本發(fā)明涉及了陶瓷技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及了一種夜光除臭陶瓷釉及其制備方法。
背景技術(shù)：
細菌，霉菌作為病原菌對人類和動植物有很大危害，影響人們的健康甚至危及生命，帶來了重大的經(jīng)濟損失。因此抗菌材料及其制品的研究日益引起人們的關(guān)注，抗菌制品的需求將構(gòu)成巨大的市場。
墻磚，無論家居室內(nèi)裝飾，或是用于工業(yè)生產(chǎn)或公共場所，在滿足外觀實用之余，如何使其具備更多關(guān)乎人們健康保障方面的功能，也是業(yè)界科研工作者順應(yīng)時代潮流和生活風(fēng)向標(biāo)而做出的思考。
在現(xiàn)有墻磚等建筑裝飾材料中，目前也鮮有報道關(guān)于均勻性較好的穩(wěn)定的抗菌功能的陶瓷釉，若簡單的添加抗菌劑，由于高溫熔制工藝，使得抗菌穩(wěn)定性減弱，甚至可能失去抗菌效果?，F(xiàn)有的陶瓷材料一般是單一功能的產(chǎn)品，即一種產(chǎn)品不具備多項功能，這極大限制了其應(yīng)用范圍，雖然也有采用兩種功能劑進行搭配，但效果仍不理想，還有待進一步提高。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
為了解決上述現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種夜光除臭陶瓷釉及其制備方法。
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題通過以下技術(shù)方案予以實現(xiàn)：
一種夜光除臭陶瓷釉及其制備方法，該制備方法包括以下步驟：先制備夜光除臭釉漿，再經(jīng)施釉、燒結(jié)制得夜光除臭陶瓷釉；其中，夜光除臭釉漿的制備方法如下：按質(zhì)量百分比計，將25~35％低溫熔塊、30~40％鉀長石、10~20％石英、3~6％方解石、3~6％滑石、2~5％磷酸鈣、1~5%高嶺土、5~10%煅燒土混合得到混合粉末，向混合粉末中加入功能劑并混合均勻，其中所述功能劑的加入量為混合粉末質(zhì)量的3~10%，細磨至300~350目，然后加入水得釉漿并調(diào)制釉漿比重為1.6~1.7g/cm3，即得夜光除臭陶瓷釉漿。
其中，所述低溫熔塊的質(zhì)量百分比組成為：6～10%硝酸鉀、5～10%石英、12～15%鉀長石、3～8%鈉長石、10～12%鋰輝石、30～35%硼酸、3～5%碳酸鋇、5～8%螢石、1～3%高嶺土、2～5%氟化鈉及5~10%功能劑。
其中，
在本發(fā)明中，所述功能劑可以通過如下方法制得：
（1）稱取0.3~1gC60粉末，量取80~100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以500~600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1~3g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)3~5h；快速加入100~150ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析3~5天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100~150rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照30~60min，激光輻照功率為0.5~2W；備用；
（2）超聲攪拌50~60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.001~0.01mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.1~0.5mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2~3:1），超聲攪拌10~20min；逐滴加入0.5~1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取1~3gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于80~120ml水溶液中；逐滴加入濃度為0.005~0.05mol/L硝酸鈰水溶液，30~60min后逐滴加入濃度為0.005~0.05mol/L硝酸鋅水溶液，GQDs/Ag2O水溶液、硝酸鈰水溶液與硝酸鋅水溶液體積比為1:0.1~0.2:0.2~0.4；繼續(xù)超聲攪拌，調(diào)節(jié)混合溶液PH值至7.0；邊超聲攪拌，邊加入4~8mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在30~40℃下還原反應(yīng)0.5~1h；之后，再加入40~50mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在85℃下還原反應(yīng)30~48h后；過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce；
（4）將0.1~0.5gGQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比3~5:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce的質(zhì)量比為3:1~3），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)30~60min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在80~90℃下干燥2~4h，以得到GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；將GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2置于氬氣氣氛下進行500~800℃熱處理1~2h，冷卻至室溫后，浸沒在氫氟酸中以超聲功率100~150W進行超聲10~15min，去除表面局部二氧化硅，離心并干燥，獲得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；
