專利名稱：對準(zhǔn)主玻璃件及其制造方法和拉緊氣相沉積掩膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
示例實(shí)施例涉及用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件、制造該對準(zhǔn)主玻璃件的方法以及使用該對準(zhǔn)主玻璃件拉緊該氣相沉積掩膜的方法。更具體地說，示例實(shí)施例涉及用于拉緊氣相沉積掩膜以沉積有機(jī)發(fā)光顯示裝置的有機(jī)發(fā)射層的對準(zhǔn)主玻璃件、制造該對準(zhǔn)主玻璃件的方法以及使用該對準(zhǔn)主玻璃件拉緊該氣相沉積掩膜的方法。
背景技術(shù)：
近來，被認(rèn)為是自發(fā)光型顯示裝置的電致發(fā)光(EL)裝置由于例如寬視角、良好對比度和快速響應(yīng)特性而作為下一代顯示裝置獲得了許多關(guān)注。例如，有機(jī)EL裝置可以包括在透明絕緣基板上形成為預(yù)定圖案的一系列第一電極、通過真空沉積形成在透明絕緣基板上的有機(jī)發(fā)射層，以及形成在有機(jī)發(fā)射層上以充當(dāng)與第一電極交叉的陰極電極的一系列第二電極。在制造具有以上所述這種結(jié)構(gòu)的有機(jī)EL裝置中，第一電極可以通過濕法蝕刻，例如光刻法被圖案化。不過，在光刻法被應(yīng)用于蝕刻第二電極時(shí)，液體可能滲入有機(jī)發(fā)射層與第二電極之間的界面中，同時(shí)所使用的抗蝕劑被剝落并且第二電極被蝕刻，從而惡化有機(jī) EL裝置的性能和壽命特性。例如，如果在有機(jī)層的至少一部分形成之后執(zhí)行濕法蝕刻工藝， 則濕氣可能在濕法蝕刻工藝期間滲入或殘留在有機(jī)層中，從而顯著惡化完成的有機(jī)EL裝置的性能和壽命特性。鑒于上述情況，有機(jī)層，即實(shí)施預(yù)定顏色的發(fā)射有機(jī)層，以及形成在有機(jī)層上的第二電極可以通過沉積被圖案化，例如被微圖案化。例如，沉積方法可以包括使用在其主薄板中具有間隔開預(yù)定距離的一系列長狹縫的掩膜。在另一示例中，沉積方法可以使用由具有成網(wǎng)格圖案的狹縫部分和橋部分的金屬薄板制成的掩膜。在又一示例中，沉積方法可以使用通過施加至金屬薄板，例如氣相沉積掩膜的拉力例如借助粘附或焊接被固定至該金屬薄板的支撐框架。例如，參照圖1，拉力可以利用拉緊裝置被施加到氣相沉積掩膜1，該氣相沉積掩膜I包括位于基板2上的多個(gè)開口 3，這樣材料可以通過開口 3被沉積以形成期望的圖案。不過，盡管金屬薄板與基板之間有粘附力， 但是金屬薄板中的開口可能由于金屬薄板的重量而從基板下陷，即使金屬薄板的邊緣可以在框架拉力下得到支撐。另外，由于在形成有機(jī)薄膜期間溫度升高而引起的掩膜的熱膨脹可能促進(jìn)開口的這種下陷。

發(fā)明內(nèi)容
示例實(shí)施例提供一種用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件，其通過將光反射在氣相沉積掩膜和對準(zhǔn)主玻璃件上能夠獲得具有清晰且明確邊界的反射光圖像。示例實(shí)施例還提供一種制造用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的方法，其通過將光反射在氣相沉積掩膜和對準(zhǔn)主玻璃件上能夠獲得具有清晰且明確邊界的反射光圖像。
示例實(shí)施例還提供一種使用用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其通過將光反射在氣相沉積掩膜和對準(zhǔn)主玻璃件上能夠獲得具有清晰且明確邊界的反射光圖像。根據(jù)示例實(shí)施例的一方面，提供一種在拉緊氣相沉積掩膜以沉積有機(jī)材料中，用于對準(zhǔn)形成于所述氣相沉積掩膜中的多個(gè)開口的對準(zhǔn)主玻璃件，該對準(zhǔn)主玻璃件包括透明基板；和位于所述透明基板的至少一個(gè)表面上的反射膜圖案，所述反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口相對應(yīng)的位置處。所述反射膜圖案可以包括金屬材料。所述反射膜圖案可以包括鑰(Mo)和鎢(W)中至少之一。所述反射膜圖案可以比所述多個(gè)開口小。根據(jù)示例實(shí)施例的一方面，提供一種用于制造對準(zhǔn)主玻璃件的方法，所述對準(zhǔn)主玻璃件用于拉緊具有用于沉積有機(jī)材料的多個(gè)開口的氣相沉積掩膜，所述方法包括提供透明基板；以及在所述透明基板的至少一個(gè)表面上形成反射膜圖案，使得所述反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口相對應(yīng)的位置處。形成所述反射膜圖案可以包括形成由金屬材料制成的圖案。形成所述反射膜圖案可以包括形成由鑰(Mo)和鎢(W)中至少之一制成的圖案。形成所述反射膜圖案可以包括形成比所述多個(gè)開口小的所述反射膜圖案。