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可降低擾流的槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)的制作方法

文檔序號(hào):11123154閱讀:390來(lái)源:國(guó)知局
可降低擾流的槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)的制造方法與工藝

本發(fā)明涉及一種液體循環(huán)系統(tǒng),特別涉及一種可降低擾流的槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)。



背景技術(shù):

近來(lái),玻璃基材大量地使用在不同的產(chǎn)品上,尤其是顯示器面板,因此各制造廠商紛紛引進(jìn)不同的自動(dòng)化流程以及自動(dòng)化設(shè)備以提升產(chǎn)能,借此應(yīng)付日益增加的需求量,然而在浸鍍玻璃基材時(shí),若浸鍍液擾流過(guò)大則會(huì)導(dǎo)致玻璃基材表面平整度降低,因此如何提供一種可降低擾流的槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)以提升玻璃基材表面平整度便成為業(yè)界努力的課題的一。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

因此,本發(fā)明提供一種可降低擾流的槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng),以解決上述問(wèn)題。

為達(dá)成上述目的,本發(fā)明公開(kāi)一種可降低擾流的槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng),其包括一槽體、一進(jìn)液裝置以及一輸送裝置,所述槽體包括一底壁以及一環(huán)繞側(cè)壁,所述環(huán)繞側(cè)壁突出于所述底壁,所述環(huán)繞側(cè)壁與所述底壁共同定義一容置空間及連通于所述容置空間的一開(kāi)口,其中所述容置空間用以容置一液體,所述進(jìn)液裝置設(shè)置在所述槽體的上方,所述進(jìn)液裝置沿一第一方向通過(guò)所述開(kāi)口提供一補(bǔ)充液體至位于所述容置空間內(nèi)的所述液體,所述輸送裝置設(shè)置在所述槽體的所述容置空間內(nèi),所述輸送裝置用以沿一第二方向輸送一平板構(gòu)件通過(guò)所述液體。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述環(huán)繞側(cè)壁上形成有連通于所述容置空間的一入口,且所述平板構(gòu)件由所述入口進(jìn)入所述容置空間。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)還包含一入口輸 送裝置,設(shè)置在所述入口相對(duì)所述容置空間的一側(cè),所述輸送裝置與所述入口輸送裝置共同將所述平板構(gòu)件通過(guò)所述入口送入所述容置空間。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)還包含一入口閘門,樞接于所述環(huán)繞側(cè)壁鄰近所述入口處,用以選擇性地封閉所述入口。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,位于所述容置空間的所述液體具有一液面,所述液面與所述底壁的一第一距離大于所述入口的一上端緣與所述底壁的一第二距離,且所述第一距離與所述第二距離之差為一第一距離差。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述第一距離差大于或等于20厘米。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述環(huán)繞側(cè)壁上形成有連通于所述容置空間的一出口,且所述平板構(gòu)件由所述出口離開(kāi)所述容置空間。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)還包含一出口輸送裝置,設(shè)置在所述出口相對(duì)所述容置空間的一側(cè),所述輸送裝置與所述出口輸送裝置共同將所述平板構(gòu)件通過(guò)所述出口送出所述容置空間。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)還包含一出口閘門,樞接于所述環(huán)繞側(cè)壁鄰近所述出口處,用以選擇性地封閉所述出口。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,位于所述容置空間的所述液體具有一液面,所述液面與所述底壁的一第三距離大于所述出口的一上端緣與所述底壁的一第四距離,且所述第三距離與所述第四距離之差為一第二距離差。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述第二距離差大于或等于20厘米。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述環(huán)繞側(cè)壁上形成有一入口及一出口,所述入口與所述出口分別連通于所述容置空間,所述平板構(gòu)件由所述入口進(jìn)入所述容置空間且由所述出口離開(kāi)所述容置空間,所述進(jìn)液裝置以一流入量通過(guò)所述開(kāi)口提供所述補(bǔ)充液體至位于所述容置空間內(nèi)的所述液體,所述入口以一入口流出量將所述液體由所述槽體排出,所述出口以一出口流出量將所述液體由所述槽體排出,且所述流入量大于或等于所述入口流出量與所述出口流出量的和。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)還包括一控制單元,耦接于所述進(jìn)液裝置,所述控制單元依據(jù)所述液體的一液面位置控制所述進(jìn)液裝置提供所述補(bǔ)充液體至位于所述容置空間的所述液體。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述第一方向垂直于所述第二方向。