（5）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2的重量比為1:1~5；10~100W超聲60~120min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3~8次（抽真空時間為20~30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.3~0.6Mpa，保壓20~30min），得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉；
（6）取抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑分散于100~200ml超純水中，超聲攪拌2~3h獲得均勻和穩(wěn)定的分散液，其中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的重量比為3~6:2~4:1~5；將具有碳納米管網(wǎng)狀膜的基板置于約8℃時，將分散液加入內(nèi)凹形狀的基板中，同時，來回滾動滾輪，使該分散液均勻分散于該碳納米管網(wǎng)狀膜中，由于碳納米管在8℃附近時具有親水性，該分散液被吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞；升溫至約25℃，碳納米管具有疏水性并將大部分水分子趕走留下吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑；去掉水分，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3~5次（抽真空時間為20~30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.3~0.6Mpa，保壓20~30min），然后將吸附有抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的碳納米管網(wǎng)狀膜刮離該基板，獲得抗菌-除臭-夜光功能劑。
在本發(fā)明中，所述功能劑還可以通過如下方法制得：
（1）稱取0.3~1gC60粉末，量取80~100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以500~600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1~3g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)3~5h；快速加入100~150ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析3~5天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100~150rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照30~60min，激光輻照功率為0.5~2W；備用；
（2）超聲攪拌50~60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.001~0.01mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.1~0.5mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2~3:1），超聲攪拌10~20min；逐滴加入0.5~1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取1~3gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于水溶液中；逐滴加入濃度為0.05~0.5g/100mlZnO量子點水溶液，超聲功率攪拌速度各減半；60~90min后，靜置，過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/ZnO；
（4）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/ZnO水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/ZnO的重量比為1:1~5；10~100W超聲60~120min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3~8次（抽真空時間為20~30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.3~0.6Mpa，保壓20~30min），得GQDs/Ag2O/ZnO/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉；
（5）取抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑分散于100~200ml超純水中，超聲攪拌2~3h獲得均勻和穩(wěn)定的分散液，其中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的重量比為3~6:2~4:1~5；將具有碳納米管網(wǎng)狀膜的基板置于約8℃時，將分散液加入內(nèi)凹形狀的基板中，同時，來回滾動滾輪，使該分散液均勻分散于該碳納米管網(wǎng)狀膜中，由于碳納米管在8℃附近時具有親水性，該分散液被吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞；升溫至約25℃，碳納米管具有疏水性并將大部分水分子趕走留下吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑；去掉水分，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3~5次（抽真空時間為20~30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.3~0.6Mpa，保壓20~30min），然后將吸附有抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的碳納米管網(wǎng)狀膜刮離該基板，獲得抗菌-除臭-夜光功能劑。