根據(jù)示例實(shí)施例的一方面，提供一種使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，該方法包括提供所述氣相沉積掩膜，所述氣相沉積掩膜具有用于沉積有機(jī)材料的多個(gè)開口 ；提供用于拉緊所述氣相沉積掩膜的所述對準(zhǔn)主玻璃件，所述對準(zhǔn)主玻璃件包括僅被形成在與所述氣相沉積掩膜的所述開口相對應(yīng)的位置處的反射膜圖案；使用拉緊裝置拉緊所述氣相沉積掩膜；使得所述開口的中心和所述反射膜圖案的中心彼此相重合；獲得反射光圖像，該反射光圖像指示所述氣相沉積掩膜的所述開口的中心和所述反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)；以及分析所述反射光圖像并且確定在拉緊之后所述氣相沉積掩膜的所述開口和所述反射膜圖案被對準(zhǔn)的所述對準(zhǔn)狀態(tài)，其中所述反射光圖像中的在對準(zhǔn)的開口和所述反射膜圖案之間的第一區(qū)域?qū)?yīng)于暗部分。所述方法可以進(jìn)一步包括在所述開口的中心不與所述反射膜圖案的中心相重合時(shí)，基于所述氣相沉積掩膜的第一軸和第二軸重復(fù)執(zhí)行拉緊的步驟到分析的步驟。所述第一區(qū)域可以由對準(zhǔn)的開口的外邊界和相應(yīng)的反射膜圖案的外邊界之間的區(qū)域來限定。所述反射光圖像可以進(jìn)一步包括除了所述第一區(qū)域之外的第二區(qū)域，所述第二區(qū)域形成所述反射光圖像上的亮部分。使得所述開口的中心和所述反射膜圖案的中心相重合可以包括基于第一軸測量所述開口的寬度并且確定所述開口的中心；基于第二軸測量所述反射膜圖案的寬度并且確定所述反射膜圖案的中心；以及移動所述氣相沉積掩膜或所述對準(zhǔn)主玻璃件以使得所述開口的寬度的中心和所述反射膜圖案的寬度的中心彼此相重合。使得所述開口的中心和所述反射膜圖案的中心相重合可以進(jìn)一步包括基于所述第一軸和所述第二軸重復(fù)執(zhí)行測量的步驟到移動的步驟。分析所述反射光圖像并且確定所述對準(zhǔn)狀態(tài)可以包括基于第一軸測量所述開口的寬度并且確定所述開口的寬度的中心；基于第二軸測量所述反射膜圖案的寬度并且確定所述反射膜圖案的寬度的中心；以及確定所述開口的寬度的中心與所述反射膜的寬度的中心是否相重合。分析所述反射光圖像并且確定所述對準(zhǔn)狀態(tài)可以進(jìn)一步包括基于所述第一軸和所述第二軸重復(fù)執(zhí)行測量的步驟到確定的步驟。根據(jù)示例實(shí)施例的一方面，提供一種使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，所述方法包括通過將光照射到形成于所述氣相沉積掩膜中的開口中以及照射到形成于用于拉緊所述氣相沉積掩膜的所述對準(zhǔn)主玻璃件中的反射膜圖案中，獲得反射光圖像， 所述反射光圖像表示所述開口的中心和所述反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)；分析所述反射光圖像；以及確定在拉緊之后所述開口和所述反射膜圖案被對準(zhǔn)的所述對準(zhǔn)狀態(tài)， 其中所述反射光圖像具有被限定在對準(zhǔn)的開口的外邊界和相應(yīng)的反射膜圖案的外邊界之間的第一區(qū)域以及除了所述第一區(qū)域之外的第二區(qū)域，所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域形成所述反射光圖像上的相應(yīng)暗部分和相應(yīng)亮部分。所述反射膜圖案中的每個(gè)可以均比相應(yīng)的開口小。所述反射膜圖案可以由反射光的金屬材料制成。所述反射膜圖案可以由鑰(Mo)和鎢(W)中至少之一制成。


對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來說，以上和其它特征及優(yōu)點(diǎn)將通過參照附圖詳細(xì)描述示例性實(shí)施例而變得更加明顯，在附圖中圖I示出常規(guī)氣相沉積掩膜；圖2示出根據(jù)實(shí)施例的用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的透視圖；圖3示出根據(jù)實(shí)施例的通過將光照射通過對準(zhǔn)主玻璃件和氣相沉積掩膜的疊加結(jié)構(gòu)而獲得的反射光圖像的一部分；圖4示出圖3中的反射光圖像的放大視圖；圖5示出從圖4中的反射光圖像測得的開口的寬度；圖6示出根據(jù)實(shí)施例的用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的光反射圖案；圖7示出根據(jù)實(shí)施例的制造用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的方法的流程圖；和圖8示出根據(jù)實(shí)施例的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法的流程圖。
具體實(shí)施例方式已于2011年I月5日遞交到韓國知識產(chǎn)權(quán)局且名稱為“用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件及其制造方法和使用其拉緊氣相沉積掩膜的方法”的韓國專利申請 No. 10-2011-0001077通過參考被全部合并于此?，F(xiàn)在將參照附圖在下文中對示例實(shí)施例進(jìn)行更充分地描述，不過，這些示例實(shí)施例可以以不同形式來具體體現(xiàn)，并且不應(yīng)該被解釋為局限于此處所列出的實(shí)施例。而是，這些實(shí)施例被提供以使該公開內(nèi)容是全面和完整的，并且向本領(lǐng)域技術(shù)人員充分傳達(dá)本發(fā)明的范圍。
