專利名稱：用于連續(xù)真空涂布網(wǎng)幅式材料的系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及連續(xù)真空涂布可連續(xù)提供的網(wǎng)幅式材料(比如薄層(laminas)、膜或片材)的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
由于新產(chǎn)品的問世和用于獲得新產(chǎn)品的技術(shù)創(chuàng)新，塑料得到了重要的發(fā)展。這反過來使得這些產(chǎn)品改進(jìn)其性質(zhì)并延伸其應(yīng)用范圍。因此，在某些情況下，傳統(tǒng)材料比如玻璃甚至鋼已被塑料替代。 由于它們的結(jié)構(gòu)性質(zhì)，聚合材料通常在可塑性、變形性、重量、對氧化過程的保持性和穩(wěn)定性上比金屬有優(yōu)勢。即使如此，它們具有局限性，比如它們的硬度、抗磨損性、耐熱性和機(jī)械一至文性(mechanical consistency)。 —般用于補(bǔ)償這些缺陷的通常的方法是借助于不同類型的化學(xué)或物理處理的應(yīng)用而保護(hù)它們。這些方法是表面涂布方法，也稱為涂布。在某些情況下，借助于這些類型的處理，已實(shí)現(xiàn)出人意料的結(jié)果，能制造具有高機(jī)械性能的塑料。 通常在塑料上涂布的其他類型的涂層是通過PVD(物理汽相沉積)技術(shù)在真空條件下沉積的多層光學(xué)涂層。這些涂層更給予塑料特定的光學(xué)性質(zhì)。 無論它是否是聚合材料，對于薄層或網(wǎng)幅式材料的涂布存在幾種選擇。其中之一對應(yīng)于稱為空對空(air-to-air)的技術(shù)，其中材料從大氣壓通過預(yù)備真空室進(jìn)入沉積室，如文獻(xiàn)GB2084264所述。該技術(shù)的優(yōu)勢在于巻繞和松繞在大氣壓下進(jìn)行，但它的缺陷在于它只對金屬襯底情形下的硬材料有效。 更具體地，網(wǎng)幅式材料(即塑料膜、薄層、片材或網(wǎng)幅的情形)的涂布的另一技術(shù)描述于文獻(xiàn)W003/046251。根據(jù)該技術(shù)，巻繞和松繞室必須處于真空條件，因此系統(tǒng)的加載、卸載和穿過(threading)涉及打破真空。此外，它可以包括的沉積系統(tǒng)的數(shù)目非常有限。
已知處理塑料以改進(jìn)其表面性質(zhì)(特別是一些光學(xué)、化學(xué)和抗磨損性)的需求。如果對塑料進(jìn)行特殊處理，則可以改進(jìn)其他性質(zhì)，比如阻氧效果和抗?jié)裥?。這些涂布方法中許多借助于真空PVD技術(shù)進(jìn)行。在網(wǎng)幅式軟材料(比如聚合膜或薄層)上涂布這些涂層存在很多困難。這些困難之一源于需要在真空條件下進(jìn)行巻繞和松繞(W003/046251)。這意味著對膜的加載、卸載和穿過過程必須打破真空，損失后續(xù)的安裝效率，因?yàn)榇蚱普婵眨绕涫窃佾@得真空所需時(shí)間長。另一個(gè)缺陷由網(wǎng)幅式材料借助于輥和張力器(tensioner)滑動(dòng)和驅(qū)動(dòng)的事實(shí)造成。這意味著網(wǎng)幅式材料受到張力，所述張力造成變形問題。
另一個(gè)重要的事實(shí)是由于網(wǎng)幅式材料通過輥支持，進(jìn)行涂布的材料的長度受限，因而這樣的材料可以進(jìn)行的處理數(shù)目也受限。此外，這個(gè)問題在網(wǎng)幅式材料(比如聚合薄層材料)的情形下加劇，因?yàn)樵谀承┏练e過程(例如在濺射過程)中，塑料帶靜電。這種現(xiàn)象引起產(chǎn)生沿著與運(yùn)動(dòng)方向平行的方向移動(dòng)所述材料的力，這導(dǎo)致防止所述運(yùn)動(dòng)的張力增大。 用于在真空下涂布薄層材料或聚合膜的方法的另一缺陷在于其設(shè)計(jì)或構(gòu)造不允許沉積過程前后的處理，產(chǎn)生在真空條件下進(jìn)行這類處理的困難。 最后，當(dāng)沉積過程從網(wǎng)幅式材料的上部進(jìn)行時(shí)產(chǎn)生另一缺陷，因?yàn)槌练e過程的所有殘留物因重力落在待涂布的材料上，在涂層中引起缺陷，該缺陷嚴(yán)重影響產(chǎn)品品質(zhì)、生產(chǎn)質(zhì)量和生產(chǎn)過程盈利。 考慮上述所有問題，本發(fā)明公開了連續(xù)真空涂布網(wǎng)幅式材料的系統(tǒng)和方法，克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是能進(jìn)行大量處理的連續(xù)真空涂布可連續(xù)提供的網(wǎng)幅式材料的系