其中，所述三維海綿狀石墨烯制備方法如下：將3g 石墨粉，1g NaNO3在冰水浴中與250ml 98%濃硫酸混合均勻，緩慢加入6g KMnO4。然后升溫至在35℃，攪拌40min 后，加入95ml 去離子水，升溫至98℃反應(yīng)20min；再加入270ml 水稀釋，并用5ml 30％ H2O2中和多余KMnO4，混合溶液的顏色為棕黃色，趁熱過濾，用去離子水反復(fù)洗滌至中性，超聲分散得到GO；取200ml 質(zhì)量分數(shù)為5mg/ml的氧化石墨烯溶液倒入直徑25cm，高2cm的圓盤狀反應(yīng)皿中，加入抗壞血酸(VC)0.5g攪拌使其充分混合；然后密閉反應(yīng)皿并置于80℃水熱反應(yīng)15h，反應(yīng)皿中的氧化石墨烯自發(fā)收縮交聯(lián)成三維海綿結(jié)構(gòu)，冷凍干燥，得到柔性的三維海綿狀石墨烯。
在本發(fā)明中，所述夜光復(fù)合物的制備方法如下：氮氣環(huán)境下，將濃度為0.05~0.5mol/L的質(zhì)子酸溶液和濃度為0.05~0.5mol/L的十二烷基苯磺酸以體積比3:1~3混合，同時加入夜光粉，磁力攪拌60~120min后加入苯胺，夜光粉與苯胺質(zhì)量比為1:5~10；持續(xù)攪拌60~90min后，逐滴滴加過硫酸銨，苯胺與過硫酸銨摩爾比為1:1；20℃～30℃下反應(yīng)12~36h；丙酮、去離子水洗滌數(shù)次后真空干燥，碾磨得納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物；將1~10g納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物的質(zhì)量比為5:1~3），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)60~90min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀干燥，以得到納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2；將納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2置于氬氣氣氛下進行800~1000℃熱處理1~2h，去除聚苯胺，得夜光粉/多孔SiO2。所述夜光粉為平均粒徑低于10nm的長余輝Sr4Al14O25納米熒光粉。
在本發(fā)明中，所述除臭劑制備方法如下：混合以下重量百分比的原料：ZrO2 2~8%，TiO2 5~15%，SiO2 10~20%，V2O5 1~5%，K2O 1~5%，SnO2 1~5%，Cr2O3 1~5%，Al2O3 10~15%，F(xiàn)e2O310~15%，MgO 10~20%，Na2O 1~10%，MnO2 1~10%，投入到PUHLER公司開發(fā)的大流量循環(huán)臥式砂磨機中進行研磨，控制粒徑在10~300nm之間，得無機氧化物；將硅藻土分散在100~200ml的水溶液中，加入無機氧化物，其中所述硅藻土與無機氧化物的重量比為1:1~6，100~200W超聲100~300rpm攪拌1~2h，讓納米材料充分進入硅藻土孔隙中，多次抽濾清洗；置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3~8次（抽真空時間為20~30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.3~0.6Mpa，保壓20~30min），得除臭劑。
本發(fā)明具有如下有益效果：和現(xiàn)有陶瓷釉相比，本發(fā)明制造的陶瓷釉配料科學(xué)，制備合理，性能穩(wěn)定，而且不含有鉛鎘等劇毒物質(zhì)，同時還具有均勻的持久的光譜的抗菌特性、除臭功能以及夜光特性，進一步拓寬了陶瓷釉的應(yīng)用范圍。
本方法在三維石墨烯上負載并固定抗菌劑，不僅防止其團聚，顯著提高金屬納米粒子等抗菌劑的穩(wěn)定性，使其能更好分散在低溫熔塊及釉漿中，且具有更長效的抗菌活性以及銀離子不會溢出氧化變色；同時復(fù)合了多種抗菌劑的抗菌性能，相比于單一的銀納米抗菌劑有著更好的抗菌效果，抗菌持久，而且均勻分散性更好；無機氧化物主要成分有鎂、鋁、鐵等10 多種對人體有利的微量元素，由于它是一種結(jié)構(gòu)特殊的極性結(jié)晶體，自身能長期產(chǎn)生電離子，并永久釋放空氣負離子，達到除臭凈化空氣的效果。
本發(fā)明通過合理搭配抗菌粉、夜光復(fù)合物及除臭劑，以及分別吸附在多層網(wǎng)狀的碳納米管上，可進一步提高功能劑在陶瓷釉料中的分散均勻性和功能穩(wěn)定性。
具體實施方式
下面通過具體的優(yōu)選實施方式來進一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。
實施例1
一種夜光除臭陶瓷釉及其制備方法，該制備方法包括如下步驟：
步驟A，制備低溫熔塊：按質(zhì)量百分比計，將10%硝酸鉀、7%石英、10%鉀長石、5%鈉長石、10%鋰輝石、30%硼酸、5%碳酸鋇、8%螢石、3%高嶺土、2%氟化鈉及10%功能劑混合均勻，經(jīng)過過篩、研磨混合后在1250～1300℃下煅燒后快速淬冷，得到了熔融溫度650～800℃的低溫熔塊；
步驟B，制備夜光除臭釉漿：按質(zhì)量百分比計，將30％低溫熔塊、30％鉀長石、10％石英、5％方解石、8％滑石、4％磷酸鈣、5%高嶺土、8%煅燒土混合得到混合粉末，向混合粉末中加入功能劑并混合均勻，細磨至300~350目，然后加入水得釉漿并調(diào)制釉漿比重為1.6~1.7g/cm3，即得夜光除臭陶瓷釉漿；其中，功能劑的加入量為混合粉末質(zhì)量的3％；
步驟C，產(chǎn)品上釉：采用噴釉的方式，將夜光除臭陶瓷釉噴涂在磚坯表面，噴釉時磚坯溫度控制在75±2℃，施釉的重量每600mm×600mm 的磚坯噴涂160g；
步驟D，燒結(jié)：將步驟B噴涂有夜光除臭陶瓷釉的磚坯放入輥道窯中燒成，燒成溫度控制為900±5℃，燒成周期為65±3min。
其中，所述功能劑通過如下方法制得：
（1）稱取0.6gC60粉末，量取100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)4h；快速加入120ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析4天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照40min，激光輻照功率為1W；備用；
