專利名稱：用于真空泵的雙壁排氣管的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及離子注入器領(lǐng)域，特別涉及一種改進(jìn)的與離子注入器內(nèi)真空泵一起使用的排氣管道。
在大規(guī)模的集成電路制造中，離子注入已經(jīng)成為工業(yè)上用雜質(zhì)摻雜半導(dǎo)體優(yōu)先采用的技術(shù)。典型離子注入器包括三部分或部件(i)一端部，包括一產(chǎn)生具有理想電荷和能量的離子束的離子源區(qū)，(ii)一包含要注入離子束的半導(dǎo)體晶片的目標(biāo)室，及(iii)一束管總成，位于端部和目標(biāo)室之間，調(diào)節(jié)由離子源輸出的離子束并使離子束直射向目標(biāo)晶片。
整個(gè)離子注入過(guò)程在一真空泵內(nèi)進(jìn)行，以保證穩(wěn)定注入和防止粒子沾染。采用高真空泵的目的就在于此。通常，離子源區(qū)、束管總成和目標(biāo)室各采用獨(dú)立的高真空泵。在目標(biāo)室的區(qū)域內(nèi)，在將晶片插入目標(biāo)室和由目標(biāo)室抽出晶片時(shí)，采用加載鎖定，以避免對(duì)目標(biāo)室的反復(fù)加壓和泄壓。
與離子注入器相連的用于抽空離子注入器相應(yīng)區(qū)域的真空系統(tǒng)必須排空這些區(qū)域的空氣。為了安全并防止沾染，排出的氣體一般排入離子注入器外殼以外的環(huán)境中。
端部必須加高電壓，以便于離子由離子源射出并直射向目標(biāo)室。通常，電壓范圍是80,000至100,000伏(80-100千伏)。但是，為了安全起見(jiàn)，離子注入器的外殼是接地的。因此，通過(guò)真空泵從離子源區(qū)抽出的空氣必須由加高電壓的端部排出，通過(guò)接地外殼進(jìn)入外界環(huán)境。
通常，有一排氣管連接到離子源真空泵上，以排出由離子源區(qū)抽出的氣體。該排氣管由離子源區(qū)真空泵伸出，通過(guò)高壓端護(hù)罩，并通過(guò)接地外殼到達(dá)外界環(huán)境。高壓端護(hù)罩和接地外殼之間的排氣管部分必須由不導(dǎo)電絕緣材料制成，以防止高壓端護(hù)罩和接地外殼之間導(dǎo)電。
在離子注入器的持續(xù)工作過(guò)程中，離子源真空排氣管的內(nèi)壁沾染了離子源過(guò)程中的殘積物和其他在對(duì)離子源區(qū)抽真空時(shí)抽出的浮在空氣中的物質(zhì)。沾染物特別是碳?xì)浠衔锏亩逊e，最終會(huì)降低不導(dǎo)電管的絕緣性，至使由電極端向地漏電，或更糟糕的是，由于電極端與外殼之間打火而產(chǎn)生高壓放電。為防止這樣的現(xiàn)象發(fā)生，必須清理或更換該管以恢復(fù)系統(tǒng)的完整性。由于清理該管費(fèi)時(shí)，且會(huì)增大暴露摻雜物的危險(xiǎn)，因此一般對(duì)管進(jìn)行更換。
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種改進(jìn)的用于離子注入器內(nèi)的排氣管，便于保證其持續(xù)的電絕緣性。
本發(fā)明進(jìn)一步的發(fā)明目的在于提供一用于離子注入器內(nèi)的排氣管組件，其構(gòu)造更經(jīng)濟(jì)實(shí)用，具有一耐久的重復(fù)使用的外管和一價(jià)廉的可更換的且一次性使用的內(nèi)管。該內(nèi)管具有盛裝摻雜物的裝置，且具有波紋外形以延長(zhǎng)漏電或飛弧的路徑，與非波紋外形相比則延長(zhǎng)了需維修(更換)的時(shí)間間隔。
本發(fā)明的另一目的在于提供一具有雙壁結(jié)構(gòu)的排氣管組件，以利于保持整體的不導(dǎo)電性，并使其內(nèi)的摻雜物堆積降至最小程度。