統(tǒng)。所述系統(tǒng)至少由下列部分組成 a)進(jìn)給構(gòu)件，其提供待涂布的網(wǎng)幅式材料； b)至少一個(gè)輸入室，其中引入待涂布的網(wǎng)幅式材料，且在其中進(jìn)行輸入大氣壓和相鄰?fù)坎际业恼婵諌毫χg的轉(zhuǎn)變； c)所述涂布室包括至少一個(gè)用于在網(wǎng)幅式材料上沉積金屬和/或介電組分的真空沉積模塊； d)至少一個(gè)輸出室，在其中進(jìn)行相鄰?fù)坎际业恼婵諌毫痛髿鈮褐g的轉(zhuǎn)變；禾口
e)收集構(gòu)件，其收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料。 為了解決現(xiàn)有技術(shù)的問題，本發(fā)明的系統(tǒng)的特征主要在于其還包含驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件，網(wǎng)幅式材料通過其一個(gè)表面固定在所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件上以運(yùn)輸，至少通過涂布室。
在本發(fā)明中，網(wǎng)幅式材料應(yīng)當(dāng)理解為可以連續(xù)供給所述系統(tǒng)的任何聚合或非聚合基材料。這指的是薄層、膜或片材，即，指的是借助于本發(fā)明描述的系統(tǒng)和方法處理的連續(xù)或非連續(xù)單元。因此，在本發(fā)明中，網(wǎng)幅式材料應(yīng)當(dāng)理解為適合于例如借助于進(jìn)給巻盤(feel reel)連續(xù)地供給涂布室的任何類型的紙張、織物、膜或薄層。顯然，當(dāng)網(wǎng)幅式材料由任何性質(zhì)的單獨(dú)片材組成時(shí)，應(yīng)理解提供了可以連續(xù)供給這些片材的構(gòu)件。
薄層可以定義為任何材料的薄網(wǎng)幅，如果它可被巻繞的話也稱為膜。在任何情況下，薄層材料、薄層或膜的表述的使用在本發(fā)明中沒有區(qū)別。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，用于真空涂布網(wǎng)幅式材料的系統(tǒng)包含驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件。網(wǎng)幅式材料連同這些構(gòu)件沿著豎直取向的直線路徑通過涂布室。 可選地，本發(fā)明的系統(tǒng)設(shè)置為使得驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件及網(wǎng)幅式材料沿著水平取向的直線路徑通過涂布室。 處于水平位置的本發(fā)明的系統(tǒng)的特征還在于真空沉積模塊位于網(wǎng)幅式材料的自由表面下方并與之相對。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，真空沉積模塊的位置使得涂布直接在網(wǎng)幅式材料上發(fā)生，并沿著與所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件的前進(jìn)運(yùn)動(dòng)方向垂直(因而和所述網(wǎng)幅式材料的方向垂直)的方向在所述網(wǎng)幅式材料上涂布。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述沉積模塊選自不同的沉積技術(shù)，即物理汽相沉積(PVD)技術(shù)沉積模塊、化學(xué)汽相沉積(CVD)技術(shù)沉積模塊、熱沉積模塊、電子槍沉積模塊、濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊和等離子體處理沉積模塊。 所述系統(tǒng)可包含多個(gè)相同類型或性質(zhì)的模塊，或者可選地，所述涂布室的沉積模
5塊可有幾個(gè)，且具有不同的性質(zhì)或類型。 優(yōu)選包含至少一個(gè)包括一個(gè)以上磁控管的濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊的系統(tǒng)。
本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件優(yōu)選由至少一個(gè)循環(huán)輸送帶形成，網(wǎng)幅式材料在所述輸送帶上涂布，所述網(wǎng)幅式材料連同所述輸送帶以整體的方式至少沿著涂布室向前移動(dòng)。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，所述循環(huán)輸送帶涂有聚合粘合劑薄層，網(wǎng)幅式材料借助于熱粘合過程可分離地涂布于所述薄層上。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征也在于所述聚合粘合劑薄層包含至少一種選自下列組