（2）超聲攪拌60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.001mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.1mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2:1），超聲攪拌20min；逐滴加入1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取1gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于100ml水溶液中；逐滴加入濃度為0.05mol/L硝酸鈰水溶液，30min后逐滴加入濃度為0.005mol/L硝酸鋅水溶液，GQDs/Ag2O水溶液、硝酸鈰水溶液與硝酸鋅水溶液體積比為1:0.1:0.4；繼續(xù)超聲攪拌，調(diào)節(jié)混合溶液PH值至7.0；邊超聲攪拌，邊加入6mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在30℃下還原反應(yīng)0.5h；之后，再加入45mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在85℃下還原反應(yīng)36h后；過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce；
（4）將0.5gGQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce的質(zhì)量比為3:2），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)30min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在90℃下干燥3h，以得到GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；將GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2置于氬氣氣氛下進行600℃熱處理1h，冷卻至室溫后，浸沒在氫氟酸中以超聲功率100W進行超聲10min，去除表面局部二氧化硅，離心并干燥，獲得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；
（5）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2的重量比為1:5；50W超聲100min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3次（抽真空時間為25min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉；
（6）制備夜光復(fù)合物：氮氣環(huán)境下，將濃度為0.3mol/L的質(zhì)子酸溶液和濃度為0.3mol/L的十二烷基苯磺酸以體積比3:1混合，同時加入夜光粉，磁力攪拌90min后加入苯胺，夜光粉與苯胺質(zhì)量比為1:10；持續(xù)攪拌90min后，逐滴滴加過硫酸銨，苯胺與過硫酸銨摩爾比為1:1；20℃～30℃下反應(yīng)20h；丙酮、去離子水洗滌數(shù)次后真空干燥，碾磨得納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物；將1g納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物的質(zhì)量比為5:3），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)60min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在90℃下干燥3h，以得到納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2；將納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2置于氬氣氣氛下進行800℃熱處理1.5h，去除聚苯胺，得夜光粉/多孔SiO2，即夜光復(fù)合物。所述夜光粉為平均粒徑低于10nm的長余輝Sr4Al14O25納米熒光粉；
（7）制備除臭劑：混合以下重量百分比的原料：ZrO2 2%，TiO2 15%，SiO2 20%，V2O5 5%，K2O 1%，SnO2 5%，Cr2O3 2%，Al2O3 12%，F(xiàn)e2O3 15%，MgO 12%，Na2O10%，MnO2 1%，投入到PUHLER公司開發(fā)的大流量循環(huán)臥式砂磨機中進行研磨，控制粒徑在10~300nm之間，得無機氧化物；將硅藻土分散在100~200ml的水溶液中，加入無機氧化物，其中所述硅藻土與無機氧化物的重量比為1:1，150W超聲150rpm攪拌2h，讓納米材料充分進入硅藻土孔隙中，多次抽濾清洗；置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)5次（抽真空時間為30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得除臭劑；
（8）取抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑分散于150ml超純水中，超聲攪拌2h獲得均勻和穩(wěn)定的分散液，其中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的重量比為3:4:1；將具有碳納米管網(wǎng)狀膜的基板置于約8℃時，將分散液加入內(nèi)凹形狀的基板中，同時，來回滾動滾輪，使該分散液均勻分散于該碳納米管網(wǎng)狀膜中，由于碳納米管在8℃附近時具有親水性，該分散液被吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞；升溫至約25℃，碳納米管具有疏水性并將大部分水分子趕走留下吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑；去掉水分，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)4次（抽真空時間為30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），然后將吸附有抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的碳納米管網(wǎng)狀膜刮離該基板，獲得抗菌-除臭-夜光功能劑。
