一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]手表刻度盤，俗稱表面板，有各種各樣的外觀樣式，從材料到美飾設(shè)計、從加工方法到涂裝工藝，呈現(xiàn)五花八門，也花盡人們的心思。最常用的材料是鋁和銅片，常用的美飾手法有壓紋、絲印、鑲嵌、油漆、染色等數(shù)不勝數(shù)。有一種不常見的方式是采用貝殼作為刻度盤的基材。貝殼表面顯露出豐富的干涉色彩，具有獨特的光澤和紋理，具有特殊的美感，非常時尚。貝殼刻度盤傳統(tǒng)的美飾工藝是油漆和染色，但均無法提升其金屬質(zhì)感或陶瓷質(zhì)感。
[0003]如果采用真空鍍膜技術(shù)在貝殼刻度盤上鍍上很薄的金屬膜或金屬化合物薄膜，不但使可以使貝殼刻度盤呈現(xiàn)出多種色彩，如銀白色、金色、玫瑰金色、黑色、藍色、咖啡色等，還可以使貝殼顯現(xiàn)出金屬質(zhì)感或陶瓷質(zhì)感，且由于該鍍層很薄呈半透明狀，人們還可以看見貝殼上特有的變幻的珍珠光澤和紋理，具有獨特的藝術(shù)美感。
[0004]2012年已終止的中國實用新型專利200820701979.9，名稱為“一種貝殼裝飾片”，
該專利公開了在貝殼基材的外表面鍍覆一層金屬膜或陶瓷膜，膜厚不超過I微米，基材和薄膜之間設(shè)有一層鈦膜，但未公開鍍膜的工藝。
[0005]2009年4月29日公開的申請?zhí)枮?00810218416.5中國發(fā)明專利，名稱為“一種貝殼裝飾片及其加工方法”，該專利公開了一種在貝殼片上真空鍍金屬膜和陶瓷膜的方法:采用金屬或陶瓷材料靶材、用中頻真空濺射鍍膜。先在基材上進行離子清冼，再預鍍一層鈦膜，再后在其上用中頻濺射鍍金屬膜或陶瓷膜，膜厚不超過I微米，鍍膜時溫度為70度，出爐為60度。
[0006]上述專利所涉及的在貝殼上真空鍍陶瓷膜的工藝是不合理的，業(yè)內(nèi)人士都清楚，陶瓷材料的靶材是不導電的，是不能用中頻濺射法濺射沉積成陶瓷膜的，所以該發(fā)明是不能實現(xiàn)的。
[0007]此外，貝殼是生物材料，含水份多，材質(zhì)較脆，真空鍍膜會大量放氣，且容易碎裂，該專利沒有提及在貝殼上真空鍍膜關(guān)鍵的技術(shù)措施以適應此特點，這往往導致鍍膜的成敗。
[0008]另外，該專利提及在貝殼預鍍鈦底層前進行離子清洗，但沒有提及負偏壓參數(shù)，如果按常規(guī)離子清洗工藝參數(shù)，該操作非常容易導致貝殼碎裂。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能顯著提高成品率的在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法。
[0010]本發(fā)明通過如下技術(shù)方案解決其技術(shù)問題:一種在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法，其特征在于，包括在鍍膜前將干凈干燥的貝殼手表刻度盤在80°C以下進行2個小時以上烘烤的步驟，以給貝殼排濕排氣，該步驟能顯著提升在貝殼上真空鍍膜的成品率。
[0011]作為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，所述在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法具體包括如下步驟:
1)抽真空:將干凈干燥的的貝殼手表刻度盤放入真空爐的鍍膜室內(nèi)，并抽真空；
2)加熱:在真空爐中將貝殼手表刻度盤在80°C以下進行2個小時以上烘烤；
3)采用陰極電弧鍍底層，采用中頻濺射法，或中頻濺射法和/或陰極電弧鍍表面層，所述底層和表面層均采用低偏壓鍍膜；
4)出爐:貝殼手表刻度盤隨爐冷卻后出爐。
[0012]本方法采用低偏壓陰極電弧鍍底層，并不采用高能量輝光清洗和離子清洗，有利于降低貝殼的碎片率，進一步提高本發(fā)明貝殼手表刻度盤的成品率。
[0013]步驟3)的具體過程如下:
向鍍膜室內(nèi)充入惰性氣體，根據(jù)顏色需求，選擇相應顏色對應的方法鍍底層和表面層:
底層，底層膜厚在0.1微米以下，鍍膜溫度在80°C以下:
a)金色和玫瑰金色:采用Ti陰極電弧鍍底層；