本發(fā)明的再一目的在于提供一種雙壁排氣管組件，其中盛裝摻雜物的波紋內(nèi)管管壁與更耐用的外管相比要薄，在內(nèi)管擊穿時(shí)，外管形成有效的密封容器。
一種雙壁排氣管組件，用于離子注入器系統(tǒng)，以連接處于不同電勢(shì)的系統(tǒng)部件。該組件包括一內(nèi)管，具有與第一端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段接合的第一端和與第二端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段接合的第二端；一外管，具有與第一端固定頭的外安裝區(qū)段接合的第一端和與第二端固定頭的外安裝區(qū)段接合的第二端。
本發(fā)明的實(shí)施例中，內(nèi)管和外管最好采用聚四氟乙烯制成，管的內(nèi)波紋表面也可為向內(nèi)管的軸線傾斜的多個(gè)面，以防止摻雜物堆積。該波紋表面通過(guò)有效延長(zhǎng)漏電需穿過(guò)的由管的高壓源端到達(dá)接地端的接地路徑的長(zhǎng)度，會(huì)減小處于不同電位的系統(tǒng)部件之間打火的危險(xiǎn)性。由于內(nèi)管的內(nèi)表面上摻雜物堆積會(huì)產(chǎn)生打火，內(nèi)管整體性遭到破壞而會(huì)釋放出浮在空氣中的物質(zhì)，則外管形成容器盛裝這些物質(zhì)。外管還起到保證內(nèi)管的同軸性并使其保持該位置。合適的定位和同軸性很重要，可確保摻雜物由內(nèi)管不斷排出，并可防止內(nèi)管隨使用時(shí)間的延長(zhǎng)而產(chǎn)生不必要的移動(dòng)和整體變形或變質(zhì)。


圖1是一離子注入系統(tǒng)側(cè)剖面視圖，其內(nèi)裝有根據(jù)本發(fā)明原理構(gòu)成的改進(jìn)的真空排氣管組件；圖2是圖1所示的改進(jìn)的真空排氣管組件部分的局部分離視圖；圖3是圖2所示真空排氣管組件內(nèi)部波紋管的側(cè)剖面視圖；圖4是圖2所示真空排氣管組件的下端固定頭的側(cè)剖面視圖5是圖2所示真空排氣管組件的上端固定頭的側(cè)剖面視圖。
參見(jiàn)附圖，圖1示出了一種離子注入器，由標(biāo)號(hào)10表示，它包括端部12、束管14、及目標(biāo)或終端盤16，上述所有部件裝入一接地的外殼18內(nèi)。該端部包括一包含有氣室22、離子源24和質(zhì)量磁分析器26的高電壓護(hù)罩20。根據(jù)本發(fā)明原理構(gòu)成的排氣管組件28將高電壓護(hù)罩20與外殼18相連，下面將作進(jìn)一步說(shuō)明。
由離子源24發(fā)射的離子束29沿控制的運(yùn)行軌跡通過(guò)質(zhì)量磁分析器26射出端部12，然后通過(guò)束管14到達(dá)終端盤16，注入置于終端盤內(nèi)的半導(dǎo)體晶片內(nèi)。沿控制的運(yùn)行軌跡，離子束29成形、對(duì)其計(jì)值并使其加速到具有理想的注入能量。
離子源24包括構(gòu)成等離子氣體室32的護(hù)罩30和離子分離器34。直接從氣室22壓縮氣體獲得或間接通過(guò)氣化固體摻雜材料獲得的電離摻雜氣體噴入等離子氣體室32。典型離子源元素有硼(B)、磷(P)、鈣(Ga)、銦(In)、銻(Sb)和砷(As)。除硼以外，大多數(shù)離子源元素是以固態(tài)供給的，硼一般由氣室22以氣態(tài)三氟化硼或二硼化物形式供給。
傳遞給電離摻雜氣體能量，以在等離子氣體室32內(nèi)產(chǎn)生離子。一般產(chǎn)生的是陽(yáng)離子，盡管本發(fā)明也可適用于離子源產(chǎn)生陰離子的系統(tǒng)。由離子分離器34將陽(yáng)離子通過(guò)等離子氣體室32內(nèi)的狹縫排出，離子分離器34包括多個(gè)加有負(fù)電壓的電極，隨著距等離子氣體室狹縫距離增大，其電壓幅值增大。因此，離子分離器的功能是從等離子氣體室分離具有陽(yáng)離子的離子束29，并使分離的離子加速進(jìn)入質(zhì)量磁分析器26。