實施例2
一種夜光除臭陶瓷釉及其制備方法，該制備方法包括如下步驟：
步驟A，制備低溫熔塊：按質(zhì)量百分比計，將8%硝酸鉀、8%石英、10%鉀長石、6%鈉長石、11%鋰輝石、32%硼酸、4%碳酸鋇、7%螢石、2%高嶺土、4%氟化鈉及8%功能劑混合均勻，經(jīng)過過篩、研磨混合后在1250～1300℃下煅燒后快速淬冷，得到了熔融溫度650～800℃的低溫熔塊；
步驟B，制備夜光除臭釉漿：按質(zhì)量百分比計，將25％低溫熔塊、35％鉀長石、15％石英、3％方解石、5％滑石、4％磷酸鈣、3%高嶺土、10%煅燒土混合得到混合粉末，向混合粉末中加入功能劑并混合均勻，細磨至300~350目，然后加入水得釉漿并調(diào)制釉漿比重為1.6~1.7g/cm3，即得夜光除臭陶瓷釉漿；其中，功能劑的加入量為混合粉末質(zhì)量的6％；
步驟C，產(chǎn)品上釉：采用噴釉的方式，將夜光除臭陶瓷釉噴涂在磚坯表面，噴釉時磚坯溫度控制在75±2℃，施釉的重量每600mm×600mm 的磚坯噴涂160g；
步驟D，燒結(jié)：將步驟B噴涂有夜光除臭陶瓷釉的磚坯放入輥道窯中燒成，燒成溫度控制為900±5℃，燒成周期為65±3min。
其中，所述功能劑通過如下方法制得：
（1）稱取0.6gC60粉末，量取100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)4h；快速加入120ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析4天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照40min，激光輻照功率為1W；備用；
（2）超聲攪拌60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.005mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.2mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2:1），超聲攪拌20min；逐滴加入1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取2gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于100ml水溶液中；逐滴加入濃度為0.03mol/L硝酸鈰水溶液，30min后逐滴加入濃度為0.03mol/L硝酸鋅水溶液，GQDs/Ag2O水溶液、硝酸鈰水溶液與硝酸鋅水溶液體積比為1:0.2:0.3；繼續(xù)超聲攪拌，調(diào)節(jié)混合溶液PH值至7.0；邊超聲攪拌，邊加入6mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在30℃下還原反應(yīng)0.5h；之后，再加入45mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在85℃下還原反應(yīng)36h后；過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce；
（4）將0.3gGQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce的質(zhì)量比為3:2），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)45min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在90℃下干燥3h，以得到GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；將GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2置于氬氣氣氛下進行600℃熱處理1h，冷卻至室溫后，浸沒在氫氟酸中以超聲功率100W進行超聲12min，去除表面局部二氧化硅，離心并干燥，獲得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；
（5）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2的重量比為1:3；50W超聲100min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)5次（抽真空時間為25min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉；
（6）制備夜光復(fù)合物：氮氣環(huán)境下，將濃度為0.3mol/L的質(zhì)子酸溶液和濃度為0.3mol/L的十二烷基苯磺酸以體積比3:2混合，同時加入夜光粉，磁力攪拌90min后加入苯胺，夜光粉與苯胺質(zhì)量比為1:8；持續(xù)攪拌90min后，逐滴滴加過硫酸銨，苯胺與過硫酸銨摩爾比為1:1；20℃～30℃下反應(yīng)20h；丙酮、去離子水洗滌數(shù)次后真空干燥，碾磨得納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物；將5g納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物的質(zhì)量比為5:2），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)60min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在90℃下干燥3h，以得到納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2；將納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2置于氬氣氣氛下進行800℃熱處理1.5h，去除聚苯胺，得夜光粉/多孔SiO2，即夜光復(fù)合物。所述夜光粉為平均粒徑低于10nm的長余輝Sr4Al14O25納米熒光粉；
