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可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備的制作方法

文檔序號:12300687閱讀:657來源:國知局
可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及噴涂設(shè)備領(lǐng)域,尤其是涉及一種可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備。



背景技術(shù):

噴涂磁控濺射靶材應(yīng)用于觸摸屏、建筑玻璃、汽車玻璃、太陽能光伏、裝飾五金等產(chǎn)業(yè),市場容量巨大。但國內(nèi)噴涂磁控濺射靶材市場中,高端產(chǎn)品幾乎被德國、美國、比利時等發(fā)達(dá)國家壟斷。由于技術(shù)封閉和起步較晚,國內(nèi)廠家一般均采用噴槍直接噴涂材料成型:一方面由于是在敞開的大氣環(huán)境下高溫噴涂材料成型,成型的金屬或合金靶材材料中氧氮含量必然大幅增加,導(dǎo)致所成型的靶材材料在磁控濺射時的成膜性和導(dǎo)電性不佳而無法使用;另一方面,氧化物陶瓷靶材材料在常壓條件下通過高溫?zé)釃娡亢笸ǔа?,失氧的氧化物涂層因具有?dǎo)電性而能夠滿足直流磁控濺射的需要,不導(dǎo)電的靶材材料在直流磁控濺射過程中根本無法起弧,導(dǎo)致濺射過程無法進(jìn)行;再一方面:如果分開單獨(dú)購置專用設(shè)備,對企業(yè)來說,占地和資金就都要至少多出一倍。這就需要一種多功能裝置設(shè)備:使噴涂過程既能在常壓環(huán)境下噴涂氧化物類磁控濺射靶材材料、又能方便快速地形成低壓環(huán)境,噴涂金屬及其合金等要求低氧氮含量的磁控濺射靶材。但目前國內(nèi)外市場上還沒有這樣的裝置設(shè)備。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于,針對現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷,提供一種可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:構(gòu)造一種可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備,包括:

噴涂室,包括底座以及可分離地罩在底座上的密封罩,底座與密封罩之間形成密封,以密封整個噴涂室;

工作臺,設(shè)在噴涂室中,其上設(shè)有可安裝待噴涂件的安裝機(jī)構(gòu);

噴槍,設(shè)在工作臺上,以向安裝在安裝機(jī)構(gòu)上的待噴涂件進(jìn)行噴涂;

抽真空機(jī)構(gòu),與噴涂室內(nèi)部連通;

抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu),與噴涂室內(nèi)部連通。

優(yōu)選地,噴槍可滑動或轉(zhuǎn)動地設(shè)在工作臺上。

優(yōu)選地,噴槍可沿第一方向和第二方向滑動地設(shè)在工作臺上,第一方式和第二方向不平行,噴涂設(shè)備還包括帶動噴槍移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu)。

優(yōu)選地,噴槍為電弧噴槍、冷氣動力噴槍或等離子噴槍。

優(yōu)選地,安裝機(jī)構(gòu)包括可夾持待噴涂件的夾具,以實(shí)現(xiàn)待噴涂件的安裝。

優(yōu)選地,密封罩在上方罩住工作臺,罩子的開口形狀與工作臺的外形對應(yīng)。

優(yōu)選地,該噴涂設(shè)備包括可與密封罩連接的吊裝機(jī)構(gòu),以通過吊裝機(jī)構(gòu)打開或蓋上密封罩。

優(yōu)選地,抽真空機(jī)構(gòu)和/或抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)從工作臺底部向噴涂室連通。

優(yōu)選地,抽真空機(jī)構(gòu)以及抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)與噴涂室之間連通管道上設(shè)有管道切換機(jī)構(gòu),管道切換機(jī)構(gòu)包括閥門,以通過閥門打開或關(guān)閉抽真空機(jī)構(gòu)以及抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)與噴涂室之間的連接。

優(yōu)選地,該噴涂設(shè)備還包括基座,噴涂室、工作臺、噴槍、抽真空機(jī)構(gòu)和抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)設(shè)在基座上。

實(shí)施本發(fā)明的技術(shù)方案,至少具有以下的有益效果:本發(fā)明的噴涂設(shè)備用于噴涂濺射靶材或其它高端產(chǎn)品,通過更換不同噴槍和啟閉密封罩方便地實(shí)現(xiàn)常壓電弧噴涂、低壓電弧噴涂、常壓等離子噴涂、低壓等離子噴涂、常壓冷氣動力噴涂、低壓冷氣動力噴涂等噴涂工藝,極大地方便企業(yè)選用各種工藝噴涂金屬、陶瓷、合金等多種濺射靶材材料,為企業(yè)節(jié)約了投資。

附圖說明

下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明,附圖中:

圖1是本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中的噴涂設(shè)備的立體圖(密封罩處于密封狀態(tài))。

