本實(shí)用新型涉及真空離子鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種節(jié)能型陰極電弧源。

背景技術(shù)：

電弧離子鍍(Arc ion Plating)離子鍍膜，是70年代由蘇聯(lián)人發(fā)明，80年代初，美國的Muti Arc公司將其應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)，后來在世界范圍內(nèi)得到蓬勃發(fā)展。鍍出的膜層速度快、致密度高，結(jié)合力好等特點(diǎn)。世界上比較知名的鍍膜設(shè)備廠如荷蘭的hauzer；瑞士balzers；日本kobelco等。國內(nèi)有普斯特；實(shí)力源；丹普等。

該技術(shù)具備很多優(yōu)點(diǎn)，離化率高70％～80％，所以沉積速度快、繞鍍性好、膜基結(jié)合力和膜層性能好；不產(chǎn)生熔池可以合理分配靶的位置，膜層均勻性好；可以施加負(fù)偏壓，入射離子能量高，膜層致密度高，由于可以活化膜基界面，促進(jìn)原子擴(kuò)散，因而膜基結(jié)合力好；一弧多用是蒸發(fā)源、離化源加熱源、清洗；可以低溫沉積；應(yīng)用廣泛，主要牽涉到各種刀具；車輛零部件；航空業(yè)；鐘表行業(yè)；各種裝飾。

目前的電弧源主要存在以下問題：靶材表面燃燒不均勻，存在材料浪費(fèi)等情況；電流太大，穩(wěn)定性不夠。申請(qǐng)?zhí)枮镃N 201420755131.6公開了一種陰極電弧源，包括濺射靶材、陰極體、永磁鐵、可調(diào)電磁鐵、輔助陽極、冷卻水裝置，所述濺射靶材與陰極體相接觸連接，所述陰極體右側(cè)安裝有永磁鐵，所述永磁鐵一端設(shè)有線圈，所述永磁鐵右側(cè)設(shè)有可調(diào)磁鐵，所述冷卻水裝置環(huán)繞所述陰極體。多弧離子鍍技術(shù)是離子鍍技術(shù)的一種改進(jìn)方法，它是把弧光放電作為金屬蒸發(fā)源的表面涂層技術(shù)。多弧離子鍍蒸發(fā)源是由水冷陰極；磁場(chǎng)；引弧電級(jí)等組成。該設(shè)計(jì)通過對(duì)多弧離子蒸發(fā)源的各結(jié)構(gòu)件改進(jìn)設(shè)計(jì)再組合從而達(dá)到改善膜層質(zhì)量、提高弧斑運(yùn)動(dòng)穩(wěn)定性，提高靶材利用率的作用。但是該種電弧源絕緣性差，設(shè)置了多個(gè)磁體，使其結(jié)構(gòu)復(fù)雜程度增加，且靶材表面燃燒仍然不夠均勻，電流穩(wěn)定性不足。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種節(jié)能型陰極電弧源，以解決現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)致的上述多項(xiàng)缺陷。

一種節(jié)能型陰極電弧源，包括調(diào)節(jié)套、蒸發(fā)源、蒸發(fā)源座、固定法蘭座、直角壓板、磁鐵座、磁場(chǎng)微調(diào)組件和輔助陽級(jí)組件，所述蒸發(fā)源固定在調(diào)節(jié)套內(nèi)，所述調(diào)節(jié)套通過蒸發(fā)源座安裝固定在固定法蘭座的一側(cè)，所述磁鐵座安裝在固定法蘭座的另一側(cè)并通過直角壓板固定，所述磁鐵座的內(nèi)部安裝有可在其內(nèi)滑動(dòng)的扁平狀的永磁體，永磁體的外側(cè)固定有磁場(chǎng)微調(diào)組件，所述輔助陽極組件安裝在固定法蘭座上并位于蒸發(fā)源的一側(cè)，所述蒸發(fā)源和固定法蘭座之間以及磁鐵座和固定法蘭座之間均安裝有絕緣墊。