（7）制備除臭劑：混合以下重量百分比的原料：ZrO2 6%，TiO2 8%，SiO2 15%，V2O5 3%，K2O 2%，SnO2 3%，Cr2O3 4%，Al2O3 15%，F(xiàn)e2O3 10%，MgO 20%，Na2O 6%，MnO2 8%，投入到PUHLER公司開發(fā)的大流量循環(huán)臥式砂磨機中進行研磨，控制粒徑在10~300nm之間，得無機氧化物；將硅藻土分散在100~200ml的水溶液中，加入無機氧化物，其中所述硅藻土與無機氧化物的重量比為1:3，150W超聲150rpm攪拌2h，讓納米材料充分進入硅藻土孔隙中，多次抽濾清洗；置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)5次（抽真空時間為30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得除臭劑；
（8）取抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑分散于150ml超純水中，超聲攪拌2h獲得均勻和穩(wěn)定的分散液，其中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的重量比為4:3:5；將具有碳納米管網(wǎng)狀膜的基板置于約8℃時，將分散液加入內(nèi)凹形狀的基板中，同時，來回滾動滾輪，使該分散液均勻分散于該碳納米管網(wǎng)狀膜中，由于碳納米管在8℃附近時具有親水性，該分散液被吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞；升溫至約25℃，碳納米管具有疏水性并將大部分水分子趕走留下吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑；去掉水分，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)4次（抽真空時間為30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），然后將吸附有抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的碳納米管網(wǎng)狀膜刮離該基板，獲得抗菌-除臭-夜光功能劑。
實施例3
一種夜光除臭陶瓷釉及其制備方法，該制備方法包括如下步驟：
步驟A，制備低溫熔塊：按質(zhì)量百分比計，將6%硝酸鉀、10%石英、15%鉀長石、8%鈉長石、11%鋰輝石、31%硼酸、3%碳酸鋇、5%螢石、1%高嶺土、5%氟化鈉及5%功能劑混合均勻，經(jīng)過過篩、研磨混合后在1250～1300℃下煅燒后快速淬冷，得到了熔融溫度650～800℃的低溫熔塊；
步驟B，制備夜光除臭釉漿：按質(zhì)量百分比計，將20％低溫熔塊、40％鉀長石、20％石英、1％方解石、3％滑石、5％磷酸鈣、3%高嶺土、8%煅燒土混合得到混合粉末，向混合粉末中加入功能劑并混合均勻，細磨至300~350目，然后加入水得釉漿并調(diào)制釉漿比重為1.6~1.7g/cm3，即得夜光除臭陶瓷釉漿；其中，功能劑的加入量為混合粉末質(zhì)量的10％；
步驟C，產(chǎn)品上釉：采用噴釉的方式，將夜光除臭陶瓷釉噴涂在磚坯表面，噴釉時磚坯溫度控制在75±2℃，施釉的重量每600mm×600mm 的磚坯噴涂160g；
步驟D，燒結(jié)：將步驟B噴涂有夜光除臭陶瓷釉的磚坯放入輥道窯中燒成，燒成溫度控制為900±5℃，燒成周期為65±3min。
其中，所述功能劑通過如下方法制得：
（1）稱取0.6gC60粉末，量取100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)4h；快速加入120ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析4天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照40min，激光輻照功率為1W；備用；
（2）超聲攪拌60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.01mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.5mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2:1），超聲攪拌20min；逐滴加入1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取3gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于100ml水溶液中；逐滴加入濃度為0.005mol/L硝酸鈰水溶液，30min后逐滴加入濃度為0.05mol/L硝酸鋅水溶液，GQDs/Ag2O水溶液、硝酸鈰水溶液與硝酸鋅水溶液體積比為1:0.2:0.4；繼續(xù)超聲攪拌，調(diào)節(jié)混合溶液PH值至7.0；邊超聲攪拌，邊加入6mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在30℃下還原反應(yīng)0.5h；之后，再加入45mL質(zhì)量分數(shù)為50%的水合肼，在85℃下還原反應(yīng)36h后；過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce；
（4）將0.1gGQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce的質(zhì)量比為3:2），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)60min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在90℃下干燥3h，以得到GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；將GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2置于氬氣氣氛下進行600℃熱處理1h，冷卻至室溫后，浸沒在氫氟酸中以超聲功率100W進行超聲15min，去除表面局部二氧化硅，離心并干燥，獲得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2；