在附圖中，元件和區(qū)域的尺寸可能為了示例的清楚起見被放大。也將理解的是，在一層(或元件)被稱為在另一層或基板“上”時(shí)，它可以直接在該另一層或基板上，或者也可以存在中間層。另外，也將理解的是，在一層被稱為在兩層“之間”時(shí)，它可以是這兩層之間的唯一層，或者也可以存在一個(gè)或多個(gè)中間層。進(jìn)一步，也將理解的是，在一層被稱為“連接至”另一層時(shí)，它可以直接連接至該另一層，或者也可以存在中間層。相反地，在一層被稱為“直接在”另一層“上”或者“直接連接至”另一層時(shí)，不存在中間層。相同的附圖標(biāo)記始終表示相同的元件。如此處所使用的那樣，術(shù)語“和/或”包括相關(guān)聯(lián)的列出項(xiàng)中一個(gè)或多個(gè)的任意和全部組合。進(jìn)一步，空間上相對的術(shù)語，例如“下面”、“之下”、“下部”、“上方”、“上部”等等， 可以為了易于描述而在此處用于描述如附圖中所示的一個(gè)元件或特征與另一個(gè)或多個(gè)元件或特征的關(guān)系。將理解的是，空間上相對的術(shù)語意在涵蓋處于使用或操作中的裝置的除了附圖中所描繪的方位之外的不同方位。將參照作為本發(fā)明的理想示意性視圖的平面圖和/或截面圖對此處所描述的實(shí)施例進(jìn)行描述。因此，示例性視圖可以依據(jù)制造技術(shù)和/或容差進(jìn)行修改。因此，本發(fā)明的實(shí)施例不局限于視圖中所示的那些，而是包括基于制造工藝形成的配置中的修改。因此，附圖中例示的區(qū)域具有示意性特性，并且附圖所示的區(qū)域的形狀例示元件的區(qū)域的特定形狀而不限制本發(fā)明的各方面。下文中，將參照圖2至圖6對實(shí)施例進(jìn)行描述。圖2示出根據(jù)實(shí)施例的用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的透視圖，圖3示出根據(jù)實(shí)施例的通過將光照射在對準(zhǔn)主玻璃件和氣相沉積掩膜的疊加結(jié)構(gòu)上所獲得的反射光圖像的一部分，圖4示出圖3中所示的反射光圖像的放大視圖，圖5示出從圖4中的反射光圖像測得的開口的寬度，而圖6示出根據(jù)實(shí)施例的用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的光反射圖案。參照圖2，根據(jù)示例實(shí)施例的對準(zhǔn)主玻璃件10可以包括透明基板11和被涂覆在透明基板11的至少一個(gè)表面上的反射膜圖案13。對準(zhǔn)主玻璃件10可以與氣相沉積掩膜I 對準(zhǔn)，以確定氣相沉積掩膜I中的多個(gè)開口 3(圖I)是否以期望水平的精度對準(zhǔn)，使得施加至氣相沉積掩膜I和其中的多個(gè)開口 3的拉力，即外力可以基于所確定的對準(zhǔn)狀態(tài)被調(diào)整， 從而避免氣相沉積掩膜I和其中的開口 3的變形。另外，氣相沉積掩膜I中的開口 3的精度水平可以通過調(diào)整開口 3的分布、拉力以及施加在拉緊裝置上的拉力方向而得到增加。對準(zhǔn)主玻璃件10的反射膜圖案13可以被形成在，例如僅形成在與對應(yīng)的氣相沉積掩膜(即氣相沉積掩膜I)中的多個(gè)開口(例如開口 3)相對應(yīng)的位置處，并且可以反射光。透明基板11可以由能夠透射光的透明材料，例如塑料材料制成。透明基板11可以被疊加在氣相沉積掩膜I上，并且可以由比柔性材料更不易變形的剛性材料，例如玻璃制成，以獲得精確的反射光圖像用于確定氣相沉積掩膜I的位置精確度。如以下將描述的那樣，由于不具有反射膜圖案13的區(qū)域是透射光的透明區(qū)域，因此它可以形成透光區(qū)域 12。另外，由于在拉緊裝置上獲得反射光圖像時(shí)，光不會從不具有反射膜圖案13的區(qū)域被反射，因此不具有反射膜圖案13的區(qū)域可以形成反射光圖像上的暗部分(在圖2至圖6中由陰影區(qū)域指出的暗區(qū)域)。反射膜圖案13可以以預(yù)定圖案被形成在透明基板11上，例如透明基板11的一個(gè)表面上。如上所述，反射膜圖案13可以對應(yīng)于氣相沉積掩膜I的開口 3。也就是說，當(dāng)氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10在彼此頂部對準(zhǔn)時(shí)，如圖3中所示，反射膜圖案13可以與開口 3對準(zhǔn)，例如關(guān)于開口 3被定中心。反射膜圖案13可以比開口 3小，使得它們在確定氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10是否被精確對準(zhǔn)時(shí)用作拉緊裝置中的基礎(chǔ)。由于反射膜圖案13反射光，因此它們在從拉緊裝置獲得反射光圖像時(shí)形成反射光圖像上的亮部分(在圖3至圖5中由非陰影區(qū)域指出的亮區(qū)域)。因此，反射膜圖案13 可以由光反射材料，例如金屬材料制成。金屬材料的示例可以包括鑰(Mo)和/或鎢(W)。如上所述，上面形成有反射膜圖案13的對準(zhǔn)主玻璃件10可以用于通過確定形成在氣相沉積掩膜I上的開口 3被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài),增加氣相沉積掩膜I的精度水平。