的化合物聚烯烴、EVA(乙烯_乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，所述系統(tǒng)具有用于牽引所述網(wǎng)幅式材料的機(jī)械牽引構(gòu)
件，設(shè)置于輸出室附近，適合于將已經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料與所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件分離。 本發(fā)明的系統(tǒng)的特征也在于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件涂有粘合劑表層，網(wǎng)幅式材料借
助于接觸過程和/或熱粘合過程可分離地固定于所述表層上。 使用在至少一個(gè)表面上已涂布了粘合劑且適合于直接固定于驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件的網(wǎng)幅式材料(比如膜)的系統(tǒng)也是本發(fā)明的目的。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的另一特征，所述進(jìn)給構(gòu)件由松繞裝置(imwindingdevice)形成；所述收集構(gòu)件由巻繞裝置形成。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述輸入室和輸出室包含多個(gè)具有多個(gè)真空泵的隔間。 根據(jù)本發(fā)明的另一方面，所述系統(tǒng)在進(jìn)給構(gòu)件與驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件之間；和在驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件與收集構(gòu)件之間包含張力控制構(gòu)件。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于它包含用于沉積涂層的光學(xué)控制構(gòu)件，它位于驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件的出口。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征也在于它包含至少一個(gè)在網(wǎng)幅式材料與驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件之間引起耦合(coupling)的壓力輥。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于它包含分別位于真空沉積模塊前或后的預(yù)處理和/或后處理站。 根據(jù)本發(fā)明的另 一 特征，所述預(yù)處理站由保護(hù)性薄層引出站(extractionstation)組成。 可選地，也根據(jù)本發(fā)明，所述預(yù)處理站由層疊涂布站組成。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述預(yù)處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護(hù)層的沉積站組成。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，所述系統(tǒng)包含后處理站，所述后處理站由用于借助于保護(hù)層和網(wǎng)幅式材料的粘合和/或通過熱熔粘接技術(shù)涂布保護(hù)層的涂布站組成。
可選地，所述后處理站由層疊涂布站組成。 可選地，所述系統(tǒng)包含后處理站，所述后處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護(hù)層的沉積站組成。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于所述網(wǎng)幅式材料為薄層、膜或片材的形式。
所述網(wǎng)幅式材料優(yōu)選為聚合膜。
