制造用于螺旋式機器的處理元件的方法和處理元件坯料的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及制造用于螺旋式機器的處理元件的方法，其中，將第一金屬材料（M1）的處理元件芯（11b）布置在熱等靜壓裝置（1b）的殼體（2b）的內(nèi)部空間（9b）中，使得在殼體壁（5b）和處理元件芯（11b）之間形成環(huán)形空間（14b）。用第二金屬材料（M2）的粉末（15）填充所述環(huán)形空間（14b）以制造出耐磨層。然后，以通過熱等靜壓使所述材料（M1，M2）結(jié)合而形成復合體的方式來制造處理元件坯料（10b）。然后，后加工處理元件坯料（10b）以形成處理元件。根據(jù)本發(fā)明的方法尤其通過簡化后機加工和/或因此制造出的耐磨層的熱處理來簡化處理元件的制造。
【專利說明】制造用于螺旋式機器的處理元件的方法和處理元件坯料
【技術(shù)領域】
[0001]本發(fā)明涉及用于制造處理元件、尤其是用于螺旋式機器的螺旋式部件和/或捏制部件的方法。本發(fā)明還涉及處理元件坯料，其用于制造處理元件、尤其是用于根據(jù)權(quán)利要求13前序部分所述的螺旋式機器的螺旋式部件和/或捏制部件。
【背景技術(shù)】
[0002]從DE4328160A1已知一種利用熱等靜壓制造螺旋軸的方法。為了制造螺旋軸或螺旋式部件，以這樣的方式將鋼制芯以及包圍所述鋼制芯設置的耐腐蝕且耐磨材料的襯套布置在壓力模具中，即，使得在所述襯套和所述壓力磨具的內(nèi)部之間形成具有恒定狹槽厚度的狹槽狀環(huán)形空間。然后，金屬粉末被引入到環(huán)形間隙中并且然后被壓縮，以形成螺紋前層。所述螺紋前層通過熱等靜壓形成，使得該螺紋前層與所述襯套形成一體件，而該襯套與所述鋼制芯形成一體件。通過熱等靜壓制造的坯料具有三個厚度恒定的中空-圓柱形相互連接層，并且在冷卻之后被機加工，使得制造出所述螺紋和連接至該螺紋的螺紋前層。因為所述襯套起初為了機加工是相對柔軟的，因此在機加工之后制造出的螺旋式部件要進一步經(jīng)受熱處理。這種方法的缺點是所描述的制造方法耗費大量精力。尤其在執(zhí)行熱處理時必須注意螺旋式部件中的內(nèi)應力，以降低或阻止熱處理后應力裂紋的形成。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種更簡單的制造用于螺旋式機器的處理元件的方法。
[0004]這個目的通過具有在權(quán)利要求1中闡述的特征的方法實現(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明發(fā)現(xiàn)，如果形成在殼體壁和處理元件芯之間的環(huán)形空間沿著中心縱向軸線形成波形或者在沿著中心縱向軸線延伸的截面中形成波形以便適配于待形成的處理元件的外部波形，則處理元件的制造或復制要簡單得多。因為第二材料用于形成處理元件的耐磨層，所以所述材料是高合金且極耐磨和/或耐腐蝕的材料，相應地這種材料是昂貴的。由于環(huán)形空間的波形設計，已經(jīng)在熱等靜壓期間制造出適配于待形成的處理元件的外部波形的耐磨層，這降低了所要求的第二材料的體積和量并簡化了通過熱等靜壓制造出的處理元件坯料的后加工，尤其有助于用于制造處理元件的外部波形的機加工工藝和/或耐磨層的熱處理，所述熱處理的需求取決于后續(xù)應用。處理元件可以是螺旋式部件和/或捏合部件。被布置在殼體(Kapsel)內(nèi)的處理元件芯可以由實心材料形成，或者該處理元件芯可以形成有通孔。
[0005]因為根據(jù)DE4328160A1中公開的制造方法的耐磨層由利用熱等靜壓而預制的襯套以及利用熱等靜壓而制造的螺紋前層制造而成，所以需要相當大體積的高合金和耐磨和/或耐腐蝕材料，同時后加工坯料引起耗費相當大的精力，用以形成加工好的螺旋式部件。與根據(jù)本發(fā)明的制造方法相比，現(xiàn)有技術(shù)方法因為通過熱等靜壓預制襯套而要求額外的步驟。此外，需要通過機加工移除相當大體積的耐磨和/或耐腐蝕材料，這使得后加工更加復雜。另外，當通過機加工制造的螺旋式部件正經(jīng)受后續(xù)的熱處理時，必須格外注意防止應力裂紋在熱處理期間由于耐磨層的明顯變化厚度而在耐磨層中形成。[0006]在根據(jù)本發(fā)明的制造方法中，處理元件坯料的波形耐磨層適配于處理元件的外部波形，這簡化了后加工，這是因為待被移除的材料體積明顯減少和/或耐磨層具有沿著處理元件的中心縱向軸線基本上恒定的徑向厚度——這允許阻止在熱處理期間形成應力裂紋。