拉力可以基于所確定的對準(zhǔn)狀態(tài)被調(diào)整。詳細(xì)地說，反射光的反射膜圖案13可以僅形成在與氣相沉積掩膜I的開口 3相對應(yīng)的區(qū)域中，并且其它區(qū)域，即基板11的圍繞反射膜圖案13的區(qū)域可以被形成為不反射光的透光區(qū)域12。由于反射膜圖案13比開口 3小并且在對準(zhǔn)主玻璃件10和氣相沉積掩膜I 被疊加時(shí)，反射膜圖案13處于，例如完全處于開口 3中，因此透光區(qū)域12的圍繞反射膜圖案13的部分顯示為通過開口 3。換句話說，每個(gè)開口 3可以暴露由相應(yīng)透光區(qū)域12的一部分所圍繞的相應(yīng)反射膜圖案13。因此，當(dāng)光被照射在氣相沉積掩膜I與對準(zhǔn)主玻璃件10 的疊加結(jié)構(gòu)上時(shí)，反射光的合成圖像(圖3至圖4)可以清楚地將相應(yīng)的反射膜圖案13和相應(yīng)的透光區(qū)域12分別反映為亮區(qū)域和暗區(qū)域，以指示氣相沉積掩膜I中的開口 3的對準(zhǔn)精度狀態(tài)。如圖4中所示，暗區(qū)域可以被限定在反射膜圖案13的外邊界13a與相應(yīng)開口 3 的外邊界3a之間。也就是說，如圖3中所示，在使用對準(zhǔn)主玻璃件10獲得反射光圖像時(shí)，對準(zhǔn)主玻璃件10的透光區(qū)域12，即非反射區(qū)域可以限定氣相沉積掩膜I的前基板2的反光區(qū)域與由對準(zhǔn)主玻璃件10的反射膜圖案13形成的反光區(qū)域之間的明顯邊界。換句話說，由于透光區(qū)域12的圍繞反射膜圖案13且示出通過開口 3的部分透射光，因此合成圖像展示出反射膜圖案13與前基板2之間的暗區(qū)域(圖3至圖6中的陰影區(qū)域)。因此，例如與常規(guī)技術(shù)相比，由于來自相鄰區(qū)域的反射光而使陰影區(qū)域可以不被形成。因此，具有明顯邊界(即所示出的陰影區(qū)域)的反射光圖像可以被獲得，如圖3至圖4中所示。因此，如圖5中所示，氣相沉積掩膜I的每個(gè)開口 3的清晰且明顯邊界可以由反射光圖像來限定。另外，氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10的對準(zhǔn)狀態(tài)可以通過計(jì)算開口 3的邊界距離被確定，并且對準(zhǔn)狀態(tài)可以被修改。詳細(xì)地說，如圖3至圖4中所示，為了在拉緊之后確定氣相沉積掩膜I的對準(zhǔn)狀態(tài)，對準(zhǔn)主玻璃件10可以被緊密粘附到氣相沉積掩膜I的后表面。對準(zhǔn)主玻璃件10可以被粘附，使得反射膜圖案13被設(shè)置在氣相沉積掩膜I的開口 3中。然后，光可以照射通過組合的氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10以用于微定位和微對準(zhǔn)，從而獲得反射光圖像。在對準(zhǔn)主玻璃件10中，反射膜圖案13被圖案化并以預(yù)定的間距被布置，并且用作對準(zhǔn)的基礎(chǔ)，使得除了反射膜圖案13之外的區(qū)域可以被形成為透光區(qū)域12。因此，如圖3 至圖4中所示，所獲得的反射光圖像被配置成在開口 3中具有由透光區(qū)域12所圍繞的反射膜圖案13。因此，如圖5中所示，開口 3的清晰且明顯的邊界可以基于反射光圖像被確定。因此，氣相沉積掩膜I的對準(zhǔn)狀態(tài)可以通過精確測量邊界距離D5被確定。參照圖6，對準(zhǔn)主玻璃件10的反射膜圖案13和透光區(qū)域12可以被限定在基板11 中。也就是說，反射膜圖案13可以以預(yù)定間隔被布置在透明基板11上，并且光可以從具有反射膜圖案13的區(qū)域被反射。因此，反射膜圖案13被表示為反射光圖像上的亮部分。不過，由于光被透射通過透光區(qū)域12，因此透光區(qū)域12被表示為反射光圖像上的暗部分。如上所述，由于對準(zhǔn)主玻璃件10包括反光區(qū)域和透光區(qū)域，因此通過使用拉緊裝置拉緊氣相沉積掩膜I并捕獲反射光圖像以確定對準(zhǔn)狀態(tài)，可以獲得具有清晰且明顯邊界的反射光圖像。另外，具有高位置精確度的氣相沉積掩膜可以被制造出。將參照圖7描述根據(jù)實(shí)施例的制造用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的方法。圖7示出根據(jù)實(shí)施例的制造用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件的方法的流程圖。制造用于拉緊氣相沉積掩膜以沉積有機(jī)材料的對準(zhǔn)主玻璃件的方法可以包括提供透明基板和形成反射膜圖案，所述反射膜圖案將光反射在，例如僅反射在與氣相沉積掩膜的開口相對應(yīng)的區(qū)域中的透明基板的一個(gè)表面上。將參照對準(zhǔn)主玻璃件10對該方法進(jìn)行詳細(xì)描述。首先，透明基板11可以被提供(SlO)。透明基板11可以由能夠透射光的透明材料，例如塑料材料制成。透明基板11可以被設(shè)置成疊加在氣相沉積掩膜I上，并且可以由比柔性材料更不易變形的剛性材料制成。例如，透明基板11可以由透明剛性材料，例如玻璃制成，以獲得精確的反射光圖像用于確定氣相沉積掩膜I的位置精確度。接下來，反射膜圖案13可以形成在透明基板11的一個(gè)表面上(S20)。反射膜圖案13可以以預(yù)定圖案形成在透明基板11上。