質(zhì)量磁分析器26作用是使具有適當(dāng)電荷質(zhì)量比的離子通過(guò)以進(jìn)入束管14。采用質(zhì)量磁分析器26是必要的，因?yàn)殡x子源24除產(chǎn)生具有適當(dāng)電荷質(zhì)量比的離子外，還產(chǎn)生電荷質(zhì)量比值比期望的值大或小的離子。電荷質(zhì)量比不合適的離子不適于注入晶片。質(zhì)量磁分析器26包括由鋁制的束導(dǎo)管38構(gòu)成的曲線狀束通道，由一離子源區(qū)真空泵36對(duì)其進(jìn)行抽真空。沿該通道運(yùn)行的離子束29受質(zhì)量磁分析器26產(chǎn)生的磁場(chǎng)作用。
離開(kāi)磁分析器26后，離子束29由在相互正交平面內(nèi)折射射束內(nèi)離子的四極透鏡40進(jìn)行聚束。四極透鏡40沒(méi)有進(jìn)行足夠折射和聚束的射束內(nèi)離子會(huì)射離離子束，而不會(huì)到達(dá)終端盤16。離子束內(nèi)的離子由加速/減速電極42進(jìn)行加速或減速以獲得理想的最終注入能量，通過(guò)抽真空管44后射向終端盤16。由束管區(qū)真空泵46對(duì)管44抽真空。
終端盤16包括目標(biāo)室48，目標(biāo)室48安裝在一可移動(dòng)的支座50上，目的是使目標(biāo)室可隨離子束進(jìn)行調(diào)整。離子束射到由晶片托架52托住的一片或多片半導(dǎo)體晶片上，安裝的晶片托架52可由電機(jī)56驅(qū)動(dòng)繞軸54旋轉(zhuǎn)。直線驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)58使晶片托架52在室48內(nèi)向后和向前轉(zhuǎn)換位置。
半導(dǎo)體晶片由機(jī)械手臂60通過(guò)真空入口62插入目標(biāo)室48。目標(biāo)室真空泵64對(duì)目標(biāo)室48抽真空，使其內(nèi)低壓基本與抽真空管44內(nèi)氣壓相等。(真空泵36、46和64是通常已知的“低真空泵”。)機(jī)械手臂60在盒66和目標(biāo)室48之間往復(fù)移動(dòng)。在該技術(shù)中，完成這一傳遞運(yùn)動(dòng)的機(jī)構(gòu)是眾所周知的。
圖1所示離子注入系統(tǒng)10的工作由兩高壓電源供電(圖中未示)，每個(gè)高壓電源可輸出80kV至100kV電壓。第一高壓電源向加速/減速電極42供電，加速/減速電極42相對(duì)于系統(tǒng)外殼18(接地)的電勢(shì)達(dá)到100kV。輸出端高電壓護(hù)罩20電勢(shì)也是100kV，在與加速/減速電極42相同的電壓下工作。絕緣襯套68使系統(tǒng)外殼(接地)和輸出端高壓護(hù)罩20之間形成電絕緣。將束管總成內(nèi)抽真空管44與加速/減速電極42之間絕緣的絕緣襯套70起相同目的的作用。
第二高壓電源向分離電極34供電，分離電極34的工作電勢(shì)相對(duì)于加速/減速電極42達(dá)到100kV。因此，氣室22和離子源24工作電勢(shì)相對(duì)于接地電勢(shì)達(dá)到200kV。絕緣襯套72使輸出端高電壓護(hù)罩20(100kV電勢(shì))與氣室/離子源(200kV電勢(shì))電絕緣。使抽真空電極34和氣室/離子源之間絕緣的絕緣襯套72起相同的作用。