本發(fā)明的另一目的是用于真空涂布網(wǎng)幅式材料的方法，所述方法包括涂布步驟， 其中進(jìn)行至少一個(gè)用于沉積金屬和/或介電組分的真空沉積操作；所述方法的特征在于在 所述涂布步驟中，網(wǎng)幅式材料沿著線性方向被驅(qū)動(dòng)并支持至真空沉積模塊，以沉積金屬和/ 或介電組分。 根據(jù)本發(fā)明的方法的特征在于，所述網(wǎng)幅式材料沿著線性方向被驅(qū)動(dòng)并支持至多
個(gè)用于將所述材料調(diào)節(jié)至工作壓力的構(gòu)件，從用于將所述材料調(diào)節(jié)至對其涂布最佳的真空
壓力的調(diào)節(jié)步驟，直到用于將所述網(wǎng)幅式材料恢復(fù)至大氣壓的合適的輸出步驟。 根據(jù)本發(fā)明的另一特征，用于真空涂布網(wǎng)幅式材料的方法還包括對所述網(wǎng)幅式材
料的預(yù)處理和/或后處理步驟。


通過非限制性實(shí)施例，附圖顯示本發(fā)明系統(tǒng)的實(shí)施方案。在所述附圖中
圖1是根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的示意性圖示，本發(fā)明的方法借助于所述系統(tǒng)進(jìn)行。
附圖詳述 如圖1所示，用于真空涂布連續(xù)或非連續(xù)的網(wǎng)幅式材料2(比如多個(gè)片材)(比如 膜、薄層、布、紙)的系統(tǒng)1包含進(jìn)給構(gòu)件3 ;輸入室4 ;包括多個(gè)真空沉積模塊6的涂布室 5 ;輸出室7 ;和收集構(gòu)件8。 進(jìn)給構(gòu)件3提供待涂布的網(wǎng)幅式材料2，在所示的情形中為膜或薄層形式的材料， 并且收集構(gòu)件8收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料22。所述進(jìn)給構(gòu)件3和所述收集構(gòu)件8分別由松 繞裝置31和巻繞裝置81形成。 輸入室4進(jìn)行輸入大氣壓和涂布室5的真空壓力之間的轉(zhuǎn)變，待涂布的網(wǎng)幅式材 料2引入輸入室4中。另外，輸出室7進(jìn)行涂布室5的真空壓力和經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料22 的輸出氣壓之間的轉(zhuǎn)變。所述輸入室4和所述輸出室7使用被稱為空對空的系統(tǒng)以調(diào)節(jié)工 作壓力。對稱的兩個(gè)室(4，7)具有多個(gè)隔間ll，隔間11具有多個(gè)真空泵12，其中工作壓力 的調(diào)節(jié)都在進(jìn)給和卸載下進(jìn)行，存在空氣，防止打破真空。通常，真空處理需要真空加載和 卸載室，使得系統(tǒng)的理想操作得以保證，在沉積室內(nèi)達(dá)到高真空。在此情況下，為了達(dá)到并 調(diào)節(jié)涂布室5需要的真空，使用具有不同的泵容量和真空容量的泵(例如，高空氣泵容量和 低真空泵，和高真空容量泵；在它們之間存在其他中間泵)，使得借助于中等真空泵或低真 空泵(主要是機(jī)械泵、旋轉(zhuǎn)泵和羅茨泵(Roots pump)，和高真空泵(比如擴(kuò)散泵、渦輪分子 泵或低溫泵)逐漸達(dá)到真空。 涂布室5的真空沉積模塊6在待涂布的網(wǎng)幅式材料2上進(jìn)行金屬和介電組分的真 空沉積。用于所述沉積的不同技術(shù)是物理汽相沉積，稱為PVD ;熱沉積；借助于電子槍進(jìn)行 的沉積；濺射或離子注入；化學(xué)汽相沉積，稱為CVD，或等離子體處理。也可使用幾個(gè)濺射 室，它們中的每一個(gè)包括幾個(gè)磁控管。許多其他技術(shù)也可使用并適用于實(shí)現(xiàn)所需材料的沉 積。 所述系統(tǒng)1還包含驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9，其用于提供在涂布室5中待涂布的網(wǎng)幅式材 料2，例如連續(xù)的聚合材料薄層形式的材料。所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9設(shè)置為使得所述網(wǎng)幅式 材料2至少在通過涂布室5時(shí)沿著直線路徑，所述網(wǎng)幅式材料2通過它的一個(gè)表面固定于 所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9上以運(yùn)輸。
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由圖1推斷，涂布室5的真空沉積模塊6位于網(wǎng)幅式材料2下方并和它的不與驅(qū)