例如，反射膜圖案13可以以不連續(xù)圖案被形成，使得透明基板11的不具有反射膜圖案13的部分可以限定出圍繞反射膜圖案13的透光區(qū)域。反射膜圖案13可以具有任意適合的形狀，例如圓形或多邊形，并且可以對應(yīng)于氣相沉積掩膜I的開口 3。反射膜圖案13可以比開口 3小，例如反射膜圖案13的直徑可以比開口 3的直徑小。因此，在對準(zhǔn)主玻璃件10和氣相沉積掩膜I被疊加時(shí)，氣相沉積掩膜I的每個(gè)開口 3 可以完全與對準(zhǔn)主玻璃件10的相應(yīng)反射膜圖案13重疊。例如，在對準(zhǔn)主玻璃件10和氣相沉積掩膜I被疊加時(shí)，對準(zhǔn)主玻璃件10的每個(gè)反射膜圖案13可以關(guān)于氣相沉積掩膜I的相應(yīng)開口 3設(shè)定中心。這樣，在確定氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10是否被彼此精確對準(zhǔn)時(shí)，反射膜圖案13可以提供拉緊裝置中的基礎(chǔ)。由于反射膜圖案13反射光，因此在從拉緊裝置獲得反射光圖像時(shí)它們形成反射光圖像上的亮部分(圖3至圖5中由非陰影區(qū)域指出的亮區(qū)域)。由于透明基板11的不具有反射膜圖案13的區(qū)域是透射光的透明區(qū)域，因此這種區(qū)域可以被稱為透光區(qū)域12。進(jìn)一步，由于光不從透光區(qū)域12被反射，因此這種區(qū)域可以形成發(fā)射光圖像上的暗部分(圖 2至圖6中的陰影區(qū)域)。反射膜圖案13可以由光反射材料，例如金屬材料制成。金屬材料的示例可以包括，例如鑰(Mo)、鎢(W)、鋁(Al)和鉻(Cr)以及諸如氧化鋁(Al2O3)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦錫(ITO)和氧化銦鋅(IZO)之類的金屬氧化物中至少之一。反射膜圖案13可以通過一般的涂覆方法，例如旋涂、滾涂等形成在透明基板11 上。例如，在反射膜圖案13由金屬材料制成時(shí)，濺射可以用于形成反射膜圖案13。
在對準(zhǔn)主玻璃件10中，用于反射光的反射膜圖案13僅被形成在與氣相沉積掩膜 I的開口 3相對應(yīng)的區(qū)域中，并且不反射光的透光區(qū)域12被形成在其它區(qū)域中。例如，如圖2中所示，反射膜圖案13可以被成形為六邊形，并且可以被布置成矩陣圖案，例如以預(yù)定間隔被布置成矩形圖案。示例實(shí)施例不局限于此，而是反射膜圖案13可以被布置成各種圖案。在獲得反射光圖像時(shí),反射膜圖案13可以被對準(zhǔn)以使氣相沉積掩膜I的開口 3與反射膜圖案13相重合，例如相重疊。換句話說，反射膜圖案13可以形成為比開口 3小，使得反射膜圖案13可以被設(shè)置在開口 3中。例如，在氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10被疊加時(shí)，開口 3的外邊緣可以圍繞相應(yīng)的反射膜圖案13。另外,如圖3中所示,反射膜圖案 13和開口 3可以以預(yù)定的相似比具有相同形狀。如上所述，由于根據(jù)實(shí)施例的對準(zhǔn)主玻璃件10包括反光區(qū)域，即反射膜圖案13， 以及透光區(qū)域12，因此通過使用拉緊裝置拉緊氣相沉積掩膜I可以獲得具有清晰且明顯邊界的反射光圖像。反射光圖像可以被捕獲，例如如圖5中所示，以確定對準(zhǔn)狀態(tài)。因此，氣相沉積掩膜I可以以高位置精確度被制造出。接下來，將參照圖8描述根據(jù)實(shí)施例的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法。圖8是根據(jù)實(shí)施例的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法的流程圖。作為示例， 對準(zhǔn)主玻璃件10和氣相沉積掩膜I將被用于不例。使用對準(zhǔn)主玻璃件10拉緊氣相沉積掩膜I的方法可以包括提供具有多個(gè)開口以沉積有機(jī)材料的氣相沉積掩膜、提供用于拉緊氣相沉積掩膜的具有僅形成在與氣相沉積掩膜的開口相對應(yīng)的位置處的反射膜圖案的對準(zhǔn)主玻璃件、使用拉緊裝置拉緊氣相沉積掩膜、使得開口的中心和反射膜圖案的中心彼此相重合、獲得指示出氣相沉積掩膜的開口的中心和反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)的反射光圖像，以及分析反射光圖像并且確定在拉緊之后氣相沉積掩膜的開口和反射膜圖案被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)，其中反射光圖像中的在對準(zhǔn)的開口和反射膜圖案之間的第一區(qū)域?qū)?yīng)于暗部分。根據(jù)另一實(shí)施例的使用對準(zhǔn)主玻璃件10拉緊氣相沉積掩膜I的方法可以包括通過將光照射到形成在氣相沉積掩膜上的開口中以及形成在用于拉緊氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件上的反射膜圖案中來獲得反射光圖像、以及獲得反射在上面的光以表示開口的中心和反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)、以及分析反射光圖像并且確定在拉緊之后開口和反射膜圖案被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)，其中反射光圖像具有由對準(zhǔn)的開口的外邊界和反射膜圖案的外邊界限定的第一區(qū)域以及除第一區(qū)域之外的第二區(qū)域，并且第一區(qū)域形成反射光圖像上的暗部分，而第二區(qū)域形成反射光圖像上的亮部分。