[0007]根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法提供了一種使耐磨層在面向處理元件芯的耐磨層內(nèi)側(cè)上形成波形的簡單方式。這減少了耐磨層所需的材料體積并因此減少了所需的第二材料的材料量。此外，這確保了耐磨層具有沿著中心縱向軸線基本上恒定的厚度，這簡化了熱處理。
[0008]根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法提供了一種沿著中心縱向軸線或者在沿著中心縱向軸線延伸的截面中形成波形的環(huán)形空間的簡單方式。介于芯的外部和中心縱向軸線之間的徑向距離在最小距離和最大距離之間變化。
[0009]根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法提供了一種沿著中心縱向軸線或者在沿著中心縱向軸線延伸的截面中形成波形的環(huán)形空間的簡單方式。介于殼體壁內(nèi)側(cè)和中心縱向軸線之間的恒定的徑向距離，以及處理元件芯相對于中心縱向軸線的變化的徑向距離，導致形成了波形的環(huán)形空間，該環(huán)形空間具有沿著中心縱向軸線變化的厚度。該厚度在最小厚度和最大厚度之間變化。
[0010]根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法允許制造出具有沿著中心縱向軸線基本上恒定的厚度的耐磨層。在移除材料以后，耐磨層外側(cè)的徑向距離沿著中心縱向軸線在最小徑向距離和最大徑向距離之間變化。
[0011]根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法提供了一種形成面向殼體壁的波形的耐磨層外側(cè)的簡單方式。一方面，這減少了耐磨層所需的材料體積。另一方面，由于已經(jīng)通過熱等靜壓制造出了處理元件坯料或者處理元件的外部波形，這極大地簡化了后加工。如果必要，所述外部波形需要精加工。
[0012]根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法確保面向殼體壁的耐磨層外側(cè)沿著中心縱向軸線或者在沿著中心縱向軸線延伸的截面中形成波形。
[0013]根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法確保處理元件的簡單制造。
[0014]根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法確保處理元件芯的簡單供給。
[0015]根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法允許制造出在耐磨層內(nèi)側(cè)和耐磨層外側(cè)兩者上都形成波形的耐磨層。因此，一方面極大地減少了所需的材料體積，允許由少量的第二材料制造耐磨層。另一方面，由于已經(jīng)利用熱等靜壓制造出處理元件坯料或處理元件的外部波形，因此顯著地簡化了后加工。另外，耐磨層具有沿著中心縱向軸線基本上恒定的徑向厚度，這簡化了熱處理并阻止了應力裂紋的形成。
[0016]根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法提供了一種形成并移除殼體的簡單方式。
[0017]根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法允許處理元件坯料制造有通孔。
[0018]本發(fā)明的另一目的是提供一種處理元件坯料，該處理元件坯料提供一種制造用于螺旋式機器的處理元件的簡單方式。
