一種新型磁控濺射靶材的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種新型磁控濺射靶材，包括小塊靶材和冷卻背板，多塊所述小塊靶材并排拼接后貼合安裝于所述冷卻背板上，位于所述冷卻背板中部的所述小塊靶材的厚度小于位于所述冷卻背板兩端的所述小塊靶材的厚度，且由中間至兩端厚度遞增。本實用新型通過在靶材濺射強烈的兩端位置放置較厚的小塊靶材，而在濺射強度較弱的中間部分放置厚度較薄的小塊靶材，避免濺射強烈區(qū)域的小塊靶材過早消耗完畢，從而延長了整個靶材的使用壽命，提高了靶材利用率，能夠從傳統(tǒng)的20％提高到30％左右，增加了更換靶材的時間周期，減少了更換靶材次數(shù)，間接減少了勞動量，降低了材料成本和人力成本。
【專利說明】 一種新型磁控濺射靶材

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種磁控濺射用的平面靶材，尤其涉及一種利用率高的新型磁控濺射靶材。

【背景技術(shù)】
[0002]磁控濺射技術(shù)應(yīng)用的靶材主要有旋轉(zhuǎn)靶材和平面靶材，而用于沉積背電的平面靶材因其低成本，在真空鍍膜領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用。如圖1所示，傳統(tǒng)的平面靶材由數(shù)量不等的小塊靶材1拼接而成，所有小塊靶材1的厚度相同，通過粘結(jié)劑或固定機構(gòu)將這些小塊靶材1貼合到冷卻背板2上，磁控濺射技術(shù)中的磁場是通過在冷卻背板2后面安裝磁鋼3來提供的，在冷卻背板2另一側(cè)即后面的兩端和中間部分安裝磁鋼3。在磁控濺射技術(shù)中，實際使用的正交電磁場是由磁力線平行于靶材表面的水平分量與垂直于靶材表面的電場組成的，垂直于靶材表面的磁力線垂直分量對約束荷電粒子無作用。
[0003]平面靶材具有一系列的優(yōu)點，比如結(jié)構(gòu)簡單、制作方便、對靶座設(shè)計的要求低，等等。但是傳統(tǒng)平面靶材由于其所有小塊靶材的厚度相同而導(dǎo)致在使用過程中存在靶材利用率過低的問題，這是由平面靶材的電磁場分布及工作氣體氬氣的分布所決定的。對于長方體平面靶材而言，濺射跑道的分布是兩端深而中間淺，即靶材中間部分的利用率比兩端的利用率低，這樣會導(dǎo)致兩端的靶材過早消耗完畢而中間的靶材還剩余較多，致使靶材在總體上利用率不高，對于整個傳統(tǒng)的平面靶材而言，其利用率大約在20%左右。
實用新型內(nèi)容
[0004]本實用新型的目的就在于為了解決上述問題而提供一種利用率高的新型磁控濺射靶材。
[0005]本實用新型通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)上述目的:
[0006]一種新型磁控濺射靶材，包括小塊靶材和冷卻背板,多塊所述小塊靶材并排拼接后貼合安裝于所述冷卻背板上，位于所述冷卻背板中部的所述小塊靶材的厚度小于位于所述冷卻背板兩端的所述小塊靶材的厚度，且由中間至兩端厚度遞增。上述小塊靶材與冷卻背板之間的貼合安裝可以為粘結(jié)劑粘結(jié)、機械機構(gòu)固定等。
[0007]作為優(yōu)選，以所述冷卻背板的中心位置為中點，其兩端的所述小塊靶材的數(shù)量相同并--對應(yīng)，相互對應(yīng)的兩塊所述小塊靶材的厚度相同。
[0008]每一塊所述小塊靶材的厚度均勻一致。
[0009]本實用新型的有益效果在于:
[0010]本實用新型通過在靶材濺射強烈的兩端位置放置較厚的小塊靶材，而在濺射強度較弱的中間部分放置厚度較薄的小塊靶材，避免濺射強烈區(qū)域的小塊靶材過早消耗完畢，從而延長了整個靶材的使用壽命，提高了靶材利用率，能夠從傳統(tǒng)的20%提高到30%左右，增加了更換靶材的時間周期，減少了更換靶材次數(shù)，間接減少了勞動量，降低了材料成本和人力成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]圖1是傳統(tǒng)磁控濺射靶材加裝磁鋼后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0012]圖2是本實用新型所述新型磁控濺射靶材加裝磁鋼后的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0013]圖3是實施例中所述新型磁控濺射靶材的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明:
[0015]如圖2所示，本實用新型所述新型磁控濺射靶材包括小塊靶材4和冷卻背板2，每一塊小塊靶材4的厚度均勻一致，多塊小塊靶材4并排拼接后貼合安裝于冷卻背板2上，位于冷卻背板2中部的小塊靶材4的厚度小于位于冷卻背板2兩端的小塊靶材4的厚度，且由中間至兩端厚度遞增，以所冷卻背板2的中心位置為中點，其兩端的小塊靶材4的數(shù)量相同并對應(yīng)，相互對應(yīng)的兩塊小塊祀材4的厚度相同。在冷卻背板2另一側(cè)的兩端和中間部分安裝磁鋼3，磁鋼3用于提供磁控濺射用的磁場。
[0016]下面以兩個具體實施例來說明本新型磁控濺射靶材的應(yīng)用情況:
[0017]實施例1:
[0018]如圖3所示，該新型磁控濺射靶材包括第一小塊靶材41、第二小塊靶材42、第三小塊靶材43、第四小塊靶材44、第五小塊靶材45和冷卻背板2，其中，第一小塊靶材41和第五小塊祀材45的厚度相同且均為18mm,第二小塊祀材42和第四小塊祀材44的厚度相同且均為16mm,第三小塊祀材43的厚度為15mm,祀材材質(zhì)為招。使用前稱重，祀材重量為10.8kg。開啟磁控濺射靶材，當靶材消耗至極限時，稱重剩余靶材的重量，測得值為6.8kg，靶材利用率為32%。
[0019]實施例2:
[0020]結(jié)合圖3，與實施例1相比，本實施例的結(jié)構(gòu)基本相同，區(qū)別僅在于第二小塊靶材42和第四小塊靶材44的厚度相同且均為17mm，第三小塊靶材43的厚度為16mm。使用前稱重，靶材重量為10.8kg。開啟磁控濺射靶材，當靶材消耗至極限時，稱重剩余靶材的重量，測得值為7.67kg，靶材利用率為29%。
[0021]而如果采用傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)，即第一小塊靶材41、第二小塊靶材42、第三小塊靶材43、第四小塊靶材44和第五小塊靶材45的厚度完全相同且均為18mm，則最后測得的靶材利用率為27 %，其靶材利用率不如本實用新型產(chǎn)品，而且用的靶材更多，成本更高。
[0022]上述實施例只是本實用新型的較佳實施例，并不是對本實用新型技術(shù)方案的限制，只要是不經(jīng)過創(chuàng)造性勞動即可在上述實施例的基礎(chǔ)上實現(xiàn)的技術(shù)方案，均應(yīng)視為落入本實用新型專利的權(quán)利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種新型磁控濺射靶材，包括小塊靶材和冷卻背板，多塊所述小塊靶材并排拼接后貼合安裝于所述冷卻背板上，其特征在于:位于所述冷卻背板中部的所述小塊靶材的厚度小于位于所述冷卻背板兩端的所述小塊靶材的厚度，且由中間至兩端厚度遞增。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型磁控濺射靶材，其特征在于:以所述冷卻背板的中心位置為中點，其兩端的所述小塊靶材的數(shù)量相同并一一對應(yīng)，相互對應(yīng)的兩塊所述小塊靶材的厚度相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的新型磁控濺射靶材，其特征在于:每一塊所述小塊靶材的厚度均勻一致。
【文檔編號】C23C14/35GK204138753SQ201420564210
【公開日】2015年2月4日 申請日期:2014年9月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年9月28日
【發(fā)明者】張慶豐, 范曉鵬, 李貴成, 汪濤, 胡尚智, 張加友, 劉占偉 申請人:山東淄博漢能光伏有限公司