離子源區(qū)真空泵36與排氣管組件28相連，排氣管組件28由泵36伸出并穿過(guò)輸出端高電壓護(hù)罩20和接地的系統(tǒng)外殼18。圖中沒(méi)有給出束管區(qū)真空泵46和目標(biāo)室真空泵64的排氣管，因?yàn)?，盡管本發(fā)明的排氣管組件可以用于該泵中，但是還特別應(yīng)用于高壓環(huán)境，如離子源區(qū)真空泵工作的高壓環(huán)境。
由圖2所示的排氣管組件28結(jié)構(gòu)更為清晰，它連接于接地外殼18和高壓護(hù)罩20之間。排氣管組件28包括包圍內(nèi)波紋管84(如圖2斷開(kāi)部所示)的外圓筒形管82。內(nèi)波紋管84提供一條沿軸87延伸于排氣管組件28全長(zhǎng)的通道85。在該最佳實(shí)施例中，外圓筒形管82和內(nèi)波紋管84由聚四氟乙烯(PTFE)，或特氟隆材料制造，特氟隆是杜邦公司的注冊(cè)商標(biāo)。PTFE不導(dǎo)電，并且在加熱狀態(tài)能保持結(jié)構(gòu)完整。除PTFE外的其它材料也可用于制造管82、84，只要其具有同樣的結(jié)構(gòu)和導(dǎo)電特性。
排氣管組件28具有下端固定頭86和上端固定頭88，由于不需要絕緣最好采用金屬制成(例如不銹鋼)。下端固定頭86將排氣管組件28與離子源區(qū)真空泵36相連(通過(guò)圖中未示出的輔助排氣結(jié)構(gòu)(如管道))，上端固定頭88將排氣管組件28與外界環(huán)境相連通(也通過(guò)圖中未示的輔助管道)。下端固定頭86采用錐形接頭90，上端固定頭88的連接采用法蘭接頭92。
圖3、4和5分別示出了內(nèi)波紋管84、下端固定頭86和上端固定頭88。內(nèi)波紋管84包括波紋中段94、下端區(qū)段96和上端區(qū)段98。形成波紋管84的波紋內(nèi)表面的單個(gè)波浪起伏99向軸87傾斜，使內(nèi)表面不會(huì)形成凸起或凹陷，否則會(huì)引起摻雜物聚積。此外，收集容器與位于排氣管組件28下面的排氣結(jié)構(gòu)結(jié)合，以收集由通道85落下的摻雜物。
由波紋管的波紋內(nèi)表面形成的波浪起伏還起到增大接地路徑長(zhǎng)度的作用，漏電需要通過(guò)管84的高電壓(下)端到接地(上)端進(jìn)行釋放。增大接地路徑長(zhǎng)度很重要，因?yàn)橥ㄟ^(guò)接地路徑全長(zhǎng)的漏電會(huì)造成離子注入系統(tǒng)10斷電的高壓護(hù)罩20和接地外殼18之間的打火。這樣，波紋內(nèi)管84會(huì)有效降低護(hù)罩20和外殼18間打火的危險(xiǎn)性。
下端固定頭86和上端固定頭88具有安裝于波紋內(nèi)管84和外圓筒形管82以形成真空排氣管組件28的階梯形分段。如圖2-5所示，波紋內(nèi)管84的下端分段96在下端固定頭86的內(nèi)階梯形分段100上滑動(dòng)。內(nèi)階梯形分段100具有環(huán)狀隆起102，在波紋內(nèi)管84和下端固定頭86之間形成滑動(dòng)配合。這樣，在波紋內(nèi)管84和下端固定頭86之間形成活動(dòng)連接。由于構(gòu)成管84的PTFE材料受熱易于收縮，因此在離子注入系統(tǒng)10工作時(shí)，波紋內(nèi)管84和下端固定頭86之間的配合會(huì)得到改善。
同樣地，波紋內(nèi)管84的上端分段98在上端固定頭88的內(nèi)階梯形分段106上滑動(dòng)。內(nèi)階梯形分段106具有環(huán)狀隆起108，在波紋內(nèi)管84和上端固定頭88之間形成滑動(dòng)配合。這樣，波紋內(nèi)管84可從兩端固定頭活動(dòng)拆卸下來(lái)。