（5）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2的重量比為1:1；50W超聲100min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)8次（抽真空時間為25min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得GQDs/Ag2O/Ag-Zn-Ce/SiO2/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉；
（6）制備夜光復(fù)合物：氮氣環(huán)境下，將濃度為0.3mol/L的質(zhì)子酸溶液和濃度為0.3mol/L的十二烷基苯磺酸以體積比1:1混合，同時加入夜光粉，磁力攪拌90min后加入苯胺，夜光粉與苯胺質(zhì)量比為1:5；持續(xù)攪拌90min后，逐滴滴加過硫酸銨，苯胺與過硫酸銨摩爾比為1:1；20℃～30℃下反應(yīng)20h；丙酮、去離子水洗滌數(shù)次后真空干燥，碾磨得納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物；將10g納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物超聲攪拌分散于水溶液中；之后加入體積比4:1的水和氨水，攪拌均勻后加入正硅酸乙酯（與納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物的質(zhì)量比為5:1），調(diào)節(jié)pH值為9~10，反應(yīng)溫度為20~25℃，反應(yīng)60min；進行離心并依次用丙酮和去離子水清洗獲得沉淀；將該沉淀在90℃下干燥3h，以得到納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2；將納米聚苯胺/夜光粉復(fù)合物/SiO2置于氬氣氣氛下進行800℃熱處理1.5h，去除聚苯胺，得夜光粉/多孔SiO2，即夜光復(fù)合物。所述夜光粉為平均粒徑低于10nm的長余輝Sr4Al14O25納米熒光粉；
（7）制備除臭劑：混合以下重量百分比的原料：ZrO2 8%，TiO2 10%，SiO2 18%，V2O5 2%，K2O 5%，SnO2 1%，Cr2O3 5%，Al2O3 10%，F(xiàn)e2O3 12%，MgO 16%，Na2O 3%，MnO2 10%，投入到PUHLER公司開發(fā)的大流量循環(huán)臥式砂磨機中進行研磨，控制粒徑在10~300nm之間，得無機氧化物；將硅藻土分散在100~200ml的水溶液中，加入無機氧化物，其中所述硅藻土與無機氧化物的重量比為1:6，150W超聲150rpm攪拌2h，讓納米材料充分進入硅藻土孔隙中，多次抽濾清洗；置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)5次（抽真空時間為30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得除臭劑；
（8）取抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑分散于150ml超純水中，超聲攪拌2h獲得均勻和穩(wěn)定的分散液，其中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的重量比為6:4:3；將具有碳納米管網(wǎng)狀膜的基板置于約8℃時，將分散液加入內(nèi)凹形狀的基板中，同時，來回滾動滾輪，使該分散液均勻分散于該碳納米管網(wǎng)狀膜中，由于碳納米管在8℃附近時具有親水性，該分散液被吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞；升溫至約25℃，碳納米管具有疏水性并將大部分水分子趕走留下吸附在碳納米管網(wǎng)狀膜的多個網(wǎng)洞中抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑；去掉水分，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)4次（抽真空時間為30min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），然后將吸附有抗菌粉、夜光復(fù)合物和除臭劑的碳納米管網(wǎng)狀膜刮離該基板，獲得抗菌-除臭-夜光功能劑。
實施例4
基于實施例1的制備方法，其不同之處僅在于：所述抗菌粉通過如下方法制得：
（1）稱取0.6gC60粉末，量取100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)4h；快速加入120ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析4天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照40min，激光輻照功率為1W；備用；
（2）超聲攪拌60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.001mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.1mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2:1），超聲攪拌20min；逐滴加入1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取1gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于水溶液中；逐滴加入濃度為0.5g/100mlZnO量子點水溶液，超聲功率攪拌速度各減半；60min后，靜置，過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/ZnO；
（4）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/ZnO水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/ZnO的重量比為1:5；50W超聲100min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)3次（抽真空時間為25min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得GQDs/Ag2O/ZnO/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉。