詳細(xì)地說，首先，氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件10可以被提供(SI 10和S120)。 對準(zhǔn)主玻璃件10可以用作用于確定拉緊之后的狀態(tài)以及對準(zhǔn)狀態(tài)的基礎(chǔ)。為了形成高精度和可靠的氣相沉積掩膜，上面施加有拉力的金屬薄板可以被固定至支撐框架。通過這樣做，氣相沉積掩膜I不可能變形，并且氣相沉積掩膜I的下陷不可能出現(xiàn)，從而即使在重復(fù)使用之后也會增強(qiáng)氣相沉積掩膜I的耐久性并且允許有機(jī)材料以一定精度被沉積在上面。對準(zhǔn)主玻璃件10可以被提供以在拉力被施加于氣相沉積掩膜I上時(shí)確定氣相沉積掩膜I如何被拉緊，以及確定形成在氣相沉積掩膜I上的開口 3是否以期望的圖案被對準(zhǔn)。由于根據(jù)實(shí)施例的對準(zhǔn)主玻璃件10與以上所述的相同，因此將省略對其重復(fù)的描述。接下來，氣相沉積掩膜I可以使用拉緊裝置被拉緊，從而在重復(fù)使用期間防止氣相沉積掩膜I在支撐框架上變形(S130)。拉緊工藝可以基于氣相沉積掩膜I的一個(gè)軸被執(zhí)行?？商鎿Q地，拉緊工藝可以基于多個(gè)軸被重復(fù)執(zhí)行。接下來，開口 3和反射膜圖案13可以在拉緊裝置中被對準(zhǔn)，使得開口 3的中心和反射膜圖案13的中心彼此相重合，例如相重疊(S140)。在拉緊裝置中，使得開口 3的中心和反射膜圖案13的中心彼此相重合的步驟可以包括以下子步驟基于一個(gè)軸測量開口 3的寬度并確定開口 3的中心、基于另一個(gè)軸測量反射膜圖案13的寬度并確定反射膜圖案13的中心，以及移動氣相沉積掩膜I或?qū)?zhǔn)主玻璃件10以使得開口 3的寬度的中心和反射膜圖案13的寬度的中心彼此相重合。另外，使得開口 3的中心和反射膜圖案13的中心彼此相重合可以包括基于所述一個(gè)軸和所述另一個(gè)軸重復(fù)執(zhí)行以上所述的子步驟。也就是說，在通過基于一個(gè)軸和另一個(gè)軸測量開口 3的寬度和反射膜圖案13的寬度并確定相應(yīng)寬度的中心而對準(zhǔn)之后，對準(zhǔn)可以進(jìn)一步通過基于所述一個(gè)軸和另一個(gè)軸(例如與所述一個(gè)軸垂直的軸)測量所述寬度并且確定相應(yīng)寬度的中心而被執(zhí)行。接下來，反射光圖像可以被獲得，所述反射光圖像表示在拉緊之后氣相沉積掩膜I 的開口 3的中心和反射膜圖案13的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)(SI50)。反射光圖像可以使用拉緊裝置被自動識別和分析，以確定氣相沉積掩膜I的開口 3和反射膜圖案13的對準(zhǔn)狀態(tài) (S160)。反射光圖像的示例與以上參照圖3至圖5所描述的相同。相反地，如果對準(zhǔn)主玻璃件包括上面具有不連續(xù)光吸收圖案的反射表面，即合成圖像針對亮/暗區(qū)域具有關(guān)于先前參照圖2所描述的示例實(shí)施例的相反配置，則這種對準(zhǔn)主玻璃件與氣相沉積掩膜I的對準(zhǔn)可以使得從氣相沉積掩膜I的開口 3反射的光和從對準(zhǔn)主玻璃件的反射表面反射的光彼此相干涉并且彼此偏置。這樣，陰影區(qū)域可以被建立在開口 3和掩膜的反射表面2之間。因此，開口 3可能具有不清晰且不明顯的邊界，而這是不期望的。換句話說，由于反射表面2無法與對準(zhǔn)主玻璃件的反射區(qū)域區(qū)分開，因此氣相沉積掩膜I的開口 3的邊界和精確定位無法被確定或校正，例如開口 3的寬度和/或中心無法被測量。因此，對準(zhǔn)誤差可能在氣相沉積掩膜I和對準(zhǔn)主玻璃件之間產(chǎn)生，從而降低位置精確度并且導(dǎo)致在拉緊氣相沉積掩膜I時(shí)以高概率產(chǎn)生缺陷。因此，在根據(jù)示例實(shí)施例的拉緊方法中，拉緊的狀態(tài)可以使用對準(zhǔn)主玻璃件10被明確確定。也就是說，在對準(zhǔn)主玻璃件10中，為了使對準(zhǔn)的開口和反射膜圖案之間的第一區(qū)域形成為反射光圖像上的暗部分，第一區(qū)域由不反射光的材料制成。詳細(xì)地說，第一區(qū)域由對準(zhǔn)的開口的外邊界和反射膜圖案的外邊界之間的區(qū)域限定。第一區(qū)域可以被維持為對準(zhǔn)主玻璃件10的透明基板11。因此，由于第一區(qū)域不反射光而透射光，因此它形成反射光圖像上的暗部分。反射光圖像進(jìn)一步包括第二區(qū)域，即除了第一區(qū)域之外的區(qū)域，以形成反射光圖像上的亮部分。如上所述，在根據(jù)示例實(shí)施例的拉緊方法中，由于反射光圖像上的反射光的區(qū)域被獨(dú)立形成，因此陰影區(qū)域不被形成。因此，開口在反射光圖像上具有清晰且明顯的邊界。 因此，邊界可以通過拉緊裝置被識別，并且氣相沉積掩膜和對準(zhǔn)主玻璃件被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)可以被精確確定。