優(yōu)選的，所述蒸發(fā)源的側(cè)面還設(shè)有屏蔽組件。

優(yōu)選的，所述絕緣墊具體為四氟絕緣墊。

優(yōu)選的，所述磁鐵座為圓筒狀。

優(yōu)選的，所述永磁體與蒸發(fā)源同軸心。

本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：該種節(jié)能型陰極電弧源采用扁平狀的永磁體，相較于傳統(tǒng)的永磁體來說，加強(qiáng)了磁場(chǎng)密度，靶材表面燃燒均勻，降低了耗材使用成本，通過在蒸發(fā)源和固定法蘭座之間以及磁鐵座和固定法蘭座之間均安裝有絕緣墊，增加了它們之間的絕緣性，減小相互之間的干擾，另外，增加了陽極線路，拉近陰陽極距離，從而達(dá)到了降低電流效果，降低電流損耗。

附圖說明

圖1為本實(shí)用新型所述的一種節(jié)能型陰極電弧源的正剖視圖。

其中：1—調(diào)節(jié)套，2—蒸發(fā)源，3—屏蔽組件，4—絕緣墊，5—固定法蘭座，6—直角壓板，7—磁鐵座，8—磁場(chǎng)微調(diào)組件，9—輔助陽級(jí)組件，10—蒸發(fā)源座，11—永磁體。

具體實(shí)施方式

為使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面結(jié)合具體實(shí)施方式，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。

如圖1所示，一種節(jié)能型陰極電弧源，包括調(diào)節(jié)套1、蒸發(fā)源2、蒸發(fā)源座、固定法蘭座5、直角壓板6、磁鐵座7、磁場(chǎng)微調(diào)組件8和輔助陽級(jí)組件9，所述蒸發(fā)源2固定在調(diào)節(jié)套1內(nèi)，所述調(diào)節(jié)套1通過蒸發(fā)源座10安裝固定在固定法蘭座5的一側(cè)，所述磁鐵座7安裝在固定法蘭座5的另一側(cè)并通過直角壓板6固定，所述磁鐵座7的內(nèi)部安裝有可在其內(nèi)滑動(dòng)的扁平狀的永磁體11，永磁體11的外側(cè)固定有磁場(chǎng)微調(diào)組件8，所述輔助陽極組件8安裝在固定法蘭座5上并位于蒸發(fā)源2的一側(cè)，所述蒸發(fā)源2和固定法蘭座5之間以及磁鐵座7和固定法蘭座5之間均安裝有絕緣墊4，所述絕緣墊4具體為四氟絕緣墊。

值得注意的是，所述蒸發(fā)源2的側(cè)面還設(shè)有屏蔽組件3，起到了很好的屏蔽作用。

在本實(shí)施例中，所述磁鐵座7為圓筒狀。

在本實(shí)施例中，所述永磁體11與蒸發(fā)源2同軸心，有助于提高磁場(chǎng)的均勻性。

基于上述，本實(shí)用新型采用扁平狀的永磁體11，相較于傳統(tǒng)的永磁體來說，加強(qiáng)了磁場(chǎng)密度，靶材表面燃燒均勻，降低了耗材使用成本，通過在蒸發(fā)源2和固定法蘭座5之間以及磁鐵座7和固定法蘭座5之間均安裝有絕緣墊4，增加了它們之間的絕緣性，減小相互之間的干擾，另外，增加了陽極線路，拉近陰陽極距離，從而達(dá)到了降低電流效果，降低電流損耗。

由技術(shù)常識(shí)可知，本實(shí)用新型可以通過其它的不脫離其精神實(shí)質(zhì)或必要特征的實(shí)施方案來實(shí)現(xiàn)。因此，上述公開的實(shí)施方案，就各方面而言，都只是舉例說明，并不是僅有的。所有在本實(shí)用新型范圍內(nèi)或在等同于本實(shí)用新型的范圍內(nèi)的改變均被本實(shí)用新型包含。