專利名稱：二甲苯異構(gòu)化方法及其催化劑的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及二甲苯異構(gòu)化方法及其催化劑。
背景技術(shù)：
二甲苯的平衡混合物含有至少約24%對二甲苯(PX)，56%間二甲苯(MX)，和20%鄰二甲苯(OX)。與MX和OX相比，PX具有相對高的價值，且期望異構(gòu)化OX和/或MX成PX，例如異構(gòu)化貧含PX的物流到平衡以供PX回收。這是活躍的研究領(lǐng)域。典型地，在化學(xué)或石化工廠中發(fā)現(xiàn)的二甲苯物流還含有乙苯(EB)。在高溫(例如400°C)下，在蒸氣相中操作的常規(guī)異構(gòu)化技術(shù)異構(gòu)化二甲苯并使EB脫烷化成苯。其他蒸氣相異構(gòu)化技術(shù)除了二甲苯異構(gòu)化以外，還將EB轉(zhuǎn)化成二甲苯。還存在液相異構(gòu)化技術(shù)。常規(guī)的異構(gòu)化技術(shù)典型地產(chǎn)生顯著量(>0.5mol%)的副產(chǎn)物，例如苯和A9+(具有大于或等于9個碳原子的芳烴)。因此，需要安裝塔頂和/或尾料蒸餾塔，減少副產(chǎn)物的濃度。在許多情況下，安裝新的蒸餾塔是不可行的，因?yàn)槭艿浇?jīng)濟(jì)和/或物理局限。大多數(shù)異構(gòu)化技術(shù)還要求高的氫氣分壓，以維持催化劑的活性，這使得工藝布局復(fù)雜且昂貴。U. S. 6，180，550教導(dǎo)了在液相異構(gòu)化二甲苯中有用的ZSM-5。所使用的沸石具有小于 20 的 Si02/A1203 比。U. S. 6，448，459教導(dǎo)了在模擬移動床吸附分離單元中，在用甲苯作為解吸劑稀釋的液相中，在沒有氫氣情況下的異構(gòu)化。在液相異構(gòu)化中所使用的催化劑據(jù)說是沸石，例如ZSM-5，和在實(shí)施例中，規(guī)定了不存在氫。U. S. 6, 872, 866教導(dǎo)了使用沸石-基催化劑體系，優(yōu)選基于沸石β和基于五娃環(huán)沸石的沸石-基催化劑體系，兩段、液相或部分液相的異構(gòu)化方法。這一專利還列出了現(xiàn)有技術(shù)的催化劑體系的許多實(shí)例，其中包括ZSM-5。U. S. 7，244，409教導(dǎo)了小的微晶ZSM-5，它可用于異構(gòu)化反應(yīng)。U. S. 7，371，913教導(dǎo)了進(jìn)一步含Ga的ZSM-5分子篩用作異構(gòu)化催化劑，以供在基本上不存在氫氣的情況下，在液相中提供增加量的ΡΧ。認(rèn)為所存在的氫氣量小于O. 05，優(yōu)選小于O. Olmol H2/mol原料。U. S. 7，495，137教導(dǎo)了兩段異構(gòu)化體系，其中第一區(qū)使用不含鉬的催化劑，在不存在氫氣的情況下操作(與上述專利一樣)，和第二區(qū)使用含分子篩和鉬族金屬組分的催化齊U。第一區(qū)內(nèi)的催化劑優(yōu)選是Ga-MFI-型沸石，和優(yōu)選用于第一區(qū)的催化劑的Si:Al比大于約10。U. S. 7，592，499教導(dǎo)了由含二甲苯和EB的烴共生產(chǎn)PX和苯乙烯的多階段方法。在第一段中，通過模擬移動床吸附分離塔，將PX與原料相分離，生產(chǎn)含EB，0X,和MX的抽余液(raffinate)。接下來，在抽余液內(nèi)的EB脫氫成苯乙烯。最終獲得含未轉(zhuǎn)化的EB，MX，和OX的物流，并優(yōu)選在液相中與異構(gòu)化催化劑接觸。該催化劑是沸石，例如ZSM-5。美國公布No. 2009-0182182教導(dǎo)了兩段異構(gòu)化方法，在基本上不存在氫氣的情況下，在液相內(nèi)的第一 段獲得中間物流。在第二段中，混合中間物流與富含萘的物流，并與異構(gòu)化催化劑接觸?！盎旧喜淮嬖跉錃狻笔侵笡]有添加游離的氫氣到原料混合物中，并且來自在前加工的任何溶解的氫氣顯著小于約O. 05mol/mol原料。第一異構(gòu)化催化劑包括分子篩，典型地Si=Al2比大于約10的硅鋁酸鹽。