根據(jù)本發(fā)明其中的一實(shí)施例,所述環(huán)繞側(cè)壁上形成有連通于所述容置空間的一入口與一出口,且所述槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)還包含一入口輸送裝置以及一出口輸送裝置,所述入口輸送裝置設(shè)置在所述入口相對(duì)所述容置空間的一側(cè),所述入口輸送裝置與所述輸送裝置共同將所述平板構(gòu)件通過(guò)所述入口送入所述容置空間,所述出口輸送裝置設(shè)置在所述出口相對(duì)所述容置空間的一側(cè),所述出口輸送裝置與所述輸送裝置共同將所述平板構(gòu)件通過(guò)所述出口送出所述容置空間,其中所述輸送裝置、所述入口輸送裝置以及所述出口輸送裝置分別為一滾輪裝置。

綜上所述,本發(fā)明槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)利用入口輸送載具、輸送載具與出口輸送載具共同驅(qū)使平板構(gòu)件沿第二方向通過(guò)入口送入槽體的容置空間,再通過(guò)出口送出槽體的容置空間,以達(dá)到自動(dòng)化浸鍍平板構(gòu)件的目的。此外本發(fā)明槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)另利用進(jìn)液裝置由液體的液面的上方提供補(bǔ)充液體,因此當(dāng)進(jìn)液裝置所提供的補(bǔ)充液體進(jìn)入液體的液面時(shí),上述液體的液面與平板構(gòu)件的上表面間保持有一定距離的設(shè)計(jì),可防止補(bǔ)充液體在進(jìn)入液體的液面時(shí)所產(chǎn)生的擾流影響平板構(gòu)件的上表面,進(jìn)而確保平板構(gòu)件的上表面的平面完整度。有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點(diǎn)與功效,在以下配合參考附圖的實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中,將可清楚的呈現(xiàn)。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)的示意圖。

圖2為本發(fā)明實(shí)施例槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)的功能方塊示意圖。

其中,附圖標(biāo)記說(shuō)明如下:

1 槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)

10 槽體

101 底壁

102 環(huán)繞側(cè)壁

103 容置空間

104 開(kāi)口

105 入口

106 出口

11 進(jìn)液裝置

12 輸送裝置

13 入口輸送裝置

14 入口閘門

15 出口輸送裝置

16 出口閘門

17 控制單元

2 平板構(gòu)件

D1 第一方向

D2 第二方向

L 液體

S 補(bǔ)充液體

X1 第一距離

X2 第二距離

X3 第三距離

X4 第四距離

Y1 第一距離差

Y2 第二距離差

Q1 入口流出量

Q2 出口流出量

C 液面

具體實(shí)施方式

以下實(shí)施例中所提到的方向用語(yǔ),例如:上、下、左、右、前或后等,僅是參考附加附圖的方向。因此,使用的方向用語(yǔ)是用來(lái)說(shuō)明并非用來(lái)限制本發(fā)明。請(qǐng)參閱圖1及圖2,圖1為本發(fā)明實(shí)施例一槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)1的示意圖,圖2為本發(fā)明實(shí)施例槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)1的功能方塊示意圖。如圖1及圖2所示,槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)1包括一槽體10、一進(jìn)液裝置11、一輸送裝置12、一入口輸送裝置13、一入口閘門14、一出口輸送裝置15、一出口閘門16以及一控制單元17,槽體10包括一底壁101以及一環(huán)繞側(cè)壁102,環(huán)繞側(cè)壁102突出于底壁101,環(huán)繞側(cè)壁102與底壁101共同定義一容置空間103及連通于容置空間103的一開(kāi)口104,其中容置空間103用以容置一液體L,且環(huán)繞側(cè)壁102上形成有連通于容置空間103的一入口105以及一出口106。在本實(shí)施例中,入口105與出口106位于環(huán)繞側(cè)壁102的相對(duì)兩側(cè),但本發(fā)明不受此限。