外圓筒形管82包圍整個(gè)波紋內(nèi)管84，并具有在下端固定頭86和上端固定頭88的外階梯形分段112和114上滑動(dòng)的相應(yīng)端部。O形環(huán)116位于外階梯形分段112的固定環(huán)道118內(nèi)，在外圓筒形管82和下端固定頭86間形成密封。同樣，O形環(huán)120位于外階梯形分段114的環(huán)道122內(nèi)，在外圓筒形管82和上端固定頭88間形成密封。螺釘124和126使外圓筒形管82相應(yīng)固定在下、上端固定頭的外階梯形分段上。螺絲孔128和130內(nèi)分別擰入螺釘124和126。
盡管公開(kāi)的本發(fā)明實(shí)施例包括上、下端固定頭88和86，但考慮了本發(fā)明可以采用或不用獨(dú)立的端固定頭。不需采用端固定頭即可保持由外管包圍的內(nèi)管的雙隔壁結(jié)構(gòu)，例如，采用使內(nèi)、外管直接相互結(jié)合的裝置。有一種裝置是快速結(jié)合結(jié)構(gòu)，使內(nèi)管或外管其中之一的一分段裝入內(nèi)管或外管之中另一個(gè)的分段，而不需采用獨(dú)立的結(jié)合件。換句話說(shuō)，在一沒(méi)有采用獨(dú)立的端固定頭的實(shí)施例中，利用結(jié)合件直接將內(nèi)管和外管結(jié)合起來(lái)。這樣，此處使用的述語(yǔ)“端固定頭”表示接合于包括內(nèi)、外管82、84的總成的兩端中任何一端的任何結(jié)構(gòu)。
外圓筒形管82保護(hù)并支持內(nèi)波紋管84的形狀和長(zhǎng)度，保證組件28的堅(jiān)固性，只有單一內(nèi)波紋管是不能獲得這樣的堅(jiān)固性的。在最佳實(shí)施例中，外圓筒形管具有厚于內(nèi)波紋管壁的管壁。此外，如果內(nèi)管被擊穿，則可能是由于內(nèi)管內(nèi)表面摻雜物堆積引起的放電，包圍內(nèi)管的外管會(huì)形成密封裝置盛裝有毒的流出物。O形環(huán)116和120支撐該密封裝置。
離子注入系統(tǒng)10長(zhǎng)時(shí)間工作后，內(nèi)波紋管84被離子源區(qū)真空泵36排出的雜質(zhì)沾染。本發(fā)明排氣管組件28，具有外圓筒形管82包圍內(nèi)波紋管84形成的雙壁結(jié)構(gòu)，使組件可重新構(gòu)造價(jià)廉的排氣管。并保持電絕緣的整體性。特別地，整個(gè)排氣管組件28首先從高壓護(hù)罩20和接地外殼18之間的位置拆下。松開(kāi)螺釘124和126使外圓筒形管82與端固定頭86和88分離。只要用力將管從端固定頭上拆下即可使內(nèi)波紋管84與端固定頭86和88分離。然后將新的替換內(nèi)波紋管84裝上端固定頭，外管82再與端固定頭接合，接著整個(gè)新組件28可重新裝入系統(tǒng)10。
以上對(duì)改進(jìn)的用于離子注入的真空泵排氣管組件以及重新構(gòu)造價(jià)廉的組件以保持其電絕緣整體性的方法進(jìn)行了描述。但是，應(yīng)該明白該描述是通過(guò)實(shí)施例進(jìn)行的，本發(fā)明不僅限于所述的個(gè)別實(shí)施例，可以對(duì)上述描述進(jìn)行不背離由下面的權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明范圍內(nèi)進(jìn)行各種重組、變形和替代。
權(quán)利要求
1.一種雙壁排氣總成(28)，包括一第一端固定頭(86)；一第二端固定頭(88)；一內(nèi)管(84)，具有與所述第一端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段(100)接合的第一端(96)和與所述第二端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段(106)接合的第二端(98)；一外管(82)，包圍所述內(nèi)管(84)，并具有與所述第一端固定頭的外安裝區(qū)段(112)接合的第一端和與所述第二端固定頭的外安裝區(qū)段(114)接合的第二端。