實施例5
基于實施例2的制備方法，其不同之處僅在于：所述抗菌粉通過如下方法制得：
（1）稱取0.6gC60粉末，量取100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)4h；快速加入120ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析4天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照40min，激光輻照功率為1W；備用；
（2）超聲攪拌60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.005mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.2mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2:1），超聲攪拌20min；逐滴加入1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取2gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于水溶液中；逐滴加入濃度為0.2g/100mlZnO量子點水溶液，超聲功率攪拌速度各減半；80min后，靜置，過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/ZnO；
（4）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/ZnO水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/ZnO的重量比為1:3；50W超聲100min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)5次（抽真空時間為25min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得GQDs/Ag2O/ZnO/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉。
實施例6
基于實施例3的制備方法，其不同之處僅在于：所述抗菌粉通過如下方法制得：
（1）稱取0.6gC60粉末，量取100ml質(zhì)量分數(shù)為98％的濃硫酸，將C60粉末和濃硫酸在燒杯中混合，燒杯放在冰水浴中，同時以600rpm的速度攪拌，得混合液；稱取1g高錳酸鉀粉末，緩慢的加入上述混合液中；移去冰水浴，換成水浴，保持水浴溫度30~40℃，反應(yīng)4h；快速加入120ml純水，過濾，然后用截留分子量為1000的透析袋透析4天，得石墨烯量子點（GQDs）懸浮液；100rpm速度攪拌GQDs懸浮液，同時激光輻照40min，激光輻照功率為1W；備用；
（2）超聲攪拌60mlGQDs懸浮液，滴加濃度為0.01mol/L硝酸銀水溶液；逐滴加入濃度為0.5mol/L磷酸二氫銨溶液（磷酸二氫銨溶液與硝酸銀水溶液體積比為2:1），超聲攪拌20min；逐滴加入1mol/L氫氧化鈉溶液，調(diào)節(jié)PH值至11，而后靜置、離心，用去離子水和乙醇交替洗滌三次，真空干燥，得GQDs/Ag2O；
（3）取3gGQDs/Ag2O超聲攪拌分散于水溶液中；逐滴加入濃度為0.05g/100mlZnO量子點水溶液，超聲功率攪拌速度各減半；90min后，靜置，過濾，用去離子水洗滌數(shù)次，真空干燥，得GQDs/Ag2O/ZnO；
（4）取三維海綿狀石墨烯超聲攪拌分散于水溶液中，逐滴加入GQDs/Ag2O/ZnO水溶液中，三維海綿狀石墨烯與GQDs/Ag2O/ZnO的重量比為1:1；50W超聲100min，靜置，去離子水洗滌數(shù)次，離心，置于密閉空間內(nèi)，進行抽真空→加熱加壓循環(huán)8次（抽真空時間為25min；加熱加壓為通入高溫高壓氣體，氣體加熱溫度為80~90℃，加壓至0.5Mpa，保壓30min），得GQDs/Ag2O/ZnO/石墨烯抗菌粉，即抗菌粉。
對比例1
基于實施例1的制備方法，其不同之處僅在于：所述抗菌粉為金屬抗菌劑；所述夜光粉復(fù)合物為平均粒徑低于10nm的長余輝Sr4Al14O25納米熒光粉；不添加除臭劑。
對比例2
基于實施例4的制備方法，其不同之處僅在于：所述抗菌粉為氧化鋅抗菌劑；所述除臭劑由以下重量百分比的原料組成：ZrO2 8%，TiO2 10%，SiO2 18%，V2O5 2%，K2O 5%，SnO2 1%，Cr2O3 5%，Al2O3 10%，F(xiàn)e2O3 12%，MgO 16%，Na2O 3%，MnO2 10%。
對實施例1~6、對比例1~2得到的陶瓷釉進行抗菌性能測試，測試結(jié)果如下：
滅菌率：取 105個/ml 的大腸桿菌0.1ml，均勻涂布于陶瓷釉上，在室內(nèi)放置2h，然后將菌液用無菌水洗脫至培養(yǎng)基中，37℃下培養(yǎng)24h，然后檢測菌數(shù)，計算滅菌率。
磨損測試：選用莫氏硬度為3～4的磨料，在陶瓷釉上摩擦1000次來模仿鋪貼使用2年后的效果，測試其滅菌率。
熱穩(wěn)定性測試：將陶瓷釉置于電爐中，自室溫升到200℃，保溫20min，迅速投入25℃水中，10min后取出擦干，測試其滅菌率。
滅菌均勻性評價：在同一陶瓷材料上選取100個區(qū)域進行滅菌測試，對測得的數(shù)據(jù)進行均勻度分析，通過均勻度=100*(1-標(biāo)準偏差/平均值)。當(dāng)均勻度大于97%，則標(biāo)記為▲；當(dāng)均勻度大于90%且小于97%，則標(biāo)記為☆；當(dāng)均勻度低于90%，則標(biāo)記為╳。
除臭試驗：準備兩個51PVF 樹脂氣囊，在一個氣囊中放入一塊試樣樣片，另一個樹脂氣囊不放樣片。然后在兩個氣囊中分別吹入500ppmNH3-空氣混合氣體并密封,60min后使用氣體檢測管測量氣囊中NH3的濃度，計算除臭率。
放射性能：經(jīng)檢測表明，本發(fā)明的陶瓷釉均符合GB6566-2001《建筑材料放射性核素限量》中A類裝修材料要求。
以上所述實施例僅表達了本發(fā)明的實施方式，其描述較為具體和詳細，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制，但凡采用等同替換或等效變換的形式所獲得的技術(shù)方案，均應(yīng)落在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。