此外,進(jìn)液裝置11設(shè)置在槽體10的上方,進(jìn)液裝置11沿一第一方向D1通過(guò)開(kāi)口104提供一補(bǔ)充液體S至位于容置空間103內(nèi)的液體L,使位于容置空間103內(nèi)的液體L借由補(bǔ)充液體S的補(bǔ)充而維持穩(wěn)定。輸送裝置12設(shè)置在槽體10的容置空間103內(nèi)且浸泡于液體L內(nèi),入口輸送裝置13設(shè)置在入口105相對(duì)容置空間103的一側(cè),即入口輸送裝置13與輸送裝置12位于入口105的相對(duì)兩側(cè),出口輸送裝置15設(shè)置在出口106相對(duì)容置空間103的一側(cè),即出口輸送裝置15與輸送裝置12位于出口106的相對(duì)兩側(cè),入口閘門14樞接于環(huán)繞側(cè)壁102鄰近入口105處,出口閘門16樞接于環(huán)繞側(cè)壁102鄰近出口106處。在本實(shí)施例中,輸送裝置12、入口輸送裝置13以及出口輸送裝置15可分別為一滾輪裝置,而本發(fā)明并不局限于此。

此外,如圖1以及圖2所示,液體L具有一液面C,控制單元17耦接于進(jìn)液裝置11、入口閘門14以及出口閘門16,而本發(fā)明槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)1另可包含一液位偵測(cè)裝置(未繪示于圖中),所述液位偵測(cè)裝置耦接于控制單元17,用以偵測(cè)位于容置空間103的液體L的液面C的一液面位置,控制單元17依據(jù)液體L的所述液面位置控制進(jìn)液裝置11提供補(bǔ)充液體S至位于容置空間103的液體L,且控制單元17另分別控制入口閘門14以及出口閘門16選擇性地封閉入口105以及出口106。

另外,入口輸送裝置13與輸送裝置12可共同用以將一平板構(gòu)件2沿一第二方向D2通過(guò)入口105送入容置空間103并通過(guò)液體L,且出口輸送裝置15與輸送裝置12共同將平板構(gòu)件2沿第二方向D2通過(guò)出口106送出容置空間103。在本實(shí)施例中,第一方向D1可垂直于第二方向D2,即本發(fā)明進(jìn)液裝置11所提供的補(bǔ)充液體S的液體補(bǔ)充方向(即第一方向D1)垂直于平板構(gòu)件2的輸送方向(即第二方向D2)。當(dāng)欲浸鍍平板構(gòu)件2時(shí),首先將平板構(gòu)件2放置于入口輸送裝置13上,入口輸送裝置13即可沿第二方向D2輸送平板構(gòu)件2,當(dāng)平板構(gòu)件2位于靠近槽體10的入口105處時(shí),控制單元17控制入口閘門14敞開(kāi)于入口105,以使入口輸送裝置13可順利地將平板構(gòu)件2通過(guò)入口105送入槽體10的容置空間103內(nèi)的輸送裝置12,于上述過(guò)程中,當(dāng)入口閘門14不封閉入口105時(shí)(即當(dāng)入口105呈敞開(kāi)狀態(tài)時(shí)),位于容置空間103內(nèi)的液體L則會(huì)由入口105排出,接著,當(dāng)入口輸送裝置13與輸送裝置12共同驅(qū)使平板構(gòu)件2完全進(jìn)入槽體10的容置空間103內(nèi)后,控制單元17控制入口閘門14封閉入口105。

當(dāng)平板構(gòu)件2浸鍍完畢時(shí),平板構(gòu)件2隨著輸送裝置2由槽體10的容置空間103內(nèi)靠近入口105處沿第二方向D2送至靠近出口106處,此時(shí)控制單元17控制出口閘門16敞開(kāi)于出口106,以使輸送裝置12可順利地將平板構(gòu)件2通過(guò)出口106送至出口輸送裝置15,于上述過(guò)程中,當(dāng)出口閘門16不封閉出口106時(shí)(即當(dāng)出口106呈敞開(kāi)狀態(tài)時(shí)),位于容置空間103內(nèi)的液體L則會(huì)由出口106排出,接著,當(dāng)出口輸送裝置15與輸送裝置12共同驅(qū)使平板構(gòu)件2完全離開(kāi)槽體10的容置空間103后,控制單元17控制出口閘門16封閉出口106。