另外，確定對準(zhǔn)狀態(tài)可以包括基于一個(gè)軸測量開口的寬度并確定開口的寬度的中心、基于所述一個(gè)軸測量反射膜圖案的寬度并確定反射膜圖案的寬度的中心，以及確定開口的寬度的中心與反射膜圖案的寬度的中心是否相重合。為了通過更精確地確定寬度和中心來確定對準(zhǔn)狀態(tài)，確定開口和反射膜圖案的寬度和中心以確定對準(zhǔn)狀態(tài)可以基于所述一個(gè)軸和另一個(gè)軸被重復(fù)執(zhí)行。如果開口的中心不與反射膜圖案的中心相重合，則拉緊方法可以進(jìn)一步包括在確定對準(zhǔn)狀態(tài)之后，重復(fù)執(zhí)行以下步驟使用拉緊裝置基于非重合軸拉緊氣相沉積掩膜 (S130)、在拉緊裝置中對準(zhǔn)開口和反射膜圖案使得開口的中心和反射膜圖案的中心彼此相重合(S140)、獲得所獲得的反射光圖像，所述反射光圖像表示在拉緊之后氣相沉積掩膜的開口的中心和反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)(S150)，以及分析反射光圖像并且確定在拉緊之后開口和反射膜圖案被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)(S160)。雖然已經(jīng)參照其示例性實(shí)施例對示例實(shí)施例進(jìn)行具體示出和描述，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解的是，可以在其中對形式和細(xì)節(jié)上進(jìn)行各種改變，只要不偏離如所附權(quán)利要求書所限定的示例實(shí)施例的精神和范圍。因此，所期望的是，當(dāng)前實(shí)施例在所有方面均被認(rèn)為是示例性的而非限制性的，是對所附權(quán)利要求書而不是前述描述進(jìn)行參考以指出本發(fā)明的范圍。
權(quán)利要求
1.一種對準(zhǔn)主玻璃件，用于對準(zhǔn)氣相沉積掩膜的多個(gè)開口以拉緊所述氣相沉積掩膜， 該對準(zhǔn)主玻璃件包括透明基板；和位于所述透明基板的至少一個(gè)表面上的多個(gè)反射膜圖案，所述多個(gè)反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口相對應(yīng)的位置處。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對準(zhǔn)主玻璃件，其中所述多個(gè)反射膜圖案包括金屬材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的對準(zhǔn)主玻璃件，其中所述多個(gè)反射膜圖案包括鑰和鎢中至少之一 O
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的對準(zhǔn)主玻璃件，其中所述多個(gè)反射膜圖案比所述多個(gè)開口小。
5.一種用于制造對準(zhǔn)主玻璃件的方法，所述對準(zhǔn)主玻璃件用于拉緊具有用于沉積有機(jī)材料的多個(gè)開口的氣相沉積掩膜，所述方法包括提供透明基板；以及在所述透明基板的至少一個(gè)表面上形成多個(gè)反射膜圖案，使得所述多個(gè)反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口相對應(yīng)的位置處。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于制造對準(zhǔn)主玻璃件的方法，其中形成所述多個(gè)反射膜圖案包括形成由金屬材料制成的圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于制造對準(zhǔn)主玻璃件的方法，其中形成所述多個(gè)反射膜圖案包括形成由鑰和鎢中至少之一制成的圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于制造對準(zhǔn)主玻璃件的方法，其中形成所述多個(gè)反射膜圖案包括形成比所述多個(gè)開口小的所述多個(gè)反射膜圖案。
9.一種使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，該方法包括提供所述氣相沉積掩膜，所述氣相沉積掩膜具有用于沉積有機(jī)材料的多個(gè)開口 ；提供用于拉緊所述氣相沉積掩膜的所述對準(zhǔn)主玻璃件，所述對準(zhǔn)主玻璃件包括僅被形成在與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口相對應(yīng)的位置處的多個(gè)反射膜圖案；使用拉緊裝置拉緊所述氣相沉積掩膜；使得所述多個(gè)開口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心彼此相重合；獲得反射光圖像，該反射光圖像指示所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)；以及分析所述反射光圖像并且確定在拉緊之后所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口和所述多個(gè)反射膜圖案被對準(zhǔn)的所述對準(zhǔn)狀態(tài)，其中所述反射光圖像中的在對準(zhǔn)的多個(gè)開口和多個(gè)反射膜圖案之間的第一區(qū)域?qū)?yīng)于暗部分。