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一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置的制作方法

文檔序號(hào):3376937閱讀:460來源:國知局
專利名稱:一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明關(guān)于一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,特別關(guān)于一種鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,達(dá)到氣體均勻分布于鍍膜制程腔內(nèi),完成均勻分布的電漿范圍。
背景技術(shù)
當(dāng)前,鍍膜技術(shù)中之派鍍法(Sputtering),其原理是在一真空腔體中通入工作氣體,通常為Ar,并以靶材為陰極,使得工作氣體在高壓電場作用下被解離成離子與電子狀態(tài),形成電漿,電漿中的正離子于高壓電場中會(huì)加速移動(dòng)并轟擊陰極靶材(Target)的表面,使靶材原子濺飛出并沉積、附著在光伏玻璃的表面上,以形成薄膜;現(xiàn)有一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,水平設(shè)置于制程腔用以將工作氣體導(dǎo)入于該腔體中,然而,由于該氣體引入只有中心進(jìn)氣點(diǎn),相當(dāng)容易造成工作氣體過度集中于中間段部,而該制程腔體之上、下段部處的氣體量卻較為稀薄、不均的現(xiàn)象,如此一來,不僅會(huì)連帶影響到該制程腔體內(nèi)部所通入工作氣體的擴(kuò)散均勻性,還會(huì)影響濺鍍作業(yè)之質(zhì)量效率,尤其所述不良現(xiàn)象的負(fù)面影響,將隨著真空濺鍍?cè)O(shè)備之尺寸規(guī)格日漸增大而更趨明顯、嚴(yán)重;本案創(chuàng)作人鑒于上述現(xiàn)有真空濺鍍?cè)O(shè)備的進(jìn)氣裝置具所衍生的各項(xiàng)問題及不足,乃亟思加以改良創(chuàng)新,并經(jīng)多年苦心孤詣潛心研究后,終于成功研發(fā)完成一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明在于提供一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,主要包含:一反應(yīng)制程腔體、一氣體導(dǎo)引管路 、一導(dǎo)引管路框架所組成,通過外接入之氣體透過氣體導(dǎo)引管所設(shè)置的氣體導(dǎo)入接頭進(jìn)入,氣體導(dǎo)引管路上設(shè)有依照氣體導(dǎo)入管路長度分布平均的小孔作為氣體噴出口,形成一側(cè)邊向下噴出的動(dòng)作,導(dǎo)引管路框架支撐氣體導(dǎo)引管路,使其能水平置放于導(dǎo)引管路框架上,使得制成氣體能有效集中于反應(yīng)區(qū),完成一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,藉此,可達(dá)到有效均勻分布?xì)怏w于鍍膜制程腔內(nèi)部,完成均勻分布之電漿粒子內(nèi)。本發(fā)明有益效果為:1.本發(fā)明利用管路開孔的密度不同達(dá)到氣體導(dǎo)入均勻分布于制程腔體中,結(jié)構(gòu)簡單,2.本發(fā)明后續(xù)不需要維護(hù)保養(yǎng),節(jié)省保養(yǎng)成本。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖
對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說明。請(qǐng)參閱第一圖、第二圖及第三圖所示,為一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,其包括一導(dǎo)引管路框架12、氣體導(dǎo)引管路11、該氣體導(dǎo)引管路11水平架設(shè)于導(dǎo)引管路框架12上,氣體導(dǎo)引管路框架12上設(shè)有固定架21,用以固定氣體導(dǎo)引管路11,該氣體透過氣體導(dǎo)入接頭22引入,引入之氣體透過氣體導(dǎo)引管路11上設(shè)置的小孔31向外噴出,該小孔31以不同密度分布于氣體導(dǎo)引管路11上,通常為中間段較疏,上下兩段較密集,以防止氣體引入后過度集中于中間段,造成鍍膜制程腔氣體分布不均勻,而致使電漿分布也同時(shí)不均勻。
本發(fā)明在突破先前之技術(shù)結(jié)構(gòu)下,確實(shí)已達(dá)到所欲增進(jìn)之功效,且也非熟悉該項(xiàng)技藝者所易于思及,其所具之進(jìn)步性、實(shí)用性,顯已符合發(fā)明專利之申請(qǐng)要件,惟上列詳細(xì)說明系針對(duì)本發(fā)明之一可行實(shí)施例之具體說明,該實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明之專利范圍,而凡未脫離本發(fā)明技藝精神所為之等效實(shí)施或變更,均應(yīng)包含于本案之專利范圍中。第一圖系為本發(fā)明之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置示意圖,第二圖系為本發(fā)明之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置氣體導(dǎo)引管路示意圖,第三圖系為本發(fā)明之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置氣體導(dǎo)引管路開孔示意圖。主要組件符號(hào)說明:11...氣體導(dǎo)引管路12...導(dǎo)`引管路框架21...固定架22...氣體導(dǎo)入接頭31...小孔。
權(quán)利要求
1.一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,主要包含:一反應(yīng)制程腔體、一氣體導(dǎo)引管路、一導(dǎo)引管路框架所組成,通過外接入之氣體透過氣體導(dǎo)引管所設(shè)置的氣體導(dǎo)入接頭進(jìn)入,氣體導(dǎo)引管路上設(shè)有依照氣體導(dǎo)入管路長度分布平均的小孔作為氣體噴出口,形成一側(cè)邊向下噴出的動(dòng)作,導(dǎo)引管路框架支撐氣體導(dǎo)引管路,使其能水平置放于導(dǎo)引管路框架上,使得制成氣體能有效集中于反應(yīng)區(qū),完成一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,藉此,可達(dá)到有效均勻分布?xì)怏w于鍍膜制程腔內(nèi)部,完成均勻分布之電漿粒子內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,其中該氣體導(dǎo)引柱設(shè)有一個(gè)以上的氣體引入接頭,該氣體引入接頭系將氣體引入至反應(yīng)腔體內(nèi)部,形成電漿粒子。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,其中氣體導(dǎo)引管路上設(shè)有間距50mm的小孔,孔徑05mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述之一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,其中導(dǎo)引管路框架固定氣體導(dǎo)引管路水平于導(dǎo)弓I管路 框架。
全文摘要
本發(fā)明系提供一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,主要包含一反應(yīng)制程腔體、一氣體導(dǎo)引管路、一導(dǎo)引管路框架所組成,通過外接入之氣體透過氣體導(dǎo)引管所設(shè)置的氣體導(dǎo)入接頭進(jìn)入,氣體導(dǎo)引管路上設(shè)有依照氣體導(dǎo)入管路長度分布平均的小孔作為氣體噴出口,形成一側(cè)邊向下噴出的動(dòng)作,導(dǎo)引管路框架支撐氣體導(dǎo)引管路,使其能水平置放于導(dǎo)引管路框架上,使得制成氣體能有效集中于反應(yīng)區(qū),完成一種光伏玻璃鍍膜制程腔氣體導(dǎo)入裝置,藉此,可達(dá)到有效均勻分布?xì)怏w于鍍膜制程腔內(nèi)部,完成均勻分布之電漿粒子內(nèi)。
文檔編號(hào)C23C14/46GK103184418SQ201110455950
公開日2013年7月3日 申請(qǐng)日期2011年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年12月31日
發(fā)明者周文彬, 劉幼海, 劉吉人 申請(qǐng)人:吉富新能源科技(上海)有限公司
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