[0019]這個目的通過具有權(quán)利要求13的特征的處理元件坯料來實現(xiàn)。因為耐磨層形成有波形，所以由處理元件坯料制造處理元件得到了極大地簡化。處理元件坯料是直接利用熱等靜壓制造出的復合體，無需任何進一步的后加工。波形的耐磨層簡化了用于形成外部波形的處理元件坯料機加工和/或在形成外部波形以后處理元件的熱處理。耐磨層沿著中心縱向軸線或者在沿著中心縱向軸線延伸的截面中是波形的。根據(jù)本發(fā)明的處理元件坯料的其它優(yōu)點與前述已經(jīng)描述的根據(jù)本發(fā)明的方法的優(yōu)點相同。
[0020]此外，根據(jù)權(quán)利要求14-19所述的處理元件坯料的優(yōu)點與已經(jīng)描述的根據(jù)權(quán)利要求2-11所述的創(chuàng)新方法的優(yōu)點相符。
[0021]根據(jù)權(quán)利要求20所述的處理元件坯料提供了一種制造和構(gòu)造不同的螺旋式機器的簡單方式。處理元件芯的內(nèi)側(cè)以通常方式形成內(nèi)部輪廓，允許將不同設計的處理元件設置在可以多種方式構(gòu)造的仿形軸(靠模軸)上。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0022]本發(fā)明的其它優(yōu)點、特征和細節(jié)將通過以下若干示例性實施例的描述變得顯而易見。其中:
[0023]圖1示出根據(jù)第一示例性實施例的處于處理元件坯料的制造期間的熱等靜壓裝置的殼體的軸向截面；
[0024]圖2示出圖1中的處理元件坯料以及由該處理元件坯料制造出的處理元件的軸向截面；
[0025]圖3示出根據(jù)第二示例性實施例的處于處理元件坯料的制造期間的熱等靜壓裝置的殼體的軸向截面；
[0026]圖4示出圖3中的處理元件坯料以及由該處理元件坯料制造出的處理元件的軸向截面；
[0027]圖5示出根據(jù)第三示例性實施例的處于處理元件坯料的制造期間的熱等靜壓裝置的殼體的軸向截面；
[0028]圖6示出圖5中的處理元件坯料以及由該處理元件坯料制造出的處理元件的軸向截面；
[0029]圖7示出根據(jù)第四示例性實施例的處于處理元件坯料的制造期間的熱等靜壓裝置的殼體的軸向截面；
[0030]圖8示出根據(jù)第五示例性實施例的處于處理元件坯料的制造期間的熱等靜壓裝置的殼體的軸向截面；
[0031]圖9示出根據(jù)第六示例性實施例的處于處理元件坯料的制造期間的熱等靜壓裝置的殼體的軸向截面；
[0032]圖10示出圖9中的處理元件坯料以及由該處理元件坯料制造出的處理元件的軸向截面。
【具體實施方式】
[0033]以下是對本發(fā)明的在圖1和圖2中示出的第一示例性實施例的描述。已知熱等靜壓裝置I的結(jié)構(gòu)總體上包括與用于熱等靜壓的壓力單元3和溫度單元4接觸的殼體2。殼體2具有管狀的殼體壁5，該殼體壁的第一端部被殼體底部6關閉。殼體蓋7設置在殼體壁5的第二端部上。殼體壁5限定出中心縱向軸線8，并且與殼體底部6和殼體蓋7接觸用以限定出殼體2的內(nèi)部空間9?？拷鼩んw壁5，殼體蓋7設置有用于填充內(nèi)部空間9的填充嘴(加注頸)13。為了實現(xiàn)熱等靜壓，內(nèi)部空間9中的溫度T可以借助溫度單元4變化，內(nèi)部空間9中的壓力P可以借助壓力單元3變化。
[0034]按照以下步驟在熱等靜壓裝置I中執(zhí)行處理元件坯料10的生產(chǎn):
[0035]在第一步驟中，將第一金屬材料M1的處理元件芯11布置在內(nèi)部空間9中，使得該處理元件芯的中心縱向軸線12與中心縱向軸線8基本上疊合(一致)。處理元件芯11的正面緊靠殼體底部6。第一材料M1具有高度的粘性和延展性。優(yōu)選地，第一金屬材料M1是鋼。然后，將殼體蓋7布置在殼體壁5上并且焊接至該殼體壁。殼體蓋7的正面緊靠處理元件芯11。
[0036]處理元件芯11具有面向環(huán)形空間14的芯外側(cè)KA。芯外側(cè)Ka是波形的，以形成芯外部波形Ακ。由于芯外部波形Ακ，芯外側(cè)Ka具有相對中心縱向軸線8或12變化并且沿著所述中心縱向軸線變化的變化徑向距離Rka，其中所述徑向距離Rka在最小距離RKAmin和最大距離Rkaimx之間變化。