圖2是圖1中的噴涂設(shè)備的另一立體圖(密封罩處于打開狀態(tài))。

圖3是圖2中a部位的局部放大圖。

圖4是圖1中的噴涂設(shè)備的另一立體圖(密封罩處于打開并放置在一旁的狀態(tài))。

圖5是圖1中的噴涂設(shè)備的另一立體圖(密封罩處于密封狀態(tài))

圖6是圖1中的噴涂設(shè)備的另一立體圖(密封罩處于打開狀態(tài))。

圖7是圖1中的噴涂設(shè)備的另一立體圖(密封罩處于打開并放置在一旁的狀態(tài))。

其中,1.噴涂室,11.底座,12.密封罩,12a.觀察窗,2.工作臺,21.夾具,3.噴槍,4.抽真空機(jī)構(gòu),5.抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu),6.管道切換機(jī)構(gòu),61.連通管道,7.吊裝機(jī)構(gòu),8.基座,9.待噴涂件。

具體實(shí)施方式

為了對本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解,現(xiàn)對照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的具體實(shí)施方式。在本發(fā)明的可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備的描述中,需要理解的是,“前”、“后”、“上”、“下”、“正面”、“背面”等術(shù)語僅是為了便于描述本發(fā)明的技術(shù)方案,而不是指示所指的裝置或元件必須具有特定的方位,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。

如圖1-7所示,本發(fā)明的可在常壓和低壓間轉(zhuǎn)換的噴涂設(shè)備,包括:

噴涂室1,包括底座11以及可分離地罩在底座11上的密封罩12,底座11與密封罩12之間形成密封,以密封整個噴涂室1,底座11優(yōu)選為板狀,以便于簡化密封的結(jié)構(gòu);

工作臺2,設(shè)在噴涂室1中,其上設(shè)有可安裝待噴涂件9的安裝機(jī)構(gòu);

噴槍3,設(shè)在工作臺2上,以向安裝在安裝機(jī)構(gòu)上的待噴涂件9進(jìn)行噴涂;

抽真空機(jī)構(gòu)4,與噴涂室1內(nèi)部連通,用于使噴涂室1中形成真空;

抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5,與噴涂室1內(nèi)部連通,用于除掉工作臺2上的塵。

其中,待噴涂件9可以是待噴襯板或襯管裝等磁控濺射靶材;抽真空機(jī)構(gòu)4通??梢詾檎婵毡靡詫?shí)現(xiàn)抽真空;抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5中可以設(shè)有風(fēng)機(jī)以實(shí)現(xiàn)除塵。當(dāng)需要進(jìn)行常壓噴涂時,如圖2-4、6-7所示,將密封罩12從底座11上分離,將待噴涂件9安裝在安裝機(jī)構(gòu)上并內(nèi)部通水冷卻,啟動抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5以除掉工作臺2上的塵,啟動噴槍3送氧化物類陶瓷粉,噴槍3開始按輸入程序噴涂磁控濺射靶材,等噴涂到規(guī)定尺寸后停粉、滅槍,取出噴涂好的襯板或襯管,這樣,一件常壓環(huán)境下噴涂的氧化物陶瓷類的磁控濺射靶材就完成了;通過更換不同噴槍3,便可實(shí)現(xiàn)常壓電弧噴涂、常壓冷氣動力噴涂、常壓等離子噴涂等噴涂磁控濺射靶材工藝。當(dāng)需要進(jìn)行常壓噴涂時,如圖1、5所示,將待噴涂件9安裝在安裝機(jī)構(gòu)上并內(nèi)部通水冷卻,將密封罩12蓋在底座11上,形成密封的噴涂室1,啟動抽真空機(jī)構(gòu)4使噴涂室1內(nèi)的氣壓抽至工藝要求的真空度后即可啟動噴槍3噴涂金屬或金屬合金粉,噴槍3開始按輸入程序噴涂待噴涂件9,等噴涂到規(guī)定尺寸后停粉、滅槍,關(guān)閉抽真空機(jī)構(gòu)4,噴涂室1泄壓后打開密封罩12,取出融射好的噴涂件,這樣,一件低壓真空環(huán)境下噴涂的金屬或金屬合金磁控濺射靶材就完成了;通過更換電弧噴槍、冷氣動力噴槍或等離子噴槍等不同的噴槍3,便可實(shí)現(xiàn)低壓電弧噴涂、低壓等離子噴涂、低壓冷氣動力噴涂等噴涂磁控濺射靶材工藝。

