本實(shí)用新型涉及一種鍍膜材料的制備系統(tǒng)，具體涉及一種高折射率真空燒結(jié)材料的制備系統(tǒng)，屬于冶金技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

隨著照相技術(shù)的提升和電子產(chǎn)品的普及，攝像機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、手機(jī)、安防攝像機(jī)成為人們生活的必需品。而這些必須品都必須用到攝像鏡頭，而這些鏡頭不可避免的會(huì)應(yīng)用到高、低折射率鍍膜材料的鍍膜技術(shù)。

在現(xiàn)有鍍膜材料制備過(guò)程中，研磨一般采用微型混料機(jī)，僅僅只能讓混合物顆粒更均勻，但是不能讓混合物顆粒晶粒更細(xì)化，也不能去除混合物中內(nèi)部團(tuán)聚結(jié)構(gòu)。另外，在高溫?zé)Y(jié)和真空燒結(jié)中，經(jīng)常出現(xiàn)因?yàn)閮?nèi)部不均勻受熱，導(dǎo)致折射率不穩(wěn)定的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供一種高折射率真空燒結(jié)材料的制備方法，在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上，通過(guò)氧化鋯球的研磨，解決了讓混合物顆粒晶粒更細(xì)化，也能去除混合物中內(nèi)部團(tuán)聚結(jié)構(gòu)，不影響混合物在燒結(jié)工藝中的結(jié)合。同時(shí)，通過(guò)燒結(jié)模具的擺放，解決了內(nèi)部不均勻受熱的問(wèn)題，成品折射率的問(wèn)題得到極大的提高。通過(guò)本實(shí)用新型公開(kāi)的一種高折射率真空燒結(jié)材料的制備方法，可提供特定的折射率為1.95-2.10的真空燒結(jié)材料。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案如下：

一種高折射率真空燒結(jié)材料的制備系統(tǒng)，包括二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置、二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置、研磨裝置、壓制成型裝置、高溫?zé)Y(jié)裝置及真空燒結(jié)裝置；二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置包括200目篩網(wǎng)和混料機(jī)；所述壓制成型裝置為20t壓片機(jī)；所述高溫?zé)Y(jié)裝置為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結(jié)爐，所述高溫?zé)Y(jié)裝置內(nèi)有高溫?zé)Y(jié)模具,所述高溫?zé)Y(jié)模具優(yōu)先剛玉板；所述真空燒結(jié)裝置為真空爐，所述真空燒結(jié)裝置內(nèi)有真空燒結(jié)模具，所述真空燒結(jié)模具優(yōu)先高強(qiáng)石墨板，其特征在于：所述研磨裝置包括球磨罐，5目篩網(wǎng)和氧化鋯球；所述高溫?zé)Y(jié)模具和所述真空燒結(jié)模具的擺放按照疊加的方式擺放。其具體工藝步驟為：

步驟一、二氧化鋯粉末：純度99.95以上，D50=0.5-3μm，正態(tài)分布；五氧化二鉭粉末：純度99.99%以上，D50=3-8μm，正態(tài)分布。

步驟二、將二氧化鋯：五氧化二鉭按照質(zhì)量比為85：15%-95：5%混合，人工攪拌后，通過(guò)200目篩網(wǎng)混合過(guò)篩5次，并通過(guò)混料機(jī)混料8小時(shí)。

步驟三、將過(guò)篩后的粉末按1：0.1-1的質(zhì)量比加入8%的聚乙烯醇水溶液，其混合后重量稱為材料重量。

步驟四、在步驟三制成的混合物中加入等質(zhì)量的氧化鋯球，氧化鋯球的質(zhì)量比為（25mm球：18mm球：12mm球=1:1:1），加入到球磨罐中，研磨6-12小時(shí)，形成混合物顆粒晶粒更細(xì)化。

步驟五、用5mm篩網(wǎng)過(guò)篩出氧化鋯球，得到具有一定粘合力的固液混合物。

步驟六、將固液混合物通過(guò)20t壓片機(jī)壓制成片狀材料，成型壓力1-2Mpa，可使固液混合物壓成片狀規(guī)格材料，成型后，材料密度需控制在在3.5-3.7g/cm³。

