本發(fā)明涉及觸摸屏生產(chǎn)領(lǐng)域，具體涉及一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液及其制備方法。
背景技術(shù)：
目前，觸摸屏生產(chǎn)工藝包括絲網(wǎng)印刷，激光鐳射，一體式壓印成型（如metal mesh），濕法蝕刻等。這其中印刷及激光工藝存在制程精度差、生產(chǎn)效率低、耗費(fèi)人力物料成本較高等缺點(diǎn)。一體式壓印又受到良率低及外觀缺陷方面的弊端而不能得以技術(shù)推廣。濕法蝕刻屬于感光化學(xué)領(lǐng)域，具備成本低、生產(chǎn)效率及良率高、可靠性好、工藝簡(jiǎn)單且制程精度高、蝕刻選擇性好等一系列優(yōu)點(diǎn)。濕法蝕刻可廣泛用于制做高精細(xì)圖案化部件。而對(duì)于柔性基底上的薄膜刻蝕工藝，可以更好地選擇濕法蝕刻進(jìn)行。
金屬銅具有優(yōu)異的導(dǎo)電性能，其電阻率：1.75×10-8Ω?m。其延展性好，導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性高，因此在電纜、電氣和電子元器件制造業(yè)中是最常用的材料。另外，銅可以組成眾多種合金，并且可表現(xiàn)為優(yōu)異的機(jī)械性能及加工性能。所以精細(xì)類銅導(dǎo)線方案被廣泛應(yīng)用于印刷銅線路板及FPC柔性板等方面。
觸控屏邊緣金屬走線制作廣泛采用Mo-Al-Mo 工藝，特別是體現(xiàn)在玻璃基板上鍍膜后采用黃光制程制作Mo-Al-Mo走線。然而，在柔性薄膜上受Mo-Al-Mo膜層特性及卷繞低溫鍍膜工藝限制，該工藝路線是不可取的。另外，Mo-Al-Mo 工藝存在高價(jià)金屬(如Mo)的耗用及廢液排放，不益于環(huán)境保護(hù)。因此現(xiàn)行使用較多的是用Cu 或Cu合金來(lái)作為柔性觸控傳感器的邊緣引線。
根據(jù)大量文獻(xiàn)報(bào)道，銅蝕刻液廣泛用于于銅箔、印刷銅線路板等電子器件領(lǐng)域。這類電子器材的銅層厚度在微米級(jí)，不適用于柔性薄膜基材上銅蝕刻工藝。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種汽車半反半透型電致變色內(nèi)后視鏡用第三面導(dǎo)電膜及其制備方法，采用該第三面導(dǎo)電膜制備的半反半透型電致變色內(nèi)后視鏡，無(wú)論顏色、反射率、還是響應(yīng)速度，都可以滿足汽車對(duì)內(nèi)后視鏡的要求。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，其特征在于：包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 5~10g/L、鹽酸 2~10g/L、氯化鹽 4~12g/L、有機(jī)磷化合物 0.1~2.0g/L，其余成分為水；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸120~200g/L 、氯化鹽80~120g/L、銅保護(hù)劑 0.1~1.0mol/L、有機(jī)磷化合物 0.5~2.0g/L，其余成分為水。
進(jìn)一步地，所述蝕刻液a部分的酸當(dāng)量為0.10~0.50mol/L；所述蝕刻液b部分的酸當(dāng)量為2.5~6.0mol/L。
進(jìn)一步地，所述的有機(jī)磷化合物為羥基亞乙基二膦酸。
進(jìn)一步地，所述的銅保護(hù)劑為有機(jī)脒類、硫脲類化合物和/或雜環(huán)唑類螯合物。
進(jìn)一步地，所述的蝕刻液a部分為刻蝕銅層蝕刻液，其中的銅層包括銅、銅鎳、銅鎳鈦或其混合搭配膜層，且膜層厚度范圍在500-10000?。
進(jìn)一步地，所述的蝕刻液b部分為刻蝕底層ITO的蝕刻液；ITO層是形成觸控屏可視區(qū)的電極圖形。
本發(fā)明還涉及制備所述的蝕刻液的方法，根據(jù)配比將原料混合，并充分?jǐn)嚢?，得到蝕刻液a部分和蝕刻液b部分。
進(jìn)一步地，所述的原料混合時(shí)利用自動(dòng)供酸系統(tǒng)進(jìn)行混合。
本發(fā)明中涉及的蝕刻液應(yīng)用于在柔性薄膜上分步對(duì)銅及ITO膜層進(jìn)行蝕刻。本發(fā)明的蝕刻技術(shù)方案在于制備的蝕刻液是以不同配制成分分段對(duì)銅及銅下層ITO導(dǎo)電層進(jìn)行精密刻蝕；且蝕刻選擇性非常高，即分步蝕刻銅或蝕刻ITO導(dǎo)電層過(guò)程中槽體的蝕刻液不會(huì)對(duì)另外膜層進(jìn)行攻擊。蝕刻工藝調(diào)控更加靈活，且對(duì)銅及ITO蝕刻效率高。該蝕刻液應(yīng)用于柔性銅薄膜蝕刻，是一種應(yīng)用前景良好的柔性觸摸屏解決方案。