在給定的實(shí)例中，使用Ga源，制造用于第一和第二異構(gòu)化步驟二者的催化劑。美國公布No. 2010-0152508教導(dǎo)了至少部分在液相內(nèi)的異構(gòu)化方法，且包括從含C8和C9芳烴的原料物流中除去C9芳烴。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，提供當(dāng)與到達(dá)該方法的原料物流相比，富含PX的產(chǎn)品的二甲苯異構(gòu)化技術(shù)。在一些實(shí)施方案中，該方法利用貧含PX的原料物流，生產(chǎn)具有平衡或近平衡二甲苯的產(chǎn)品。在一些實(shí)施方案中，該方法生產(chǎn)非常低水平的副產(chǎn)物(例如〈O. 3wt. %)。因此，不需要額外的蒸餾塔。此外，可在不存在任何氫氣或者僅僅具有低PPm水平溶解的氫氣的情況下操作該技術(shù)，從而使得它成為簡單和成本有效的方法。發(fā)明概述本發(fā)明涉及二甲苯的異構(gòu)化方法，其中包括液相異構(gòu)化，以供生產(chǎn)平衡或近平衡的二甲苯，其中該方法的條件包括小于295°C的溫度和足以維持二甲苯在液相內(nèi)的壓力。在一些實(shí)施方案中，液相異構(gòu)化方法利用含ZSM-5和/或MCM-49的催化劑。在一些實(shí)施方案中，可按照連續(xù)模式，采用在原料內(nèi)低ppm水平的H2，操作該方法，和在其他實(shí)施方案中，以循環(huán)模式，在原料內(nèi)沒有氫氣，但在周期性再生的情況下，操作該方法。在一些實(shí)施方案中，按照連續(xù)模式，采用4-10ppm H2，在小于295°C的溫度和足以維持二甲苯在液相內(nèi)的總壓力下，操作該方法。在一些實(shí)施方案中，以循環(huán)模式，在原料內(nèi)沒有氫氣，但在周期性再生的情況下，使用在原料內(nèi)大于5ppm H2，在一些實(shí)施方案中，在原料內(nèi)至少IOppm H2，在其他實(shí)施方案中，在原料內(nèi)至少20ppm H2，操作該方法。本發(fā)明的目的是提供二甲苯異構(gòu)化方法，其中包括液相異構(gòu)化方法，其與常規(guī)的二甲苯異構(gòu)化方法相比，所述液相異構(gòu)化方法提供選自低投資、低操作成本、低副產(chǎn)物產(chǎn)率和低二甲苯損失中的至少一個優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明的另一目的是提供液相二甲苯異構(gòu)化方法，該方法使用最多僅僅低ppm水平的氫氣，和在一些實(shí)施方案中，該方法可通過非常簡單的原位工序多次再生。參考下述詳細(xì)說明，優(yōu)選實(shí)施方案，實(shí)施例和所附的權(quán)利要求，本發(fā)明的這些和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)將變得顯而易見。附圖
簡述圖IA和IB闡述了對于本發(fā)明的液相二甲苯異構(gòu)化方法的實(shí)施方案來說，ZSM-5和MCM-49沸石的催化活性。圖2闡述了對于本發(fā)明的液相二甲苯異構(gòu)化方法的實(shí)施方案來說，ZSM-5沸石的晶體尺寸和二氧化硅/氧化鋁之比的影響。圖3闡述了對于本發(fā)明的液相二甲苯異構(gòu)化方法的實(shí)施方案來說，擠出物的沸石含量的影響。詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明，提供二甲苯異構(gòu)化的方法，該方法包括在小于295°C的溫度和足以維持二甲苯在液相內(nèi)的壓力下，液相異構(gòu)化二甲苯。在一些實(shí)施方案中，該方法利用含沸石，優(yōu)選含選自ZSM-5和MCM-49中的至少一種沸石的催化劑。在一些實(shí)施方案中，該方法利用含ZSM-5以及粘合劑的催化劑，或者ZSM-5可以自粘結(jié)。