[0037]殼體壁5具有圓柱形的殼體壁內(nèi)側(cè)W1,因此殼體壁內(nèi)側(cè)W1具有相對中心縱向軸線8或12恒定的徑向距離RWI。由于恒定的徑向距離Rwi和處理元件芯11的變化距離Rka,環(huán)形空間14形成一波形，該波形具有沿著中心縱向軸線8或12變化的厚度DK，該厚度介于最小厚度Dsmin和最大厚度Dftnax之間。環(huán)形空間14藉由填充嘴13完全充滿第二金屬材料M2的粉末；然后，關閉填充嘴13。要求粉末15形成環(huán)繞處理元件芯11的耐磨層16。為此，第二材料M2是高合金材料，并因此提供高度的耐磨性和/或耐腐蝕性。
[0038]然后，利用熱等靜壓使得形成第一材料M1和第二材料M2的復合體來在熱等靜壓裝置I中制造處理元件坯料10。
[0039]在熱等靜壓之后，通過機械加工將殼體2移除。由于恒定距離Rwi，處理元件坯料10具有非波形的圓柱形坯料外側(cè)Ra。相應地，處理元件坯料10的耐磨層16具有相對中心軸向軸線12恒定的徑向距離Rv，該徑向距離與距離Rwi相符。
[0040]在下一步驟中，加工處理元件坯料10以形成處理元件17。為此，通過機械加工以制造出處理元件外部波形Ab的方式形成處理元件坯料10。為此，除去處理元件坯料10的耐磨層16的材料區(qū)域18。這樣，通過所述的材料的除去來形成處理元件17。處理元件外部波形Ab由耐磨層外側(cè)Va形成。在除去材料以后，徑向距離Rva沿著中心縱向軸線12在最小距離Rvtain和最大距離Rvtaax之間變化。因為與耐磨層內(nèi)側(cè)V1相符的芯外側(cè)Ka以及耐磨層外側(cè)VA兩者都形成有波形，所以處理元件17的耐磨層16沿著中心縱向軸線12具有基本上恒定的厚度Dv。此外，制造出軸向通孔20，其設置有用于仿形軸(靠模軸，Profilwelleerzeugt)的內(nèi)部輪廓19。通孔20優(yōu)選地與中心縱向軸線12同軸。處理元件還料10的還料外側(cè)RA在圖2中示出位于中心縱向軸線12的下方，而加工好的處理元件17在圖2中示出位于中心縱向軸線12的上方。
[0041]因為環(huán)形空間14具有由于波形的芯外側(cè)Ka而沿著中心縱向軸線12變化的徑向距離Rka，所以耐磨層內(nèi)側(cè)V1也形成有波形，因此形成耐磨層16所需要的第二材料M2的量明顯減少了。在移除材料以后，耐磨層16也在材料區(qū)域18內(nèi)具有恒定的厚度Dv，這簡化了隨后的處理元件14的熱處理，該熱處理防止應力裂紋的形成。
[0042]以下描述本發(fā)明的在圖3和圖4中示出的第二示例性實施例。與第一實施例相t匕，處理元件芯Ila不具有芯外部波形Ακ。因此，芯外側(cè)Ka沿著所述中心縱向軸線12具有相對于中心縱向軸線12恒定的徑向距離Rka。為了形成波形的環(huán)形空間14a，殼體壁5a的殼體壁內(nèi)側(cè)W1具有殼體壁外部波形Aw。為此，殼體壁5a被構(gòu)造成管狀，機械加工該殼體壁的殼體壁內(nèi)側(cè)W1以形成殼體壁外部波形Aw。相應地，殼體壁內(nèi)側(cè)W1具有相對于中心縱向軸線8在最小距離Rwimin和最大距離Rwimax之間變化的徑向距離RWI。因此，環(huán)形空間14a的徑向厚度Dk沿著中心縱向軸線8在最小徑向厚度Dftnin和最大徑向厚度Dsmax之間變化。
[0043]通過前文已經(jīng)描述的方式一將處理元件芯Ila布置在熱等靜壓裝置Ia的殼體2a中以及用粉末15填充環(huán)形空間14a——來制造處理元件坯料10a。利用熱等靜壓來制造處理元件坯料10a。在熱等靜壓以后，通過機械加工移除殼體2a。因為殼體壁5a形成有波形，所以處理元件外部波形Ab在制造處理元件坯料IOa期間已經(jīng)形成。與環(huán)形空間14a的徑向厚度Dk相符，耐磨層16的徑向厚度Dv沿著中心縱向軸線12在最小徑向厚度Dvmin和最大徑向厚度Dvmax之間變化。處理元件坯料IOa已經(jīng)形成有波形的耐磨層外側(cè)VA。為了制造處理元件17a,耐磨層外側(cè)VaR需要少量的精加工。
