具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方法
【專利說(shuō)明】具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方 法
[0001]
技術(shù)領(lǐng)域
[0002] 本發(fā)明屬于有機(jī)和無(wú)機(jī)合成技術(shù)領(lǐng)域，涉及述四苯乙烯四三唑鎘配合物 {[Cd(L) ?. 5 (ipa) (H20) ] ? 2H20}n (1)(L= 1，1，2, 2-四[4-(1H-1，2, 4-三氮唑-1-基）苯 基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）的制備方法及作為潛在的熒光材料的應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0003] 1，2, 4-三唑及其衍生物兼有吡唑和咪唑的配位特點(diǎn)，是配位能力較強(qiáng)的橋連配 體，目前已合成并表征了大量的單核、多核和多維化合物。這些配體能夠以1，2位上的氮原 子與金屬離子配位形成Nl，N2-橋連模式，對(duì)于4位未取代的1，2, 4-三唑衍生物能通過(guò)2, 4 位上的氮原子形成N2,N4-橋連模式，這種N2,N4-橋連模式同金屬酶中咪唑的Nl，N3-橋連 模式類似。對(duì)于三唑類化合物的特殊用途還表現(xiàn)在分子器件化的設(shè)計(jì)上，合成具有不同維 數(shù)的金屬配合物乃是完成器件化至關(guān)重要的一步。
[0004] 本發(fā)明即是采用"溶劑熱法"，即L、ipa、Cd(N03)2 ? 6H20、水和DMF在90 °C下 反應(yīng)三天后緩慢降至室溫得到適合X-射線單晶衍射的黃色塊狀晶體{{[Cd(L)a5(ipa) (H20)] ? 2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_ 四[4-(lH-l，2,4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa= 間苯二甲酸）。該配合物還可作為潛在的熒光材料方面得以應(yīng)用。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)a5(ipa) (聊? 2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_ 四[4-(lH-l，2,4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa= 間苯二甲酸）單晶及其制備方法。
[0006] 為此本發(fā)明人提供了如下的技術(shù)方案： 四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q5(ipa)(H20)]*2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_ 四 [4-(lH_l，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）的結(jié)構(gòu)基元如圖1所示。
[0007] 本發(fā)明進(jìn)一步公開(kāi)了四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H20)] ? 2H20}n (1)(L= 1，1，2,2_四[4-(lH-l，2,4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸） 單晶，其特征在于該單晶結(jié)構(gòu)采用APEXIICCD單晶衍射儀，使用經(jīng)過(guò)石墨單色化的Moka 射線（入=0. 71073A)為入射輻射，以《-2 〃掃描方式收集衍射點(diǎn)，經(jīng)過(guò)最小二乘法修正 得到晶胞參數(shù)，從差值傅立葉電子密度圖利用SHELXL-97直接法解得單晶數(shù)據(jù)： 表1.配合物1的晶體學(xué)數(shù)據(jù)
【主權(quán)項(xiàng)】
1?四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H2O)] *2H20}n (1)的結(jié)構(gòu)基元如圖1所 示： L= 1，1，2, 2_四[4-(lH-l，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸。
2.權(quán)利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物的單晶，其特征在于該單晶結(jié)構(gòu)采用APEX IIC⑶單晶衍射儀，使用經(jīng)過(guò)石墨單色化的Moka射線（入=0.71073A)為入射輻射，以 ?-2 〃掃描方式收集衍射點(diǎn)，經(jīng)過(guò)最小二乗法修正得到晶胞參數(shù)，從差值傅立葉電子密度 圖利用軟件解出單晶數(shù)據(jù)： 表1.配合物1的晶體學(xué)數(shù)據(jù)
3?權(quán)利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H2O)] ? 2H20}n (I)(L=1，1，2, 2-四[4-(1H-1，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）的制備方 法，其特征在于它是采用"溶劑熱法"，即L、ipa、Cd(NO3)2 ? 6H20、水和DMF在90 °C下反應(yīng) 三天后緩慢降至室溫以制備該配合物
4?權(quán)利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)Q.5(ipa) (H2O)] *2H20}n (I)(L= 1，1，2, 2-四[4-(1H-1，2, 4-三氮唑-1-基）苯基]乙烯，ipa=間苯二甲酸）作為潛在的 熒光材料方面的應(yīng)用。
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方法，其中四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)0.5(ipa)(H2O)]·2H2O}n (1)的結(jié)構(gòu)基元如圖1所示。同時(shí)還公開(kāi)了{(lán)[Cd(L)0.5(ipa)(H2O)]·2H2O}n (1) (L = 1,1,2,2-四[4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯基]乙烯，ipa = 間苯二甲酸)的制備方法。它是采用“溶劑熱法”，即L、ipa、Cd(NO3)2·6H2O、水和DMF在90 oC下反應(yīng)三天后緩慢降至室溫得到適合X-射線單晶衍射的黃色塊狀晶體。本發(fā)明進(jìn)一步公開(kāi)了四苯乙烯四三唑鎘配合物作為潛在的熒光材料方面的應(yīng)用。
【IPC分類】C09K11-06, C07F3-08
【公開(kāi)號(hào)】CN104628752
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510087998
【發(fā)明人】王英
【申請(qǐng)人】天津師范大學(xué)
【公開(kāi)日】2015年5月20日
【申請(qǐng)日】2015年2月26日