一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，包括紫外燈燈座，安裝在紫外燈燈座上的紫外燈，用于收納、保護和聚焦紫外線的紫外燈燈罩，其特征在于，還包括防止被反應(yīng)磁控濺射鍍膜產(chǎn)生的沉積化合物污染紫外燈的多孔金屬柱，所述多孔金屬柱與紫外燈燈罩連接，多孔金屬柱內(nèi)部開有過孔。紫外線通過多孔金屬柱內(nèi)部的過孔射出，實時輻照在被沉積薄膜的襯底上，紫外燈不會被沉積薄膜材料污染或減小被沉積材料污染，同時還可增大紫外線到達載物臺的比例。
【專利說明】一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及濺射鍍膜領(lǐng)域，尤其涉及應(yīng)用于反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]反應(yīng)磁控濺射鍍膜的技術(shù)被廣泛應(yīng)用于化合物薄膜包括氮化鋁、氧化鋅、二氧化硅、氮化硅等的反應(yīng)沉積。中國專利CN1511339A公開了一種半導(dǎo)體處理用紫外線輔助處理裝置，其包括具有與載物臺對置的、設(shè)置于構(gòu)成處理室的壁上的、使紫外線透射的窗；與透射窗對置的、向處理室外發(fā)出紫外線的光源；用于向處理室內(nèi)部供應(yīng)處理氣體的供應(yīng)系統(tǒng)，具有形成于窗內(nèi)部的，使處理氣體通過的頂部空間和用于排出氣體的多個排氣孔。這一結(jié)構(gòu)已用于化學(xué)氣相沉積等薄膜沉積工藝。但是在反應(yīng)磁控濺射鍍膜時存在如下缺陷:1.該結(jié)構(gòu)中的透射紫外線的窗采用石英、硅氧化物、藍寶石、氟化鈣等材料，通過其透明特性制成透射窗體，其容易被沉積材料污染，隨著反應(yīng)磁控沉積工藝的進行，透射紫外線的窗將被覆蓋上沉積的化合物材料，當這種化合物材料沉積于制成窗體的材料表面且不透光時，紫外線輔助裝置將失效；2.其在透射窗的底面上設(shè)置有排氣通道，排氣通道的設(shè)置使得紫外線的散射效應(yīng)加重，從而使紫外線到達載物臺的比例較小，從而減小了紫外線載物臺上的襯底的處理。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種可以將紫外線輻照在載物臺的襯底上，促進反應(yīng)磁控濺射沉積化合物薄膜，但不會被被沉積薄膜材料污染或減小被沉積材料污染的紫外線輔助裝置。同時還可增大紫.外線到達載物臺的比例。
[0004]為實現(xiàn)上述技術(shù)目的，達到上述技術(shù)效果，本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，包括紫外燈燈座，安裝在紫外燈燈座上的
紫外燈，用于收納、保護和聚焦紫外線的紫外燈燈罩，其特征在于，還包括防止被反應(yīng)磁控濺射鍍膜產(chǎn)生的沉積化合物污染紫外燈的多孔金屬柱，所述多孔金屬柱與紫外燈燈罩連接,多孔金屬柱內(nèi)部開有過孔。
[0005]紫外線通過多孔金屬柱內(nèi)部的過孔直接射出，實時輻照在被沉積薄膜的襯底上，省去了現(xiàn)有設(shè)計中的透明窗體，又由于多孔金屬柱有一定的高度，所以紫外燈不會被反應(yīng)磁控濺射鍍膜產(chǎn)生的沉積化合物污染。
[0006]進一步的，還包括用于支撐紫外燈燈座的金屬條，通過焊接等方式與紫外燈燈罩連接，為了讓經(jīng)過紫外燈燈罩內(nèi)壁反射的平行紫外線順利地向外發(fā)射，金屬條在保證強度的前提下應(yīng)盡可能扁薄、細窄，增大紫外線到達載物臺的比例。
[0007]進一步的，紫外燈發(fā)光點位于紫外燈燈罩的一個焦點上，紫外燈發(fā)射的紫外光經(jīng)紫外燈燈罩內(nèi)壁反射后以平行光方式射出。