[0044]然后，處理元件17a以常規(guī)方式設置有通孔20和用于仿形軸的內(nèi)部輪廓19，并經(jīng)受熱處理。加工好的處理元件17再次于圖4的上部示出，而處理元件坯料IOa于圖4的下部示出。關于處理元件坯料IOa和處理元件17a的進一步制造和結(jié)構(gòu)的細節(jié)在所述第一示例性實施例的描述中闡述。
[0045]以下描述本發(fā)明的在圖5和圖6中示出的第三示例性實施例。熱等靜壓裝置Ib設計成與所述第二示例性實施例相符，并且包括具有波形的殼體內(nèi)側(cè)W1的殼體2b。將與所述第一示例性實施例相符的處理元件芯Ilb布置在殼體2b內(nèi)從而形成環(huán)形空間14b，所述環(huán)形空間形成有沿著中心縱向軸線8或12的波形。因為芯外部波形Ak基本上與殼體壁外部波形Aw相符，所以環(huán)形空間14b具有沿著中心縱向軸線8或12基本上恒定的徑向厚度DK。環(huán)形空間14b以前述方式完全充滿粉末15，這允許通過熱等靜壓來制造處理元件坯料10b，在這之后以如述方式將殼體2b移除。
[0046]殼體壁外部波形Aw確保處理元件坯料10在制造期間已經(jīng)形成有處理元件外部波形Ab。如果必要，處理元件外部波形Ab可以經(jīng)受精加工。基本上與處理元件外部波形Ab相符的芯外部波形Ak確保因此形成的耐磨層16b具有基本上恒定的徑向厚度Dv。恒定的徑向厚度Dv基本上阻止了應力裂紋的形成，因此簡化了處理元件17b的熱處理。加工好的處理元件17b再次于圖6的上部示出，而處理元件坯料IOb于圖6的下部示出。關于處理元件坯料IOb和處理元件17b的進一步制造和結(jié)構(gòu)的細節(jié)在前述示例性實施例的描述中闡述。
[0047]以下描述本發(fā)明的在圖7中示出的第四示例性實施例。與第二實施例相比，殼體2c呈現(xiàn)為壓型金屬板的形式，具有殼體壁外側(cè)Wa，該殼體壁外側(cè)的波形與殼體壁內(nèi)側(cè)W1的波形相符。制造出的處理元件坯料IOc和制造出的處理元件17c分別與處理元件坯料IOa和處理元件17a相符。關于處理元件坯料IOc和處理元件17c的進一步制造和結(jié)構(gòu)的細節(jié)在前述示例性實施例的描述中闡述。關于熱等靜壓裝置Ic的結(jié)構(gòu)和功能的細節(jié)特別在所述第二示例性實施例的描述中闡述。
[0048]以下描述本發(fā)明的在圖8中示出的第五示例性實施例。與第三實施例相比，殼體2d呈現(xiàn)為壓型金屬板的形式，具有殼體壁外側(cè)Wa，該殼體壁外側(cè)的波形與殼體壁內(nèi)側(cè)W1的波形相符。制造出的處理元件坯料IOd和制造出的處理元件17d分別與處理元件坯料IOb和處理元件17b相符。關于處理元件坯料IOd和處理元件17d的進一步制造和結(jié)構(gòu)的細節(jié)在前述示例性實施例的描述中闡述。關于熱等靜壓裝置Id的結(jié)構(gòu)和功能的細節(jié)特別在所述第二示例性實施例的描述中闡述。
[0049]以下描述本發(fā)明的在圖9和圖10中示出的第六示例性實施例。與所述第一示例性實施例相比，已經(jīng)以使處理元件坯料IOe形成有通孔20的方式制造出該處理元件坯料。為此，熱等靜壓裝置Ie的殼體底部6e和殼體蓋7e的每一個都裝配有貫通開口 21e，該貫通開口相應于處理元件芯Ile的通孔20設置。將處理元件芯lie焊接至殼體底部6e和殼體蓋7e，用以形成內(nèi)部空間9e。環(huán)形空間14e以前述方式填充粉末15，這允許通過熱等靜壓來制造復合體。也施加至通孔20的壓力P阻止處理元件芯lie的變形。移除殼體2e，與所述第一示例性實施例相符地機加工處理元件坯料10e，區(qū)別僅在于通孔20需要形成內(nèi)部輪廓19。關于處理元件坯料IOe和處理元件17e的進一步制造和結(jié)構(gòu)的細節(jié)在前述示例性實施例的描述中闡述。
[0050]與所述第六示例性實施例相符，如果熱等靜壓裝置Ia-1d的殼體2a_2d被構(gòu)造成與殼體2e相符并且形成有與貫通開口 21e相符的貫通開口，則處理元件坯料IOa-1Od可以在制造期間已經(jīng)形成有通孔20。
