一種離子源擋板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種離子源擋板裝置。屬于離子源技術(shù)改進技術(shù)領(lǐng)域。具體為一種由氣動閥控制的離子源擋板裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]離子源在物理氣象沉積真空鍍膜中有很重要的作用，離子源的清洗作用可有效清除工件表面的雜質(zhì)，使涂層與工件表面同時存在物理氣相沉積，導(dǎo)致涂層結(jié)合力高，膜層致密、韌性好。適用于切削刀具、注塑模具和發(fā)動機耐磨零部件的硬質(zhì)涂層。離子源是離子清洗的核心部件，但是在真空鍍膜過程中，離子源容易受靶材影響，導(dǎo)致離子源被污染，從而影響鍍膜質(zhì)量。一般傳統(tǒng)裝置離子源受污染不可避免，受污染后要把離子源整體定期拆卸下來，進行丙酮超聲波清洗、表面打磨處理、二次清洗等工序，最后再重新組裝，原樣裝回。這樣做不僅費時費力，影響生產(chǎn)效率，最重要的是對離子源的核心部分會有一定的損傷，影響離子源使用效果及使用壽命。因此，需要一種特制的裝置來改善離子源受污染問題同時提高生產(chǎn)效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種離子源擋板來阻止離子源受到靶材的污染。
[0004]實現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)方案如下:一種離子源擋板包括底板，兩根旋轉(zhuǎn)軸的一端穿過底板與氣動閥機械連接，二根旋轉(zhuǎn)軸分別固定一塊不繡鋼板。
[0005]進一步講，不繡鋼板后端與旋轉(zhuǎn)軸連接、前端設(shè)有弧形板。
[0006]進一步講，分設(shè)在二個所述不繡鋼板上的二個弧形板呈鏡像對稱，二個弧形板不相接觸。
[0007]還可以，不繡鋼板上設(shè)有凹槽，貼板上設(shè)有凸起，貼板的凸起能放入凹槽中，固定貼板與不繡鋼板。
[0008]本發(fā)明的有益效果在于:解決了離子源受靶材污染的問題，減少清洗離子源周期，提高了生產(chǎn)效率，保證產(chǎn)品質(zhì)量；裝置原理巧妙同時又構(gòu)造簡單，易于實現(xiàn)，通過設(shè)凹槽固定貼板，可以增加離子源擋板的面積(可以更好的包裹離子源)，方便對沉積室的清洗；離子源擋板由氣動閥控制，實現(xiàn)在鍍膜過程當(dāng)中隨時開啟關(guān)閉，實用方便。
【附圖說明】
[0009]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為圖1的側(cè)視圖。
[0011]圖3為本發(fā)明優(yōu)選結(jié)構(gòu)俯視圖。
[0012]圖4為不繡鋼板優(yōu)選結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖5為圖4的A-A斷面視圖。
[0014]圖中，I不繡鋼板,2離子源，3旋轉(zhuǎn)軸，4氣動閥，5底板，6弧形板，7貼板。具體實施例
[0015]下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明進一步說明:
如圖1、圖2所示一種離子源擋板包括底板5，兩根旋轉(zhuǎn)軸3的一端穿過底板5與氣動閥機4械連接，二根旋轉(zhuǎn)軸3分別固定一塊不繡鋼板1，氣動閥4控制不繡鋼板I的打開或閉合，二塊不繡鋼板I閉合時遮擋住離子源2，二塊不繡鋼板I閉合時露出離子源2。
[0016]優(yōu)選方案，如圖3中，不繡鋼板I后端與旋轉(zhuǎn)軸3連接、前端設(shè)有弧形板6，分設(shè)在二個所述不繡鋼板I上的二個弧形板6呈鏡像對稱，二個弧形板6不相接觸，通過設(shè)置弧形板6能有效遮擋二塊不繡鋼板I之間的間隙。
[0017]如圖4、圖5中，不繡鋼板I上設(shè)有凹槽，貼板7上設(shè)有凸起，貼板7的凸起能放入凹槽中，固定貼板7與不繡鋼板1，增加不繡鋼板I的面積(也可以將貼板7設(shè)計成弧形板6)，更好的包裹離子源2，方便對沉積室內(nèi)的清洗。
[0018]工作原理:在沉積室中，待開啟離子源2后，由氣動閥4帶動旋轉(zhuǎn)軸3，旋轉(zhuǎn)軸3帶動不繡鋼板1，從而讓不繡鋼板I打開，離子源2開始工作。待離子源清2洗結(jié)束后，關(guān)閉氣動閥4,氣動閥4帶動旋轉(zhuǎn)軸3,旋轉(zhuǎn)軸3帶動不繡鋼板I閉合(如圖3所示,不繡鋼板I前端設(shè)有弧形板6，可以有效遮擋二塊不繡鋼板I之間的間隙，能更好的保護離子源2)。離子源2的工作環(huán)境為真空環(huán)境，因此考慮用氣動閥4控制，解決了在真空環(huán)境下開啟靶材鍍膜時對離子源2的實時保護。
[0019]工作間隙，需要清洗沉積室時，將貼板7的凸起能放入凹槽中，固定貼板7與不繡鋼板1，增加不繡鋼板I的面積，更好的包裹離子源2，方便對沉積室內(nèi)的清洗，可防止對清洗過程中離子源2的污染。
[0020]本發(fā)明的實施例公布的是較佳的實施例，但并不限于此，本領(lǐng)域的技術(shù)人員，極易根據(jù)上述實施例，領(lǐng)會本發(fā)明的核心技術(shù)，做出不同的引申和改進，但只要不脫離本發(fā)明的精神，都在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種離子源擋板，其特征在于:所述的離子源擋板包括底板(5)，兩根旋轉(zhuǎn)軸(3)的一端穿過底板(5)與氣動閥機(4)械連接，二根旋轉(zhuǎn)軸(3)分別固定一塊不繡鋼板(I)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種離子源擋板，其特征在于:所述不繡鋼板(I)后端與旋轉(zhuǎn)軸(3 )連接、前端設(shè)有弧形板(6 )。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種離子源擋板，其特征在于:分設(shè)在二個所述不繡鋼板(I)上的二個弧形板(6)呈鏡像對稱，二個弧形板(6)不相接觸。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種離子源擋板，其特征在于:所述不繡鋼板(I)上設(shè)有凹槽，貼板(7)上設(shè)有凸起，貼板(7)的凸起能放入凹槽中，固定貼板(7)與不繡鋼板(I)。
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種離子源擋板裝置，屬于離子源技術(shù)改進領(lǐng)域。一種離子源擋板包括底板，兩根旋轉(zhuǎn)軸的一端穿過底板與氣動閥機械連接，二根旋轉(zhuǎn)軸分別固定一塊不繡鋼板。本發(fā)明優(yōu)點在于，可保護離子源不受靶材污染，解決了離子源受靶材污染，影響再次鍍膜效果的問題，方便使用，提高了產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。
【IPC分類】C23C14/46
【公開號】CN105331944
【申請?zhí)枴緾N201410399143
【發(fā)明人】韓濱, 閆少健, 付德春
【申請人】宜昌后皇真空科技有限公司
【公開日】2016年2月17日
【申請日】2014年8月14日