[0008]進一步的，紫外燈燈座上設(shè)置有聚焦紫外線的反光杯，用以增強紫外線的聚焦。[0009]進一步的，過孔至少為兩個且均勻分布在多孔金屬柱內(nèi)，過孔的孔徑在Imm到IOmm之間，過孔內(nèi)壁光滑，紫外線通過過孔內(nèi)壁射出，多孔金屬柱的高度與過孔的孔徑比例大于10。將反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置裝配在磁控濺射設(shè)備內(nèi)，紫外線輔助裝置的安裝方向與垂直于靶平面的沉積方向成一定角度Θ，所述角度Θ的值根據(jù)襯底尺寸和靶尺寸調(diào)整以使紫外線輔助裝置不遮擋濺射粒子的沉積，所述角度Θ —般在90°以內(nèi)。多孔金屬柱的高度與過孔的孔徑比例可參考上述角度Θ做調(diào)整。當角度Θ較大時，相應(yīng)的多孔金屬柱的高度與過孔的孔徑比例應(yīng)該較小，以防止濺射粒子大量進入紫外線輔助裝置；當角度Θ較小時，相應(yīng)的多孔金屬柱的高度與過孔的孔徑比例應(yīng)該較大。多孔金屬柱材質(zhì)為金屬銅或金屬鋁，多孔金屬柱通過螺紋或卡扣方式與紫外燈燈罩連接。
[0010]進一步的，紫外燈燈罩內(nèi)壁上開有紫外燈燈座導(dǎo)線引出孔。紫外燈燈罩為半球狀。
[0011]本發(fā)明的有益效果是:反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置將紫外線輻照在載物臺的襯底上，促進反應(yīng)磁控濺射沉積化合物薄膜，但不會被沉積薄膜材料污染或減小被沉積材料污染，增大紫外線到達載物臺的比例。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0012]圖1為本發(fā)明反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置的剖面示意圖；
圖2為圖1中紫外燈燈罩的橫剖面示意圖；
圖3為圖1中多孔金屬柱的橫剖面示意圖；` 圖4為本發(fā)明反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置在磁控濺射設(shè)備內(nèi)的裝配示意圖。
[0013]附圖的標記含義如下:
1:紫外燈燈罩；11:紫外燈燈罩內(nèi)壁；2:紫外燈燈座；3:金屬條；4:多孔金屬柱；41:過孔；5:導(dǎo)線引出孔；6:襯底；7:紫外線入射方向；8:垂直于靶濺射平面的沉積方向。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖和具體的實施例對本發(fā)明技術(shù)方案作進一步的詳細描述，以使本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以更好的理解本發(fā)明并能予以實施，但所舉實施例不作為對本發(fā)明的限定。
[0015]如圖1所示，本發(fā)明反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置包括紫外燈燈座2，安裝在紫外燈燈座2上的紫外燈，用于收納、保護和聚焦紫外線的紫外燈燈罩1，讓紫外線通過的、防止被反應(yīng)磁控濺射鍍膜產(chǎn)生的沉積化合物污染紫外燈的多孔金屬柱4，多孔金屬柱4與紫外燈燈罩I連接，多孔金屬柱4內(nèi)部開有用于紫外線通過的過孔41，優(yōu)選過孔的數(shù)量至少為兩個且均勻分布在多孔金屬柱內(nèi)。用于支撐紫外燈燈座2的金屬條3，紫外線通過多孔金屬柱4內(nèi)部的過孔41射出，實時輻照在被沉積薄膜的襯底上，省去了現(xiàn)有設(shè)計中的透明窗體，又由于多孔金屬柱4有一定的高度，所以紫外燈不會被反應(yīng)磁控濺射鍍膜產(chǎn)生的沉積化合物污染。
[0016]紫外燈燈罩內(nèi)壁11經(jīng)過拋光處理，由不銹鋼等材料制成，優(yōu)選紫外燈燈罩為半球狀，在紫外燈燈罩內(nèi)壁11上開有導(dǎo)線引出孔5用于紫外線燈座導(dǎo)線的引出，紫外燈燈座2上安裝根據(jù)沉積化合物確定強度和波長的紫外燈(圖中未畫出)，紫外燈燈座支撐金屬條3通過焊接等方式固定在紫外燈燈罩的適當位置上，優(yōu)選固定的位置是紫外燈發(fā)光點位于紫外燈燈罩I的一個焦點上，從而使紫外燈發(fā)射的紫外光經(jīng)紫外燈燈罩內(nèi)壁11反射后以平行光方式射出。紫外燈燈座2的支撐金屬條3在足夠穩(wěn)定支撐紫外燈的情況下應(yīng)盡量細窄、扁薄，如圖2所示，金屬條3通過焊接等方式與紫外燈燈罩I和紫外燈燈座2固定連接，金屬條呈扁薄型，可采用金屬招、銅等金屬或其合金制成，優(yōu)選其長度為20mm到IOOOmm之間，寬度為Imm到5mm之間，高度為3mm到10mm，以有利于經(jīng)過紫外燈燈罩內(nèi)壁11反射的紫外光的通過。紫外燈燈座2上可設(shè)置反光杯(圖中未畫出)，以幫助紫外線的聚焦。