動(dòng)和支持構(gòu)件9接觸的自由或裸露表面相對。這種類型的分布便于進(jìn)行真空涂布聚合或非
聚合的網(wǎng)幅式材料2的方法，所述方法可連續(xù)工作可進(jìn)行多次處理。在所示的情形中，網(wǎng)幅
式材料2在輸入室4的入口固定于驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9，并在輸出室7的出口引出。 在圖1所示的系統(tǒng)1中，真空沉積模塊6的位置使得涂布直接在網(wǎng)幅式材料2上
進(jìn)行，并沿著與驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9的向前移動(dòng)方向垂直的方向涂布于其上。通過這種類型
的構(gòu)造，有利地防止了沉積過程的可能的殘留物因重力而落在待涂布的網(wǎng)幅式材料2上，
引起涂層的不均勻，顯著影響產(chǎn)品的品質(zhì)和總的涂布方法的盈利和效率。 所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9由循環(huán)輸送帶91形成，網(wǎng)幅式材料2涂布在所述輸送帶
上。這個(gè)循環(huán)輸送帶91是金屬的，主要由鋼或鋁制成，借助于兩個(gè)輥(92,93)驅(qū)動(dòng)，其中之
一是驅(qū)動(dòng)輥，它包括導(dǎo)向機(jī)構(gòu)以防止循環(huán)輸送帶91的側(cè)向位移。至少在涂布室5內(nèi)，待涂
布的網(wǎng)幅式材料2連同所述循環(huán)輸送帶91以整體的方式向前移動(dòng)。根據(jù)其他可能的變化，
所述輸送帶是彈性的或由聚合材料與無機(jī)產(chǎn)品的組合形成，符合適合用作輸送帶表面的機(jī)
械性質(zhì)和厚度。 在一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施方案中，循環(huán)輸送帶91涂有聚合粘合劑膜(未顯示)，網(wǎng)幅式材 料2借助于熱粘合過程可分離地固定于其上。所述聚合粘合劑薄層包含選自下列組的聚烯 烴化合物EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)或聚己烯。另外，它也按下列方式提供它是包含其他 化合物(比如選自下列組的化合物聚氨酯、PVB、丙烯酸或TPU)的聚合粘合劑薄層。用于 將網(wǎng)幅式材料2固定于聚合粘合劑薄層的熱粘合過程可借助于加熱系統(tǒng)在3(TC和13(TC之 間通過預(yù)熱所述聚合粘合劑薄層92進(jìn)行。作為整體，提供壓力輥15，在網(wǎng)幅式材料2與驅(qū) 動(dòng)和支持構(gòu)件9之間引起耦合。 達(dá)到的溫度和施加的壓力必須適合于保證網(wǎng)幅式材料2在涂布室5中的沉積過程
期間粘合，但同時(shí)適合于在真空涂布過程結(jié)束后通過機(jī)械牽引將其分離。 在根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)1中，優(yōu)選在驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9中提供冷卻系統(tǒng)，位于涂布室
5內(nèi)部，防止網(wǎng)幅式材料2的溫度過度增大。所述冷卻系統(tǒng)由冷卻水傳導(dǎo)系統(tǒng)組成，所述系
統(tǒng)與循環(huán)輸送帶91接觸或接近，從而它們通過輻射和/或傳導(dǎo)交換熱量。此外，它們可以
包括用于借助于電接地并和循環(huán)輸送帶91接觸的輥除去驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9中的靜電的系統(tǒng)。 除了至少能進(jìn)行涂布步驟外，所述系統(tǒng)可包括子系統(tǒng)或站，其中進(jìn)行對網(wǎng)幅式材 料2和對涂布的膜或軟材料22的預(yù)處理和后處理步驟。因此，在預(yù)處理步驟中可借助于層 疊過程(幾個(gè)膜粘合以改進(jìn)其性質(zhì)，或借助于通過噴涂或輥技術(shù)的其他材料的表面處理過 程)除去為了該目的而設(shè)置于網(wǎng)幅式材料2中的保護(hù)性薄層。可選地，在后處理步驟中，可 通過粘合或熱熔粘接技術(shù)(hotmelt technique),以及通過噴涂或輥式技術(shù)在涂布的軟材 料22上層疊或沉積保護(hù)層而放置保護(hù)性薄層。 在未顯示的另一個(gè)方案中，所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9涂有粘合劑表層(未顯示)，所 選的網(wǎng)幅式材料2借助于接觸過程或熱粘合過程固定于其上。 在也未顯示的另一個(gè)方案中，在此情形下可兩面都具有粘合性(通過接觸或溫 度)的網(wǎng)幅式材料2在它的一個(gè)表面上涂布了粘合劑以直接固定于驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9，且在 另一個(gè)表面上涂布了粘合劑以便于待沉積的材料的固定。