值得一提的是,如圖1所示,位于容置空間103的液體L的液面C與底壁101的一第一距離X1大于入口105的一上端緣與底壁101的一第二距離X2,且第一距離X1與第二距離X2之差為一第一距離差Y1,即液體L的液面C與入口105的所述上端緣相距第一距離差Y1,以確保平板構(gòu)件2的上表面與液體L的液面C保持一定的距離。在本實(shí)施例中,第一距離差Y1可大于或等于20厘米,但本發(fā)明不受此限。此外,由于本發(fā)明進(jìn)液裝置11由液體L的液面C的上方提供補(bǔ)充液體S,因此當(dāng)進(jìn)液裝置11所提供的補(bǔ)充液體S進(jìn)入液體L的液面C時(shí),上述液體L的液面C與平板構(gòu)件2的上表面間保 持有一定距離的設(shè)計(jì),可防止補(bǔ)充液體S在進(jìn)入液體L的液面C時(shí)所產(chǎn)生的擾流影響平板構(gòu)件2的上表面,進(jìn)而確保平板構(gòu)件2的上表面的平面完整度。

另外,當(dāng)控制單元17控制入口閘門14敞開(kāi)于入口105時(shí),液體L會(huì)以一入口流出量Q1通過(guò)入口105由槽體10排出,此時(shí)位于容置空間103內(nèi)的液體L的液面C便會(huì)降低,當(dāng)液位偵測(cè)裝置偵測(cè)位于容置空間103內(nèi)的液體L的液面C低于一默認(rèn)位置時(shí),控制單元17便會(huì)控制進(jìn)液裝置11提供補(bǔ)充液體S至位于容置空間103的液體L,以維持液體L的液面C與入口105的所述上端緣相距第一距離差Y1(即20厘米),進(jìn)而避免液體L在進(jìn)液裝置11提供補(bǔ)充液體S時(shí)所產(chǎn)生的液面擾動(dòng)影響平板構(gòu)件2的上表面的平整度。

同理,如圖1所示,液面C與底壁101的一第三距離X3大于出口106的一上端緣與底壁101的一第四距離X4,且第三距離X3與第四距離X4之差為一第二距離差Y2,即液體L的液面C與出口106的所述上端緣相距第二距離差Y2,以確保平板構(gòu)件2的上表面與液體L的液面C保持一定的距離。在本實(shí)施例中,第三距離X3等于第一距離X1,第四距離X4等于第二距離X2,且第二距離差Y2可等于第一距離差Y1(即第二距離差Y2大于或等于20厘米),但本發(fā)明不受此限。

當(dāng)控制單元17控制出口閘門16敞開(kāi)于出口106時(shí),液體L以一出口流出量Q2通過(guò)出口106由槽體10排出,此時(shí)位于容置空間103內(nèi)的液體L的液面C便會(huì)降低,當(dāng)液位偵測(cè)裝置偵測(cè)位于容置空間103內(nèi)的液體L的液面C低于一默認(rèn)位置時(shí),控制單元17便會(huì)控制進(jìn)液裝置11提供補(bǔ)充液體S至位于容置空間103的液體L,以維持液體L的液面C與出口106的所述上端緣相距第二距離差Y2(即20厘米),進(jìn)而避免液體L在進(jìn)液裝置11提供補(bǔ)充液體S時(shí)所產(chǎn)生的液面擾動(dòng)影響平板構(gòu)件2的上表面的平整度

相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)利用入口輸送載具、輸送載具與出口輸送載具共同驅(qū)使平板構(gòu)件沿第二方向通過(guò)入口送入槽體的容置空間,再通過(guò)出口送出槽體的容置空間,以達(dá)到自動(dòng)化浸鍍平板構(gòu)件的目的。此外本發(fā)明槽盤式液體循環(huán)系統(tǒng)另利用進(jìn)液裝置由液體的液面的上方提供補(bǔ)充液體,因此當(dāng)進(jìn)液裝置所提供的補(bǔ)充液體進(jìn)入液體的液面時(shí),上述液體的液面與平板構(gòu)件的上表面間保持有一定距離的設(shè)計(jì),可防止補(bǔ)充液體在進(jìn)入液體的液面時(shí)所產(chǎn)生的擾流影響平板構(gòu)件的上表面,進(jìn)而確保平板構(gòu)件的上 表面的平面完整度。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō),本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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