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，進(jìn)一步包括 在所述多個(gè)開口的中心不與所述多個(gè)反射膜圖案的中心相重合時(shí)，基于所述氣相沉積掩膜的第一軸和第二軸重復(fù)執(zhí)行拉緊的步驟到分析的步驟。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中所述第一區(qū)域由對準(zhǔn)的多個(gè)開口的外邊界和相應(yīng)的多個(gè)反射膜圖案的外邊界之間的區(qū)域來限定。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中所述反射光圖像進(jìn)一步包括除了所述第一區(qū)域之外的第二區(qū)域，所述第二區(qū)域形成所述反射光圖像上的売部分。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中使得所述多個(gè)開口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心相重合包括基于第一軸測量所述多個(gè)開口的寬度并且確定所述多個(gè)開口的中心；基于第二軸測量所述多個(gè)反射膜圖案的寬度并且確定所述多個(gè)反射膜圖案的中心；以及移動所述氣相沉積掩膜或所述對準(zhǔn)主玻璃件以使得所述多個(gè)開口的寬度的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的寬度的中心彼此相重合。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中使得所述多個(gè)開口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心相重合進(jìn)一步包括基于所述第一軸和所述第二軸重復(fù)執(zhí)行測量的步驟到移動的步驟。
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中分析所述反射光圖像并且確定所述對準(zhǔn)狀態(tài)包括基于第一軸測量所述多個(gè)開口的寬度并且確定所述多個(gè)開口的寬度的中心；基于第二軸測量所述多個(gè)反射膜圖案的寬度并且確定所述多個(gè)反射膜圖案的寬度的中心；以及確定所述多個(gè)開口的寬度的中心與所述多個(gè)反射膜的寬度的中心是否相重合。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中分析所述反射光圖像并且確定所述對準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)一步包括基于所述第一軸和所述第二軸重復(fù)執(zhí)行測量的步驟到確定的步驟。
17.一種使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，所述方法包括通過將光照射到形成于所述氣相沉積掩膜中的多個(gè)開口中以及照射到形成于用于拉緊所述氣相沉積掩膜的所述對準(zhǔn)主玻璃件中的多個(gè)反射膜圖案中，獲得反射光圖像，所述反射光圖像表示所述多個(gè)開口的中心和所述多個(gè)反射膜圖案的中心被對準(zhǔn)的對準(zhǔn)狀態(tài)；分析所述反射光圖像；以及確定在拉緊之后所述多個(gè)開口和所述多個(gè)反射膜圖案被對準(zhǔn)的所述對準(zhǔn)狀態(tài)，其中所述反射光圖像具有被限定在對準(zhǔn)的多個(gè)開口的外邊界和相應(yīng)的多個(gè)反射膜圖案的外邊界之間的第一區(qū)域以及除了所述第一區(qū)域之外的第二區(qū)域，所述第一區(qū)域和所述第二區(qū)域形成所述反射光圖像上的相應(yīng)暗部分和相應(yīng)亮部分。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中所述多個(gè)反射膜圖案中的每個(gè)均比相應(yīng)的開口小。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中所述多個(gè)反射膜圖案由反射光的金屬材料制成。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的使用對準(zhǔn)主玻璃件拉緊氣相沉積掩膜的方法，其中所述多個(gè)反射膜圖案由鑰和鎢中至少之一制成。
全文摘要
本申請公開了一種對準(zhǔn)主玻璃件及其制造方法和拉緊氣相沉積掩膜的方法。一種用于對準(zhǔn)氣相沉積掩膜的多個(gè)開口以拉緊所述氣相沉積掩膜的對準(zhǔn)主玻璃件，該對準(zhǔn)主玻璃件包括透明基板和位于所述透明基板的至少一個(gè)表面上的反射膜圖案，所述反射膜圖案僅位于與所述氣相沉積掩膜的所述多個(gè)開口相對應(yīng)的位置處。
文檔編號C23C16/455GK102593377SQ20111039815
公開日2012年7月18日 申請日期2011年12月5日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月5日
發(fā)明者李相信 申請人:三星移動顯示器株式會社