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此外，為了一直控制網(wǎng)幅式材料2的張力，系統(tǒng)1在進(jìn)給構(gòu)件3與驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件 9之間；且在驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9與收集構(gòu)件8之間具有張力控制構(gòu)件13。
網(wǎng)幅式材料2的涂層品質(zhì)的控制在系統(tǒng)1中借助于光學(xué)控制構(gòu)件14進(jìn)行，該光學(xué) 控制構(gòu)件14用于控制沉積的涂層，設(shè)置于驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9的出口 。 關(guān)于系統(tǒng)1的工作順序或過程，必須提到用于網(wǎng)幅式材料2的真空涂布的方法包 括下列步驟-進(jìn)給步驟，借助于進(jìn)給構(gòu)件3，用于提供用于被處理的網(wǎng)幅式材料2 ; _調(diào)節(jié)步驟100，其中網(wǎng)幅式材料2達(dá)到的初始大氣壓逐漸變?yōu)閷ζ渫坎甲罴训恼?br> 空壓力；-涂布步驟101，借助于多個(gè)用于沉積金屬和介電組分的真空沉積操作進(jìn)行網(wǎng)幅 式材料2的涂布；-輸出步驟102，進(jìn)行和調(diào)節(jié)步驟IOO相反的過程，即，逐漸將網(wǎng)幅式材料2的真空 壓力變?yōu)榻?jīng)涂布的薄層材料22的輸出氣壓；禾口
-收集步驟，收集和儲存經(jīng)涂布的軟材料22。 顯著地，在涂布步驟101中，網(wǎng)幅式材料2沿著線性方向被驅(qū)動(dòng)并支持至真空沉積 模塊6以沉積金屬和介電組分。具體地，沉積的方向垂直于網(wǎng)幅式材料2在系統(tǒng)1中的向 前移動(dòng)方向，并沿著由下(真空沉積模塊6所處的位置)到上(固定于驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9 的薄層材料2所處的位置)的方向。 如上所述，能在所述方法中包括對軟材料(2， 22)的預(yù)處理和后處理特別重要。在 這些步驟中，所述可能性預(yù)計(jì)在于在薄層材料2中沉積金屬或介電組分之前將添加劑層 疊或加入薄層材料2中；或用任何有益的組合物噴涂經(jīng)涂布的軟材料22，所述組合物例如 用于保護(hù)其中沉積了金屬組分的所述材料22。 特別優(yōu)選能和前述空對空技術(shù)一起工作，因?yàn)樗阌谑惯@些預(yù)處理和后處理步驟 或處理站可以像通過金屬和/或介電組分的真空沉積的涂布步驟(101)那樣連續(xù)進(jìn)行，因 此不妨礙所述方法的任何步驟，使之更完整并提升其效率。 如果網(wǎng)幅式材料2由多個(gè)非連續(xù)的片材或薄層組成，則提供構(gòu)件使得它們可以連 續(xù)地供給系統(tǒng)，特別是在涂布室5中。因此，可以考慮設(shè)置于適合被巻繞的連續(xù)膜上的多個(gè) 獨(dú)立且可分離的片材，或用于分配所述連續(xù)引入涂布室5的獨(dú)立的片材單元的構(gòu)件。
已充分描述了用于網(wǎng)幅式材料2的真空涂布的系統(tǒng)1和方法，顯然關(guān)于預(yù)處理或 后處理站的數(shù)量或種類，沉積模塊6、進(jìn)給構(gòu)件3和收集構(gòu)件8、驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件9的數(shù)量或 種類的任何改變也成為本發(fā)明目的的一部分。
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權(quán)利要求