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，催化劑的特征在于一個或更多個下述特征· ZSM-5 為質(zhì)子形式(HZSM-5)；· ZSM-5的晶體尺寸小于O. I微米；· ZSM-5的中孔表面積(MSA)大于45m2/g ；· ZSM-5中沸石表面積(ZSA)與中孔表面積(MSA)之比小于9 ； 二氧化硅與氧化鋁的重量比范圍為20-50。此處所使用的“晶體尺寸”是指平均晶體尺寸且常規(guī)地通過電子顯微鏡測定，這是本領(lǐng)域眾所周知的。也可通過本領(lǐng)域眾所周知的方法測定表面積?？墒褂酶鞣N技術(shù),例如擠出，造粒，油滴落(oil dropping)，噴霧干燥，和類似技術(shù)，配制催化劑，這些技術(shù)本身是本領(lǐng)域眾所周知的。任選地，可在配制劑中使用粘合劑材料，例如氧化鋁，二氧化硅，粘土，硅鋁酸鹽。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，催化劑的特征在于相對于粘合劑，一種或更多種下述性能 沸石粘合劑的重量比為1:9-9:1 ; 粘合劑優(yōu)選包括二氧化硅，氧化鋁和硅鋁酸鹽； 優(yōu)選使用乙酸作為擠出助劑，擠出催化劑。優(yōu)選的反應(yīng)器是固定床和流動可以是向上或者向下。在一些實(shí)施方案中，可按照連續(xù)模式，采用在原料內(nèi)溶解的低ppm水平的H2，操作該方法，和在其他實(shí)施方案中，按照循環(huán)模式，在原料內(nèi)沒有H2，但在周期性再生的情況下， 操作該方法?！暗蚿pm”是指本領(lǐng)域技術(shù)人員以“ppm”為單位表達(dá),通常低于IOOppm的水平。措辭“ppm”是重量ppm(wppm),除非另有說明。在一些實(shí)施方案中，產(chǎn)生非常低水平的副產(chǎn)物，例如小于lwt%或優(yōu)選小于O. 5wt%選自非芳烴化合物，苯和A9+(具有大于或等于9個碳原子的芳烴)及其混合物中的副產(chǎn)物。該方法包括在低于295°C，優(yōu)選低于280°C的溫度下，和在足以保持反應(yīng)物在液相內(nèi)的壓力下，接觸含CS芳烴的原料物流與適合于異構(gòu)化的催化劑，優(yōu)選含MCM-49和/或ZSM-5的催化劑，優(yōu)選含ZSM-5的催化劑，和更優(yōu)選具有一個或更多個前述性能的催化劑，和最優(yōu)選所有前述性能的催化劑。擁有本發(fā)明公開內(nèi)容的本領(lǐng)域技術(shù)人員能確定其他操作特征，例如可在其內(nèi)實(shí)踐本發(fā)明的較低溫度。下限可以例如高于180°C或190°C或200°C，或210°C，和類似溫度。可由擁有本發(fā)明公開內(nèi)容的本領(lǐng)域技術(shù)人員選擇流速，但可有利地在1-100WHSV,優(yōu)選1-20WHSV,和更優(yōu)選1-10WHSV范圍內(nèi)選擇。
下述實(shí)施例擬例舉本發(fā)明，且不打算限制。在一個實(shí)施方案中，將貧含PX的二甲苯原料物流喂入到至少一個反應(yīng)器內(nèi)。對于本發(fā)明的目的來說，“貧含PX”是指小于平衡量的對二甲苯，即小于24mol% PX，基于100mol%的二甲苯原料物流。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，原料物流包括2-18mol% PX，基于100mol%的二甲苯原料物流。在優(yōu)選的實(shí)施方案中，在二甲苯原料物流內(nèi)不存在H2。難以采用任何精度在低ppm水平下測量在二甲苯原料物流內(nèi)的H2 (這可通過諸如通常已知的GC技術(shù)之類的方法嘗試)，因此，此處所使用的措辭"沒有H2"是指H2沒有超出不可避免的雜質(zhì)范圍，且還指在這些原料物流內(nèi)沒有有目的地添加H2。也可視需要，采用惰性氣體，例如N2凈化原料物流，從“不可避免的雜質(zhì)”中降低H2的水平。此處還使用的措辭“不含H2”擬指與〃不具有H2"相同的含義。在一些實(shí)施方案中，對于本發(fā)明的目的來說，“不含H2 ”的原料物流含有小于或等于4ppm H2是足夠的。在連續(xù)模式中所使用的低ppm量的H2優(yōu)選是大于4ppm至約