優(yōu)選地,噴槍3可滑動或轉(zhuǎn)動地設(shè)在工作臺2上,以通過滑動或轉(zhuǎn)動改變位置或方向來適應(yīng)待噴涂件9的位置和尺寸,可以全面地噴涂待噴涂件9。在本實(shí)施例中如圖3所示,噴槍3可沿第一方向和第二方向滑動地設(shè)在工作臺2上,第一方式和第二方向不平行,其中該噴涂設(shè)備還包括帶動噴槍3移動的驅(qū)動機(jī)構(gòu),從而使噴槍3可以調(diào)整位置。在本實(shí)施例中,噴槍固定在工作臺上的移動機(jī)械臂上,移動機(jī)械臂可沿第一、第二方向移動,從而實(shí)現(xiàn)噴槍的移動;第一方向和第二方向分別為相互垂直的x軸方向和y軸方向,可以通過編程控制噴槍3自動完成x軸和y軸兩個方向的運(yùn)動。

在本實(shí)施例中,安裝機(jī)構(gòu)包括可夾持待噴涂件9的夾具21,以實(shí)現(xiàn)待噴涂件9的安裝。

優(yōu)選地,密封罩12在上方罩住工作臺2,罩子的開口形狀與工作臺2的外形對應(yīng),在本實(shí)施例中工作臺2的外形是矩形的,以便使噴涂室1形成良好的密封狀態(tài);此外,工作臺2的外形也可以根據(jù)工作室中的機(jī)構(gòu)的尺寸來采用其它形狀。其中,工作臺2外圍設(shè)有密封元件,如硅膠密封圈,以實(shí)現(xiàn)噴涂室1的密封;密封罩12為四周帶觀察窗12a的鋼結(jié)構(gòu)密封罩12,以便觀察噴涂室1內(nèi)的情況。

在本實(shí)施例中,如圖1-7所示,該噴涂設(shè)備包括可與密封罩12連接的吊裝機(jī)構(gòu)7,以通過吊裝機(jī)構(gòu)7升降密封罩12,即打開或蓋上密封罩12,換言之,當(dāng)?shù)跹b機(jī)構(gòu)7升起密封罩12時,可以進(jìn)行常壓噴涂,當(dāng)?shù)跹b機(jī)構(gòu)7降下密封罩12時,可以進(jìn)行低壓噴涂;吊裝機(jī)構(gòu)7為液壓、機(jī)械或電動裝置,可方便地把低壓罩升起移走或落回到密封位。此外,當(dāng)然也可以通過其它設(shè)備或手動移動密封罩12。

優(yōu)選地,抽真空機(jī)構(gòu)4和/或抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5通過連通管道61從工作臺2底部向噴涂室1連通,這樣可以不影響工作臺2與密封罩12之間的分合,并且使得顯露工作臺2上的機(jī)構(gòu)盡量簡單。

優(yōu)選地,抽真空機(jī)構(gòu)4以及抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5與噴涂室1之間連通管道上設(shè)有管道切換機(jī)構(gòu)6,管道切換機(jī)構(gòu)6包括閥門,以通過閥門打開或關(guān)閉抽真空機(jī)構(gòu)4以及抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5與噴涂室1之間的連接,從而方便在常壓和低壓噴涂模式之間切換。具體而言,管道切換機(jī)構(gòu)6由蝶閥或氣動擋板閥等管道閥門組成,可將噴涂作業(yè)區(qū)產(chǎn)生的粉塵通過管道切換機(jī)構(gòu)6切換到大氣除塵模式或真空除塵模式。

抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5可以為濕式或干式工業(yè)抽風(fēng)除塵設(shè)備,抽真空機(jī)構(gòu)4可以是水環(huán)真空泵、滑閥真空泵、羅茨真空泵等真空泵或是它們的組合及它們和濾塵器的組合,可根據(jù)需要選擇。

優(yōu)選地,本發(fā)明的噴涂裝置還包括基座8,噴涂室1、工作臺2、噴槍3、抽真空機(jī)構(gòu)4和抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5設(shè)在基座8上。在本實(shí)施例中,如圖4-7所示,抽真空機(jī)構(gòu)4和/或抽風(fēng)排塵機(jī)構(gòu)5通過連通管道61與噴涂室1連通,連通管道61先穿到基座8底部,然后從基座8底部向上穿過基座8和底座11并與噴涂室1連通;其中,基座8為一塊鋼結(jié)構(gòu)底的厚實(shí)的無孔金屬基板,以向該噴涂設(shè)備的機(jī)構(gòu)提供足夠的支撐。

綜上所述,本發(fā)明的噴涂設(shè)備用于噴涂濺射靶材或其它高端產(chǎn)品,通過更換不同噴槍3和啟閉密封罩12方便地實(shí)現(xiàn)常壓電弧噴涂、低壓電弧噴涂、常壓等離子噴涂、低壓等離子噴涂、常壓冷氣動力噴涂、低壓冷氣動力噴涂等噴涂工藝,極大地方便企業(yè)選用各種工藝噴涂金屬、陶瓷、合金等多種濺射靶材材料,為企業(yè)節(jié)約了投資。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,本發(fā)明可以有各種更改、組合和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的權(quán)利要求范圍之內(nèi)。

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