步驟七、將步驟六壓制成的片狀材料通過(guò)1300℃硅碳棒高溫大氣燒結(jié)爐，高溫?zé)Y(jié)裝置內(nèi)有高溫?zé)Y(jié)模具,高溫?zé)Y(jié)模具優(yōu)先剛玉板，將步驟六壓制成的片狀材料依次平放在高溫?zé)Y(jié)模具中，保證在高溫?zé)Y(jié)過(guò)程中能夠均勻受熱，高溫?zé)Y(jié)模具擺放方式按照疊加的方式擺放。

燒結(jié)溫度曲線如下：

0-850℃，升溫速率1-3℃/min；

850-1000℃，升溫速率1-2℃/min；

1000℃，保溫120min；

自然降溫100℃以下出爐。

出爐后得到白色片狀的燒結(jié)態(tài)鋯鉭半成品。

步驟八、將步驟七制成的白色片狀的燒結(jié)態(tài)鋯鉭半成品通過(guò)真空燒結(jié)裝置，真空燒結(jié)裝置內(nèi)有真空燒結(jié)模具, 真空燒結(jié)模具優(yōu)先高強(qiáng)石墨板，將步驟七制成的白色片狀的燒結(jié)態(tài)鋯鉭半成品依次平放在真空燒結(jié)模具中，保證在真空燒結(jié)過(guò)程中能夠均勻受熱，真空燒結(jié)模具擺放方式按照疊加的方式擺放。

真空燒結(jié)溫度曲線如下：

真空度：1×10^-1pa以下；

1450-1550℃，升溫速率2-15℃/min；

1450-1550℃，保溫2-5h；

自然降溫100℃以下出爐。

出爐后得到灰黑色片狀、密度為5.0-5.6g/cm³、折射率為1.95-2.10鋯鉭鍍膜材料。

本實(shí)用新型具有如下有益效果：通過(guò)氧化鋯球的研磨，解決了讓混合物顆粒晶粒更細(xì)化的問(wèn)題，也能去除混合物中內(nèi)部團(tuán)聚結(jié)構(gòu)，不影響混合物在燒結(jié)工藝中的結(jié)合。同時(shí)，通過(guò)燒結(jié)模具的擺放，解決了內(nèi)部不均勻受熱的問(wèn)題，成品折射率的問(wèn)題得到極大的提高。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型一種高折射率真空燒結(jié)材料的制備方法的流程圖；

圖2為高溫?zé)Y(jié)模具或真空燒結(jié)模具擺放方式。

圖中附圖標(biāo)記表示為：

1-二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置、2-二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置、21-200目篩網(wǎng)、22-混料機(jī)、3-研磨裝置、31-球磨罐、32-5目篩網(wǎng)、33-氧化鋯球、4-壓制成型裝置、41-20t壓片機(jī)、5-高溫?zé)Y(jié)裝置、51-1300℃硅碳棒高溫大氣燒結(jié)爐、52-高溫?zé)Y(jié)模具、6-真空燒結(jié)裝置、61-真空爐、62-真空燒結(jié)模具。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例來(lái)對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)的說(shuō)明。

參見(jiàn)圖1，一種高折射率真空燒結(jié)材料的制備系統(tǒng)，包括二氧化鋯-五氧化二鉭特定配比混合裝置1、二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置2、研磨裝置3、壓制成型裝置4、高溫?zé)Y(jié)裝置5及真空燒結(jié)裝置6；二氧化鋯-五氧化二鉭篩選裝置2包括200目篩網(wǎng)21和混料機(jī)22；所述壓制成型裝置4為20t壓片機(jī)41；所述高溫?zé)Y(jié)裝置5為1300℃硅碳棒高溫大氣燒結(jié)爐51，所述高溫?zé)Y(jié)裝置5內(nèi)有高溫?zé)Y(jié)模具52,所述高溫?zé)Y(jié)模具52優(yōu)先剛玉板；所述真空燒結(jié)裝置6為真空爐61，所述真空燒結(jié)裝置6內(nèi)有真空燒結(jié)模具62,所述真空燒結(jié)模具62優(yōu)先高強(qiáng)石墨板，所述研磨裝置3包括球磨罐31，5目篩網(wǎng)32和氧化鋯球33；所述高溫?zé)Y(jié)模具52和所述真空燒結(jié)模具62的擺放按照疊加的方式擺放。

以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。