IOppm(相當(dāng)于O. 00001摩爾H2/摩爾二甲苯)。然而，H2量可以更高,例如50或lOOppm。在實(shí)踐中，實(shí)現(xiàn)低ppm水平H2的一種方式是通過控制加入到〃不含H2的物流〃內(nèi)的H2量。例如，我們可知道一種物流不含H2,因?yàn)槲覀冎浪?jīng)歷了何種上游加工，例如容易去掉H2物流的蒸餾。然后，通過仔細(xì)地控制添加H2的多少，我們將知道最終的H2量。反應(yīng)器可以是任何類型，例如固定床反應(yīng)器，流化床反應(yīng)器，致密床反應(yīng)器和類似物。例如，反應(yīng)器可以是填充有適合于異構(gòu)化C8芳烴的催化劑，更優(yōu)選含HZSM-5或MCM-49的催化劑的管式固定床反應(yīng)器。原料物流可以采用或者向上流或者向下流模式流經(jīng)反應(yīng)器?？稍诘陀?95°C下，在O. 1-100WHSV(重時空速度)范圍內(nèi)的流速下，和足夠高到在反應(yīng)器內(nèi)保持原料物流在液相內(nèi)的壓力下，操作這一反應(yīng)器，且有利地維持，以便實(shí)現(xiàn)低的副產(chǎn)物產(chǎn)率。擁有本發(fā)明公開內(nèi)容的本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在沒有超過常規(guī)實(shí)驗(yàn)的情況下，可實(shí)現(xiàn)這些條件。一旦溫度設(shè)定，則本領(lǐng)域的技術(shù)人員可基于二甲苯VLE (蒸氣-液體-平衡)數(shù)據(jù)，確定使用何種壓力使之保持在液相內(nèi)。作為實(shí)例，且在不打算限制的情況下，在一些實(shí)施方案中，壓力可以高于IOOpsia,或優(yōu)選高于150psia。取決于操作條件，催化劑可顯示出低的失活。本發(fā)明的發(fā)明人還預(yù)料不到地發(fā)現(xiàn)，在二甲苯原料中，低ppm水平溶解的氫氣可完全減少這種失活。因此，人們可采用不含H2的二甲苯原料操作反應(yīng)器一段時間，或者其時間長度取決于操作者的操作參數(shù)的選擇，和在操作的最后，在相同的操作條件下，用含有H2的二甲苯原料替代不含H2的二甲苯原料。因此，在這一實(shí)施方案中，有目的地將H2加入到原料中。僅僅低ppm的水平是需要的。盡管如上所述，GC技術(shù)在精確地測量CS芳烴原料物流內(nèi)的H2水平方面不是特別好，可基于H2- 二甲苯的VLE，估計在這一水平下H2的存在。對于本發(fā)明的目的來說，當(dāng)“不含H2”的原料物流定義為含有小于或等于O. 00005摩爾H2/摩爾二甲苯，或者小于或等于O. 00001摩爾H2/摩爾二甲苯時，含有H2的二甲苯原料應(yīng)當(dāng)分別具有大于O. 00005摩爾H2/摩爾二甲苯，或者大于O. 00001摩爾H2/摩爾二甲苯。令人驚奇地發(fā)現(xiàn)，含有H2的二甲苯原料將再生催化劑，以恢復(fù)喪失的活性。再生時間段可以變化，例如I天到數(shù)周。在再生最后，操作者可用不含H2的原料替代含有H2的原料且再繼續(xù)正常的操作。這一再生技術(shù)具有至少數(shù)個優(yōu)點(diǎn)。它容易實(shí)施且成本有效。氫氣可以容易地以所要求的水平溶解在二甲苯中。作為實(shí)例，在160psia下，在室溫下將71ppm H2溶解在二甲苯中。不要求諸如分離器和再壓縮器之類的昂貴和復(fù)雜的工藝設(shè)備，而這些設(shè)備在常規(guī)的氣相異構(gòu)化技術(shù)內(nèi)對于高H2分壓來說是要求的。在與正常操作相同的條件下，采用含有H2的二甲苯原料進(jìn)行再生，這意味著甚至在再生過程中，反應(yīng)器仍然產(chǎn)生平衡或近平衡的二甲苯；因此沒有產(chǎn)量損失。在一些實(shí)施方案中，在再生到高至100%氏和0% 二甲苯的過程中，操作者可增加H2濃度且仍然實(shí)現(xiàn)目標(biāo)。