[0017]多孔金屬柱4通過螺紋或卡扣等方式與紫外燈燈罩I連接，圖3為多孔金屬柱的橫剖面示意圖，多孔金屬柱4可由金屬銅，金屬鋁等材質(zhì)制備，其內(nèi)有內(nèi)壁光滑的過孔41，其中過孔41的直徑為Imm到IOmm之間，過孔41均勻的分布在多孔金屬柱4內(nèi)，紫外線通過過孔內(nèi)壁射出。多孔金屬柱4的高度與過孔41的孔徑比例大于10。將反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置裝配在磁控濺射設(shè)備內(nèi)，如圖4所示，紫外線輔助裝置的紫外線入射方向7與垂直于靶濺射平面的沉積方向8成一定角度Θ，角度Θ的值可以根據(jù)襯底6尺寸和靶尺寸調(diào)整以使紫外線輔助裝置不遮擋濺射粒子的沉積，角度Θ —般在90°以內(nèi)。多孔金屬柱4的高度與過孔41的孔徑比例可參考上述角度Θ做調(diào)整:當角度Θ較大時，相應(yīng)的多孔金屬柱4的高度與過孔41的孔徑比例應(yīng)該較小，以防止濺射粒子大量進入紫外線輔助裝置；當角度Θ較小時，相應(yīng)的多孔金屬柱4的高度與過孔41的孔徑比例應(yīng)該較大。
[0018]以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例，并非因此限制本發(fā)明的專利范圍，凡是利用本發(fā)明說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或者等效流程變換，或者直接或間接運用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本.發(fā)明的專利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，包括紫外燈燈座，安裝在紫外燈燈座上的紫外燈，用于收納、保護和聚焦紫外線的紫外燈燈罩，其特征在于，還包括防止被反應(yīng)磁控濺射鍍膜產(chǎn)生的沉積化合物污染紫外燈的多孔金屬柱，所述多孔金屬柱與紫外燈燈罩連接,多孔金屬柱內(nèi)部開有過孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，還包括用于支撐紫外燈燈座的金屬條，所述金屬條為扁薄型。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，所述紫外燈發(fā)光點位于紫外燈燈罩的一個焦點上，紫外燈發(fā)射的紫外光經(jīng)紫外燈燈罩內(nèi)壁反射后以平行光方式射出。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，所述紫外燈燈座上設(shè)置有聚焦紫外線的反光杯。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，所述過孔至少為兩個且均勻分布在多孔金屬柱內(nèi)，過孔的孔徑在Imm到IOmm之間，過孔內(nèi)壁光滑，多孔金屬柱的高度與過孔的孔徑比例大于10。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，紫外燈燈罩內(nèi)壁上開有紫外燈燈座導(dǎo)線引出孔。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，所述多孔金屬柱材質(zhì)為金屬銅或金屬鋁。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，多孔金屬柱通過螺紋或卡扣方式與紫外燈燈罩連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-8所述的任意一項反應(yīng)磁控濺射鍍膜的紫外線輔助裝置，其特征在于，所述紫外燈燈罩為半球 狀。
【文檔編號】C23C14/35GK103436850SQ201310259750
【公開日】2013年12月11日 申請日期:2013年6月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月27日
【發(fā)明者】馮斌, 王德苗, 金浩, 王文婷, 周劍 申請人:蘇州求是真空電子有限公司