[0051]處理元件17、17a_17e以及相應的處理元件坯料10、IOa-1Oe尤其被構(gòu)造成螺旋式部件和/或捏制部件，并且意在用于螺旋式機器——尤其是用于塑料材料的處理和加工的雙軸螺旋式機器中。適合用于第二材料M2的材料尤其是那些允許獲得高度耐磨性和/或耐腐蝕性的材料。合適的第一材料乂尤其是高粘性、易延展的材料，諸如鋼。根據(jù)本發(fā)明的制造方法減少了第二材料M2需要的材料量。由于耐磨層16、16b、16d、16e具有沿著中心縱向軸線12的基本上恒定的徑向厚度Dv，所以簡化了處理元件17、17b、17d、17e的熱處理。另夕卜，由于已經(jīng)以使處理元件坯料10a、10b、10c、IOd形成有處理元件外部波形Ab的方式制造出這些處理元件坯料，所以簡化了處理元件17a、17b、17c、17d的在后機加工?？傮w而言，根據(jù)本發(fā)明的方法允許極大地簡化處理元件17、17a_17e的制造。
【權(quán)利要求】
1.一種制造用于螺旋式機器的處理元件的方法，所述方法包括以下步驟: -提供殼體(2 ;2a_2e)，該殼體具有中心縱向軸線(8)和限定出內(nèi)部空間(9 ;9a_9e)的殼體壁(5 ;5a_5e); -將第一金屬材料(M1)的處理元件芯(11 ;lla_lle)布置在所述內(nèi)部空間(9 ;9a_9e)中，使得 -在所述殼體壁(5 ；5a-5e )和所述處理元件芯(11 ; I Ia ; I Ib )之間形成環(huán)形空間(14 ；14a_14e)，并且 -所述環(huán)形空間(14 ;14a-14e)形成有沿著所述中心縱向軸線(8)的波形； -用第二金屬材料(M2)的粉末(15)填充所述環(huán)形空間(14;14a-14e)以形成耐磨層(16 ； 16a_16e)； -以通過熱等靜壓由所述第一和第二金屬材料(M1, M2)制造出復合體的方式來制造處理元件坯料(10 ; IOa-1Oe );以及 -后加工所述處理元件坯料(10 ; IOa-1Oe)以獲得所述處理元件(17 ;17a_17e)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述處理元件芯(11;llb;lld;lle)的芯外側(cè)(Ka)形成有波形以便制造波形的環(huán)形空間(14 ；14b ；14d ;14e)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，芯外側(cè)(Ka)具有相對于所述處理元件芯(11 ；llb ；lld；lle)的中心縱向軸線(12)的徑向距離(RKA)，所述徑向距離(Rka)沿著所述中心縱向軸線(12)變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法,其特征在于,所述殼體壁(5；5a)的殼體壁內(nèi)側(cè)(W1)是圓柱形的。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，通過機加工以制造出處理元件外部波形(Ab)的方式來形成所述處理元件坯料(10 ;10e)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的方法,其特征在于,所述殼體壁(5a；5b ；5c ；5d)的殼體壁內(nèi)側(cè)(W1)形成有波形以便制造波形的環(huán)形空間(14a ;14b ；14c ;14d)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項或權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述殼體壁(5a ；5b ；5c ；5d)的殼體壁內(nèi)側(cè)(W1)具有相對于所述中心縱向軸線(8)變化的徑向距離(Rffi)o
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的方法，其特征在于，以使所述處理元件坯料(10a；10b ；IOc ; IOd)形成處理元件外部波形(Ab)的方式制造所述處理元件坯料(10a ；10b ；10c ；10d)；耐磨層外側(cè)(Va)僅在后加工期間需要精加工。