在另一實(shí)施方案中，低ppm水平的H2,例如4-100ppm，優(yōu)選4_10ppm(在目前的測量技術(shù)認(rèn)可的可能的標(biāo)準(zhǔn)取樣誤差以內(nèi))溶解在二甲苯原料內(nèi)并連續(xù)通過該操作，喂入到反應(yīng)器內(nèi)。在這些水平下的H2將完全防止催化劑失活。結(jié)果，在這一實(shí)施方案中，在不需要任何終止再生的情況下，提供允許長期、連續(xù)操作的方法。除了以上列舉的優(yōu)點(diǎn)以外，在這一實(shí)施方案中，一致地高的PX產(chǎn)率總是可能的。為了更好地理解本發(fā)明，現(xiàn)參考具體實(shí)施例，這些實(shí)施例打算僅僅是本發(fā)明的代表且不應(yīng)當(dāng)被視為限制。 實(shí)施例I將獲自PQ Corporation的二氧化硅/氧化鋁之比為30的1/16"擠出的H-ZSM-5催化劑樣品粉碎成30/60目并填充在O. 180" ID x 0.625"長度的管式反應(yīng)器內(nèi)達(dá)到O. 13g的水平。然后在流動的氮?dú)庀?，?00°C下干燥催化劑10小時，除去濕氣。之后，首先在沒有溶解的氏(根據(jù)本發(fā)明，不含H2)情況下，然后在原料內(nèi)溶解的H2達(dá)到130ppm重量的水平情況下，接觸該催化劑與二甲苯原料。設(shè)定異構(gòu)化條件為280psia，232°C和3WHSV。在這些條件下，異構(gòu)化二甲苯原料，并基于產(chǎn)品分析，計算催化劑的失活或再生速度。表I中示出的結(jié)果表明，存在溶解的氫氣不僅終止催化劑失活，而且恢復(fù)并維持催化劑的活性。表I
—二甲苯原料沒有溶解的H2具有溶解的H2
PX 產(chǎn)率的變化(WtI)__-L_0__+ O. 7_
原料的累積床重0-19961996-3910_(g原料/g催化■劑)___
失活速度-5. OxIO 4
(ΔΡΧ wt%/床重)___
恢復(fù)速度 + 4. O X IO'4 (ΔΡΧ wt%/床重)___進(jìn)行額外的實(shí)驗(yàn)，以便確定本發(fā)明的范圍，其中將貧含PX的原料物流異構(gòu)化至平衡，同時最小化副產(chǎn)物的形成。在表2中列出的具有各種性能的ZSM-5沸石上和在MCM-49沸石上進(jìn)行初步的實(shí)驗(yàn)。表2
晶體晶體類型 Si02/A1203比晶體尺寸，μιη~
權(quán)利要求
1.ー種方法，它包括在反應(yīng)器內(nèi)，在包括小于295°C的溫度,和足以維持ニ甲苯在液相內(nèi)的壓カ的條件下，使含CS芳烴的原料物流與適合于ニ甲苯異構(gòu)化的催化劑接觸，和異構(gòu)化在液相內(nèi)的所述ニ甲苯以相對于所述原料物流內(nèi)的PX濃度獲得具有增加的PX濃度的產(chǎn)物物流，所述原料物流的特征在于具有不大于低ppm水平的溶解的H2,其中所述原料物流進(jìn)一步的特征在于相對于在ニ甲苯內(nèi)平衡量的PX是貧含PX的。
2.權(quán)利要求I的方法，進(jìn)ー步的特征在于以連續(xù)模式，采用含有在約4-100ppm范圍內(nèi)的低ppm水平的溶解的H2的原料物流，操作該方法。
3.權(quán)利要求I的方法，進(jìn)ー步的特征在于以連續(xù)模式，采用含有在約4-10ppm范圍內(nèi)的低ppm水平的溶解的H2的原料物流，操作該方法。
4.權(quán)利要求I的方法，進(jìn)ー步的特征在于以循環(huán)模式，采用不含H2的原料物流，操作所述方法，和進(jìn)ー步其中通過包括接觸所述催化劑與含H2的原料物流的步驟，周期性再生所述催化劑。
5.權(quán)利要求4的方法，其中所述不含H2的原料物流的特征在于含有小于4ppm溶解的H2，和所述含H2的原料物流的特征在于含有大于或等于約4ppm的溶解的H2。
6.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述催化劑包括HZSM-5和MCM-49中的至少ー種。