b)銀白色:采用Ti陰極電弧鍍底層；
c)槍黑色:采用Cr陰極電弧鍍底層；
表面層，表面層膜厚在0.5微米以下，鍍膜溫度在80°C以下:
d)金色:采用Au靶直流磁控濺射鍍表面層；
e)玫瑰金色:采用玫瑰金即Au和Cu的合金靶和Cu靶用磁控濺射鍍表面層；
f)銀白色:采用Cr陰極電弧鍍表面層；
g)槍黑色:采用多層復合膜結(jié)構(gòu)，包括中間層和頂層，所述中間層由兩層以上膜層構(gòu)成:
g-Ο中間層的第一層:采用Cr陰極電弧鍍過渡層后，采用Ti靶和石墨靶，用中頻磁控濺射鍍由Ti到TiC、碳量梯度漸增的梯度層；
g-2)中間層的最上層:采用Cr陰極電弧鍍過渡層后，采用Ti靶和石墨靶，用中頻磁控濺射鍍由Ti到TiC的梯度層，獲得碳量梯度漸增而鈦量梯度漸降的梯度層，最后再鍍純非晶碳層；
g-3)頂層:為石墨中頻磁控濺射靶，并充入乙炔或甲烷反應氣體，鍍含H的非晶碳膜層O
[0014]在步驟g-Ι)與g-2)之間還包括重復步驟g_l) —次以上的步驟。
[0015]步驟3)中所述的低偏壓指偏壓在-30V以下，防止貝殼片碎裂。
[0016]步驟4)中貝殼手表刻度盤隨爐冷卻到50°C以下后出爐。
[0017]相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明具有如下有益效果:
1)本發(fā)明方法能在貝殼手表刻度盤上鍍上金色、玫瑰金色、銀白色和槍黑色膜層等，使貝殼手表刻度盤呈現(xiàn)出金屬或陶瓷質(zhì)感，且呈半透明狀，使貝殼基材上特有的光澤和紋理得以顯現(xiàn)，使刻度盤更顯高貴藝術(shù)美感，而且本發(fā)明方法經(jīng)生產(chǎn)實踐證實可靠有效，且成品率高，實施過程中綠色環(huán)保，無污染，具有非常好的市場前景；
2)采用本發(fā)明方法獲得的鍍層顏色均勻，顏色色調(diào)與深淺可調(diào)，可滿足多種美飾設(shè)計要求。
【附圖說明】
[0018]圖1為本發(fā)明在貝殼手表刻度盤上鍍金色、玫瑰金色、銀白色后的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為本發(fā)明在貝殼手表刻度盤上鍍槍黑色膜后的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0019]下面結(jié)合具體實施例，對本發(fā)明作進一步描述:
本實施例在貝殼手表刻度盤上真空鍍膜的方法具體包括如下步驟:
O抽真空:將干凈干燥的貝殼手表刻度盤放入真空爐的鍍膜室內(nèi)，并抽真空達6x103Pa0
[0020]2)加熱:由于貝殼材料含水量高，在真空爐中將貝殼手表刻度盤在80°C以下進行2個小時以上烘烤，使貝殼充分除濕排氣?，F(xiàn)有技術(shù)中，一般只有入爐前的烘烤步驟，該步驟的作用是烘掉貝殼表面殘留的水分。而貝殼作為生物材料，內(nèi)部本身就含有很多水份。且這些水份的去除，不能通過高溫烘烤，溫度過高水排出過猛會導致貝殼碎裂，一般采用70至80°C長時間烘烤，讓貝殼內(nèi)部的水份緩慢釋放出。真空條件下烘烤能更有效地使貝殼片內(nèi)的水份充分排出，排出水氣隨即被抽走，降低了貝殼片表面的飽和蒸氣壓，有利于后續(xù)水份地排出。本發(fā)明的貝殼實在進行了入爐前的烘烤與入爐后的真空烘烤兩步，確保鍍膜質(zhì)量和安全。
[0021 ] 3 )采用陰極電弧鍍底層，采用中頻濺射法，或中頻濺射法和/或陰極電弧鍍表面層，所述底層和表面層均采用低偏壓鍍膜。
[0022]4)出爐:貝殼手表刻度盤隨爐冷卻到50°C以下后出爐。出爐溫度低可減少出爐貝殼片的內(nèi)外溫差，降低熱應力，防碎裂，更安全。
[0023]本發(fā)明不采用高能量輝光清洗和離子清洗，有利于降低貝殼的碎片率，進一步提高本發(fā)明貝殼手表刻度盤的成品率。
[0024]行業(yè)內(nèi)共識，離子清洗與鍍底層即鍍基材與表面鍍層之間的過渡層是鍍膜作業(yè)過程中的兩個步驟，前者是用高能離子把被鍍基材表面不潔物和氧化皮轟擊(反濺)出來，使表面凈化，后者是在基材表面上沉積一層與基材和表面鍍層親和力都良好的過渡層，以提高兩者的結(jié)合力，通常采用金屬Ti或Cr作為這個過