9.根據(jù)權(quán)利要求6-8中任一項所述的方法，其特征在于，所述處理元件芯(11a;llc)的芯外側(cè)(Ka)具有沿著中心縱向軸線(12)的相對于該中心縱向軸線(12)恒定的徑向距離(RkaX
10.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項或權(quán)利要求6-8中任一項所述的方法,其特征在于,為了制造所述波形的環(huán)形空間(14b ;14d)，所述殼體壁(5b ；5d)的殼體壁內(nèi)側(cè)(W1)和所述處理元件芯(I Ib ；lld)的芯外側(cè)(Ka)形成有波形。
11.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項或權(quán)利要求6-10中任一項所述的方法，其特征在于，所述殼體壁(5c ；5d)的殼體 壁內(nèi)側(cè)(W1)和殼體壁外側(cè)(Wa)形成有波形。
12.根據(jù)權(quán)利要求1-11中任一項所述的方法，其特征在于，殼體底部(6)和殼體蓋(7)形成有彼此同軸地設置的貫通開口(21e)，用以制造具有通孔(20)的處理元件坯料(10e)。
13.一種用于制造用于螺旋式機器的處理元件的處理元件坯料，所述處理元件坯料包括: 第一金屬材料(M1)的處理元件芯(11 ; I la-1 Ie)； 環(huán)繞所述處理元件芯(11 ;lla-lle)的第二金屬材料(M2)的耐磨層(16 ;16a_16e)，其中所述第二材料(M2)通過熱等靜壓與所述第一材料(M1)結(jié)合以形成復合體， 其特征在于， 所述耐磨層(16 ;16a-16e)沿著中心縱向軸線(12)形成波形。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的處理元件坯料，其特征在于，所述處理元件芯(11，Ilb；Ild ;IIe)的面向所 述耐磨層(16 ；16b ；16d ；16e)的芯外側(cè)(Ka)形成有波形。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的處理元件坯料，其特征在于，芯外側(cè)(Ka)具有相對于所述處理元件芯(11，lib ；lld；lle)的中心縱向軸線(12)的徑向距離(Rka),該徑向距離沿著所述中心縱向軸線(12)變化。
16.根據(jù)權(quán)利要求13-15中任一項所述的處理元件坯料，其特征在于，所述處理元件坯料(10 ; IOe)具有圓柱形的坯料外側(cè)(Ra)。
17.根據(jù)權(quán)利要求13-15中任一項所述的處理元件坯料，其特征在于，所述耐磨層(16a ；16b ；16c ；16d)的背向所述處理兀件芯(11a, lib ；llc ；lld)的耐磨層外側(cè)(Va)形成有波形。
18.根據(jù)權(quán)利要求13-15中任一項或權(quán)利要求17所述的處理元件坯料，其特征在于，所述處理元件芯(I Ib ；lld)的面向所述耐磨層(16b ；16d)的芯外側(cè)(Ka)以及所述耐磨層(16b ；16d)的背向所述處理元件芯(lib ；lld)的耐磨層外側(cè)(Va)形成有波形。
19.根據(jù)權(quán)利要求17或18所述的處理元件坯料，其特征在于，所述耐磨層(16a；16b ；16c ;16d)具有相對于所述中心縱向軸線(12)的徑向距離(RVA)，該徑向距離沿著該中心縱向軸線(12)變化。
20.根據(jù)權(quán)利要求13-19中任一項所述的處理元件坯料，其特征在于，所述處理元件芯(lie)是管狀的。
【文檔編號】B22F3/15GK103717330SQ201280037720
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2012年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月1日
【發(fā)明者】D·約翰, D·基里翁, K-C·波爾策, P·蒙克斯, R·伍特克 申請人:科倍隆有限公司