本發(fā)明制備的蝕刻液及其蝕刻方法結(jié)合了濕法蝕刻的工藝的特點(diǎn)，并利用蝕刻液的高選擇性分段對(duì)銅、ITO進(jìn)行刻蝕一步完成圖案化，實(shí)現(xiàn)了精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的制作。所述的銅及ITO蝕刻段蝕刻液濃度、溫度、噴壓等參數(shù)可實(shí)現(xiàn)不同工藝的調(diào)控，蝕刻方法穩(wěn)定控制性好，且能實(shí)現(xiàn)微米級(jí)精細(xì)銅引線圖形制作。蝕刻液通過(guò)中央自動(dòng)供酸系統(tǒng)（Central Chemical Supply System）配備后導(dǎo)入到生產(chǎn)主槽中，通過(guò)循環(huán)泵充分循環(huán)攪拌后進(jìn)行噴淋作業(yè)。整個(gè)過(guò)程操作簡(jiǎn)練、安全環(huán)保而且配制的藥液體系更加均勻穩(wěn)定。
附圖說(shuō)明
圖1為蝕刻液蝕刻銅薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例，進(jìn)一步闡明本發(fā)明。
實(shí)施例1：
一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 5g/L、鹽酸 2g/L、氯化鹽 4g/L、有機(jī)磷化合物 0.1g/L，其余成分為水；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸120g/L 、氯化鹽80g/L、銅保護(hù)劑 0.1mol/L、有機(jī)磷化合物 0.5g/L，其余成分為水。
實(shí)施例2：
一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 10g/L、鹽酸 10g/L、氯化鹽12g/L、有機(jī)磷化合物2.0g/L，其余成分為水；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸200g/L 、氯化鹽120g/L、銅保護(hù)劑 1.0mol/L、有機(jī)磷化合物 2.0g/L，其余成分為水。
實(shí)施例3：
一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 8g/L、鹽酸 5g/L、氯化鹽 8g/L、有機(jī)磷化合物 1g/L，其余成分為水；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸160g/L 、氯化鹽80~120g/L、銅保護(hù)劑 0.1~1.0mol/L、有機(jī)磷化合物 0.5~2.0g/L，其余成分為水。
實(shí)施例4：
一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 5g/L、鹽酸 10g/L、氯化鹽 9g/L、羥基亞乙基二膦酸 2.0g/L，其余成分為水；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸160g/L 、氯化鹽100g/L、銅保護(hù)劑 1.0mol/L、羥基亞乙基二膦酸2.0g/L，其余成分為水。
實(shí)施例5：
一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 6g/L、鹽酸 9g/L、氯化鹽 10g/L、有機(jī)磷化合物 1.6g/L，其余成分為水；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸140g/L 、氯化鹽110g/L、有機(jī)脒類化合物0.6mol/L、有機(jī)磷化合物 1.0g/L，其余成分為水。
實(shí)施例6：
一種用于制作精細(xì)銅引線柔性觸摸屏的蝕刻液，包含a和b兩部分，蝕刻液a部分包含以下組分：銅鹽 5~10g/L、鹽酸 2~10g/L、氯化鹽 4~12g/L、有機(jī)磷化合物 0.1~2.0g/L，其余成分為水，控制蝕刻液a部分的酸當(dāng)量為0.10~0.50mol/L；蝕刻液b部分包含以下組分：鹽酸120~200g/L 、氯化鹽80~120g/L、銅保護(hù)劑 0.1~1.0mol/L、有機(jī)磷化合物 0.5~2.0g/L，其余成分為水，控制蝕刻液b部分的酸當(dāng)量為2.5~6.0mol/L。
進(jìn)一步地，所述的銅保護(hù)劑為有機(jī)脒類、硫脲類化合物和/或雜環(huán)唑類螯合物。
進(jìn)一步地，所述的蝕刻液a部分為刻蝕銅層蝕刻液，其中的銅層包括銅、銅鎳、銅鎳鈦或其混合搭配膜層，且膜層厚度范圍在500-10000?。
進(jìn)一步地，所述的蝕刻液b部分為刻蝕底層ITO的蝕刻液；ITO層是形成觸控屏可視區(qū)的電極圖形。
制備所述的蝕刻液的方法，根據(jù)配比將原料混合，并充分?jǐn)嚢瑁玫轿g刻液a部分和蝕刻液b部分。
所述的原料混合時(shí)利用自動(dòng)供酸系統(tǒng)進(jìn)行混合。
根據(jù)金屬銅優(yōu)良的導(dǎo)電及機(jī)械性能，濕法蝕刻制程中銅引線是應(yīng)用于柔性觸控傳感器及圖案化最理想的方案。這些實(shí)施例應(yīng)理解為僅用于說(shuō)明本發(fā)明而不是用于限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。在閱讀了本發(fā)明記載的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明作各種改動(dòng)或修改，這些等效變化和修飾同樣落入本發(fā)明權(quán)利要求書(shū)所限定的范圍。