2.如權(quán)利要求1所述的雙壁排氣總成(28)，其特征在于所述的內(nèi)管(84)具有延伸至其基本區(qū)段長(zhǎng)度的整個(gè)內(nèi)波紋表面，所述波紋表面具有向所述內(nèi)管的軸(87)傾斜的多個(gè)表面面(94)。
3.如權(quán)利要求2所述的雙壁排氣總成(28)，其特征在于所述內(nèi)管(84)和外管(82)均由絕緣材料制成。
4.如權(quán)利要求3所述的雙壁排氣總成(28)，其特征在于所述內(nèi)管(84)和外管(82)均由聚四氟乙烯制成。
5.如權(quán)利要求3所述的雙壁排氣總成(28)，其特征在于所述內(nèi)管(84)通過(guò)可活動(dòng)的連接機(jī)構(gòu)(102、108)與所述第一和第二端固定頭接合。
6.如權(quán)利要求3所述的雙壁排氣總成(28)，其特征在于進(jìn)一步包括一第一密封件(116)，裝在所述外管的所述第一端和所述第一端固定頭(86)的所述外安裝區(qū)段(112)之間；一第二密封件(120)，裝在所述外管的所述第二端和所述第二端固定頭(88)的所述外安裝區(qū)段(114)之間。
7.一種真空排氣裝置，包括一由外排氣管(82)包圍的內(nèi)排氣管(84)，所述內(nèi)排氣管和外排氣管具有固定的相互配合，所述真空排氣裝置具有可與排氣結(jié)構(gòu)(86、88)接裝的第一和第二端。
8.如權(quán)利要求7所述的真空排氣裝置，所述的內(nèi)管(84)具有大致與其區(qū)段長(zhǎng)度相當(dāng)?shù)牟y表面，所述波紋表面具有向所述內(nèi)管的軸(87)傾斜的多個(gè)表面(94)。
9.如權(quán)利要求8所述的真空排氣裝置，所述內(nèi)、外管(84、82)均由絕緣材料制成。
10.如權(quán)利要求9所述的真空排氣裝置，所述內(nèi)、外管(84、82)均由聚四氟乙烯制成。
11.一種離子注入系統(tǒng)(10)，包括一端部(12)，包括一高壓護(hù)罩(20)，至少部分遮蓋(i)產(chǎn)生離子束(29)的離子源(24)，(ii)傳輸該離子束的束導(dǎo)管(14)，以及(i)對(duì)該束導(dǎo)管抽真空的真空泵(36)；一接地外殼(18)，包圍所述高壓護(hù)罩(20)；一絕緣的排氣管組件(28)，連接在接地外殼(18)和所述高壓護(hù)罩(20)之間，所述組件包括(i)一第一端固定頭(86)；(ii)一第二端固定頭(88)；(iii)一內(nèi)管(84)，具有與所述第一端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段(100)接合的第一端(96)和與所述第二端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段(106)接合的第二端(98)；及(iv)一外管(82)，包圍所述內(nèi)管(84)，內(nèi)管(84)具有與所述第一端固定頭的外安裝區(qū)段(112)接合的第一端和與所述第二端固定頭的外安裝區(qū)段(114)接合的第二端。
12.如權(quán)利要求11所述的離子注入系統(tǒng)(10)，其特征在于所述內(nèi)管(84)具有延伸至其基本區(qū)段長(zhǎng)度的內(nèi)波紋表面，所述波紋表面包括向所述內(nèi)管的軸(87)傾斜的多個(gè)表面(94)。
13.如權(quán)利要求12所述的離子注入系統(tǒng)(10)，其特征在于所述內(nèi)、外管(84、82)均由聚四氟乙烯制成。
14.如權(quán)利要求12所述的離子注入系統(tǒng)(10)，其特征在于所述內(nèi)波紋管(84)通過(guò)可活動(dòng)的連接機(jī)構(gòu)(102、108)與所述第一和第二端固定頭接合。