7.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述催化劑包括ニ氧化硅與氧化鋁的重量比(以SiO2 = Al2O3表示)為20-50的HZSM-5，所述催化劑任選地包括粘合剤。
8.權(quán)利要求7的方法，其中在有或無粘合劑的情況下，所述HZSM-5的晶體尺寸小于或等于O. I微米。
9.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述反應(yīng)器溫度小于280°C。
10.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述反應(yīng)器選自固定床反應(yīng)器、流化床反應(yīng)器、致密床反應(yīng)器、和模擬移動床反應(yīng)器。
11.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述原料物流在1-10WHSV的流速下接觸所述催化劑。
12.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中采用向上流操作模式進(jìn)行所述接觸。
13.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中采用向下流操作模式進(jìn)行所述接觸。
14.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述催化劑包括10wt%-90wt%的HZSM-5沸石。
15.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，所述催化劑包括選自氧化鋁、ニ氧化硅、粘土和硅鋁酸鹽中至少ー種的粘合劑，和/或優(yōu)選其中所述粘合劑的用量為10-90wt%，基于所述催化劑的重量。
16.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述催化劑包括使用選自こ酸的至少ー種擠出助劑，通過選自擠出、造粒、油滴落、或噴霧干燥中的方法形成的HZSM-5。
17.前述權(quán)利要求任何ー項(xiàng)的方法，其中所述催化劑包括特征在于至少ー個，和優(yōu)選所有下述特征的HZSM-5 平均晶體尺寸小于O. I微米；中孔表面積(MSA)大于45m2/g ； 沸石表面積(ZSA)與中孔表面積(MSA)之比小于9 ; 以重量計，ニ氧化硅/氧化鋁之比20-50，優(yōu)選20-30。
18.ー種含H-ZSM-5的催化劑，進(jìn)ー步的特征在于至少ー個和優(yōu)選所有下述特征 平均晶體尺寸小于O. I微米；中孔表面積(MSA)大于45m2/g ； 沸石表面積(ZSA)與中孔表面積(MSA)之比小于9 ; 且任選地包括粘合劑。
19.權(quán)利要求18的催化劑，進(jìn)一歩包括選自氧化鋁、ニ氧化硅、粘土和硅鋁酸鹽中至少一種的粘合劑。
20.權(quán)利要求18-19任何ー項(xiàng)的催化劑，它在反應(yīng)器內(nèi)，在低于295°C的溫度下與含C8芳烴和4-10ppm水平的H2的原料物流接觸。
全文摘要
本發(fā)明涉及生產(chǎn)平衡或近平衡的二甲苯的二甲苯異構(gòu)化方法。該方法利用含HZSM-5或MCM-49的催化劑以及包括小于295℃的溫度和足以維持二甲苯在液相內(nèi)的壓力下的工藝條件。在一些實(shí)施方案中，可按照連續(xù)模式，在原料內(nèi)采用ppm水平的溶解的H2，操作該方法，和在其他實(shí)施方案中，按照循環(huán)模式，在原料內(nèi)不具有H2，但使用低ppm水平H2的原料，在周期性再生的情況下，操作該方法。
文檔編號C07C5/27GK102858722SQ201180019774
公開日2013年1月2日 申請日期2011年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月21日
發(fā)明者J·D·Y·奧, A·D·羅斯, D·雷文, M·卡爾亞納拉曼, W·F·萊 申請人:?？松梨诨瘜W(xué)專利公司