀態(tài)，下降升降銷，將基板10載置在工作臺21表面。此時(shí)，利用沒有圖示的定位機(jī)構(gòu)將基板10定位在規(guī)定位置。
接下來，經(jīng)過步驟S3 S5，基板10被保持在工作臺21上。首先，經(jīng) 過步驟S3，進(jìn)行基板吸附動作，基板10被吸附在工作臺21上。具體地 說，在主閥51a及副閥52a成為打開狀態(tài)的狀態(tài)下，驅(qū)動真空泵81進(jìn)行 高速排氣，從而在吸引孔21a內(nèi)迅速產(chǎn)生吸引力。g口，管道50內(nèi)的大氣 經(jīng)由真空泵81從主管道50被迅速吸引，從而在吸引孔21a中迅速產(chǎn)生負(fù) 壓，瞬間基板10就被吸附到工作臺21上。
然后，判定管道50內(nèi)的壓力是否達(dá)到初始壓(步驟S4)。具體地說 是判定壓力計(jì)53是否達(dá)到初始壓，當(dāng)沒有達(dá)到初始壓時(shí)，沿否方向行進(jìn)， 繼續(xù)進(jìn)行基板吸附動作。
. 另外，當(dāng)壓力計(jì)53達(dá)到了初始壓時(shí)，向是方向行進(jìn)，進(jìn)行基板的吸 附保持動作(步驟S5)。具體地說，主閥51a從打開狀態(tài)切換成關(guān)閉狀態(tài)。 即，真空泵81和吸引孔21a被隔斷，吸引孔21a和真空泵81的管道路徑 只有副管道52，從而吸引孔21a中的壓力被調(diào)節(jié)成由副調(diào)壓器52b設(shè)定的 保持壓。從而，基板10以保持壓被吸附保持在工作臺21上。
接下來，在步驟S6中進(jìn)行涂敷動作。即，將涂敷單元30沿著特定方 向移動，并噴出涂敷液，從而在基板10表面形成涂敷膜。
接下來，在步驟S7中進(jìn)行基板10的取出。g卩，經(jīng)過S6的涂敷動作 在基板IO表面形成涂敷膜后，停止真空泵81，使吸引孔21a中的壓力恢 復(fù)成大氣壓。然后，上升升降銷，從而以升降銷的前端部分保持基板10， 在沒有圖示的機(jī)器手上進(jìn)行基板10的交接，從工作臺21表面排出基板10。
根據(jù)這樣的涂敷裝置及其基板保持方法，在吸附載置在工作臺21上的 基板10時(shí)，在吸引孔21a中產(chǎn)生負(fù)壓，迅速吸附，在吸附基板10的壓力達(dá) 到初始壓后，利用所述壓力調(diào)節(jié)部41調(diào)節(jié)成小于初始壓的保持壓，從而能 夠?qū)⑽降幕?0保持在工作臺21上。因而，在利用涂敷單元30往基板10
上涂敷涂敷液時(shí)，能夠在依靠小于初始壓的保持壓吸附保持的基板io上進(jìn)
行涂敷，從而與現(xiàn)有那樣以吸附載置在工作臺21上的基板10的初始壓的狀 態(tài)進(jìn)行涂敷的情況相比，能夠抑制在與吸引孔21a相當(dāng)?shù)牟糠之a(chǎn)生涂敷不 均。另外，形成依靠小于初始壓的保持壓將基板10保持在工作臺21上的構(gòu) 成，也能夠在吸附基板10之際高速地產(chǎn)生初始壓，從而能夠消除涂敷裝置作業(yè)周期長期化的問題。
另外，上述實(shí)施方式中，關(guān)于設(shè)置主管道51和副管道52并對這些管道 路徑進(jìn)行切換、由此切換初始壓和保持壓的例子進(jìn)行了說明，不過，也可
以采用只配備具有主閥51a和調(diào)壓器的l個(gè)管道50，通過控制該調(diào)壓器的調(diào) 節(jié)從而切換初始壓和保持壓的構(gòu)成。根據(jù)該構(gòu)成，與上述實(shí)施方式相比， 盡管切換初始壓和保持壓要費(fèi)時(shí)，但是由于管道路徑只有l(wèi)個(gè)，從而形成 一種在涂敷裝置整體的空間上有優(yōu)勢的構(gòu)成。