15.如權(quán)利要求12所述的離子注入系統(tǒng)(10)，其特征在于進(jìn)一步包括一第一密封件(116)，裝在所述外管的所述第一端和所述第一端固定頭(86)的所述外安裝區(qū)段(112)之間；一第二密封件(120)，裝在所述外管的所述第二端和所述第二端固定頭(88)的所述外安裝區(qū)段(114)之間。
16.一種重新構(gòu)造雙壁排氣總成(28)的方法，該排氣總成包括(i)一個(gè)一次性使用的內(nèi)管(84)，具有與所述第一端固定頭(86)的內(nèi)安裝區(qū)段(100)接合的第一端(96)和與所述第二端固定頭(88)的內(nèi)安裝區(qū)段(106)接合的第二端(98)；及(ii)一外管(82)，具有與所述第一端固定頭的外安裝區(qū)段(112)接合的第一端和與所述第二端固定頭的外安裝區(qū)段(114)接合的第二端，所述方法包括以下步驟將所述外管(82)與所述第一和第二端固定頭(86、88)的所述外安裝區(qū)段(112、114)分離；將所述一次性使用的內(nèi)管(84)與所述第一和第二端固定頭(86、88)的所述內(nèi)安裝區(qū)段(100、106)分離；用替換內(nèi)管取代該一次性使用的內(nèi)管，將所述替換內(nèi)管與所述第一和第二端固定頭(86、88)的所述內(nèi)安裝區(qū)段(100、106)接合；以及重新將所述外管與所述第一和第二端固定頭(86、88)的所述外安裝區(qū)段(112、114)接合。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于所述替換內(nèi)管(84)具有在其整個(gè)長(zhǎng)度段內(nèi)延伸的內(nèi)波紋表面，所述波紋表面包括向所述替換內(nèi)管的軸(87)傾斜的多個(gè)表面(94)。
18.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于所述替換內(nèi)管(84)由聚四氟乙烯制成。
19.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于所述替換內(nèi)波紋管(84)通過(guò)可活動(dòng)的連接機(jī)構(gòu)(102、108)與所述第一和第二端固定頭接合。
20.如權(quán)利要求17所述的方法，其特征在于進(jìn)一步包括由所述外管和第一、第二端固定頭(86、88)形成的密封接合步驟在所述外管的所述第一端和所述第一端固定頭(86)的所述外安裝區(qū)段(112)之間安裝一第一密封件(116)；及(ii)在所述外管的第二端和所述第而端固定頭(88)的所述外安裝區(qū)段(114)之間安裝一第二密封件(120)。
全文摘要
一種雙壁排氣管組件(28),適用于離子注入系統(tǒng),用于連接處于不同電勢(shì)的系統(tǒng)。該組件包括一個(gè)一次性使用的波紋內(nèi)管(84),連接于第一和第二端固定頭的內(nèi)安裝區(qū)段之間。以及一耐用的外管(82),連接于第一和第二端固定頭的外安裝區(qū)段之間。內(nèi)、外管(84、82)由聚四氟乙烯(PTFE)制成,或一些類似的具有適當(dāng)不可燃特性的絕緣材料制成。管(84)的內(nèi)波紋表面包括向該內(nèi)管的軸(87)傾斜的多個(gè)表面,以防止摻雜物堆積。波紋表面可有效增大接地路徑的長(zhǎng)度,漏電需通過(guò)管的長(zhǎng)度,因此減小處于不同電位的系統(tǒng)組件之間放電的危險(xiǎn)。
文檔編號(hào)C23C14/48GK1201870SQ9811510
公開(kāi)日1998年12月16日 申請(qǐng)日期1998年5月22日 優(yōu)先權(quán)日1997年5月22日
發(fā)明者K·R·弗里爾, J·P·奎爾, A·S·德諾姆 申請(qǐng)人:易通公司