權(quán)利要求
1. 一種涂敷裝置，具備載置基板的工作臺；在所述工作臺的表面形成的吸引孔中產(chǎn)生吸引力并將基板吸附保持在工作臺的表面的基板保持裝置；和相對于保持在所述工作臺的表面的基板相對移動且噴出涂敷液的涂敷單元，所述涂敷裝置的特征在于，所述基板保持裝置具有能夠調(diào)節(jié)對基板的吸引力的壓力調(diào)節(jié)部，該壓力調(diào)節(jié)部能夠調(diào)節(jié)成初始壓和保持壓，所述初始壓吸附剛剛載置在工作臺的表面的基板，在利用該初始壓吸附基板之后，所述保持壓維持基板保持在工作臺的表面的狀態(tài)，該保持壓設(shè)定成小于所述初始壓。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的涂敷裝置，其特征在于， 所述基板保持裝置具備在所述吸引孔中產(chǎn)生吸引力的吸引力產(chǎn)生裝置和將該吸引力產(chǎn)生裝置與所述吸引孔連通連接的管道，所述壓力調(diào)節(jié)部 分別具備調(diào)節(jié)成所述初始壓的管道路徑和調(diào)節(jié)成所述保持壓的管道路徑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂敷裝置，其特征在于，在與所述吸引孔連接的附近的管道上配備壓力計(jì)，在該壓力計(jì)達(dá)到初 始壓時(shí)調(diào)節(jié)成所述保持壓。
4. 一種涂敷裝置的基板保持方法，該涂敷裝置具備載置基板的工 作臺；在所述工作臺的表面產(chǎn)生吸引力并吸附保持基板的基板保持裝置； 和相對于保持在所述工作臺的表面的基板相對移動且噴出涂敷液的涂敷 單元，所述涂敷裝置的基板保持方法的特征在于，所述基板保持裝置具有壓力調(diào)節(jié)部，該壓力調(diào)節(jié)部通過調(diào)節(jié)附加給基 板的壓力能夠調(diào)節(jié)對基板的吸引力，利用該壓力調(diào)節(jié)部在使相對于吸附在工作臺的表面的基板的壓力達(dá) 到規(guī)定的初始壓后，調(diào)節(jié)成小于該初始壓的保持壓來保持基板。
全文摘要
一種將吸附基板的吸引力設(shè)定成不會產(chǎn)生涂敷不均的程度時(shí)也能夠抑制涂敷裝置作業(yè)周期長期化的涂敷裝置及其基板保持方法。這種涂敷裝置具備在工作臺的表面形成的吸引孔中產(chǎn)生吸引力、將基板吸附保持在工作臺的表面的基板保持裝置和相對于基板相對移動且噴出涂敷液的涂敷單元，基板保持裝置具有通過調(diào)節(jié)對基板附加的壓力從而能夠調(diào)節(jié)對基板的吸引力的壓力調(diào)節(jié)部，該壓力調(diào)節(jié)部能夠調(diào)節(jié)成初始壓和保持壓，初始壓是吸附剛剛載置在工作臺的表面的基板，保持壓是在利用該初始壓吸附基板后、維持基板保持在工作臺的表面的狀態(tài)，該保持壓設(shè)定成小于所述初始壓。
文檔編號B05C5/02GK101439329SQ20081017811
公開日2009年5月27日 申請日期2008年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月21日
發(fā)明者伊藤禎彥, 森俊裕 申請人:東麗工程株式會社