用于連續(xù)真空涂布并連續(xù)提供網(wǎng)幅式材料(2)的系統(tǒng)(1)，其包含a)進(jìn)給構(gòu)件(3)，其提供待涂布的網(wǎng)幅式材料；b)至少一個(gè)輸入室(4)，其中引入待涂布的網(wǎng)幅式材料，且在其中進(jìn)行輸入大氣壓和涂布室(5)的真空壓力之間的轉(zhuǎn)變；c)所述涂布室包括至少一個(gè)用于在網(wǎng)幅式材料上沉積金屬和/或介電組分的真空沉積模塊(6)；d)至少一個(gè)輸出室(7)，在其中進(jìn)行涂布室的真空壓力和大氣壓之間的轉(zhuǎn)變；和e)收集構(gòu)件(8)，其收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料；其特征在于，所述系統(tǒng)還包含驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)，網(wǎng)幅式材料通過其一個(gè)表面固定在所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件上以運(yùn)輸，至少通過涂布室。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的用于真空涂布的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)及網(wǎng)幅式材料(2)在沉積室中沿著豎直取向的直線路徑。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1的用于真空涂布的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)及網(wǎng)幅式材料(2)在沉積室中沿著水平取向的直線路徑。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3的系統(tǒng)(1)，其特征在于所述真空沉積模塊(6)位于網(wǎng)幅式材料(2)的裸露表面下方并與之相對。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述真空沉積模塊(6)的位置使得涂布直接在網(wǎng)幅式材料(2)上發(fā)生，并沿著和所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)的前進(jìn)運(yùn)動(dòng)方向相垂直的方向在所述網(wǎng)幅式材料(2)上涂布，因而和所述網(wǎng)幅式材料的方向垂直。
6. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述沉積模塊(6)獨(dú)立地選自物理汽相沉積(PVD)技術(shù)沉積模塊、化學(xué)汽相沉積(CVD)技術(shù)沉積模塊、熱沉積模塊、電子槍沉積模塊、濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊和等離子體處理沉積模塊。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1到6任一項(xiàng)的系統(tǒng)(1)，其特征在于其包含多個(gè)相同類型的沉積模塊(6)。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1到6任一項(xiàng)的系統(tǒng)(1)，其特征在于其包含多個(gè)不同性質(zhì)的沉積模塊(6)。
9. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含至少一個(gè)包括一個(gè)以上磁控管的濺射或離子注入技術(shù)沉積模塊(6)。
10. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)由至少一個(gè)循環(huán)輸送帶(91)形成，所述網(wǎng)幅式材料(2)涂布在所述循環(huán)輸送帶(91)上，且所述網(wǎng)幅式材料連同所述循環(huán)輸送帶(91)至少沿著涂布室(5)向前移動(dòng)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10的系統(tǒng)(1)，其特征在于所述循環(huán)輸送帶(91)涂有聚合粘合劑薄層，借助于熱粘合過程，所述網(wǎng)幅式材料可分離地固定于所述薄層上。
12. 根據(jù)權(quán)利要求ll的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述聚合粘合劑薄層包含至少一種下述化合物聚烯烴、EVA(乙烯-乙酸乙烯酯)、聚氨酯、PVB、或丙烯酸或其共聚物。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于其具有用于牽引所述網(wǎng)幅式材料的機(jī)械牽引構(gòu)件(IO)，該構(gòu)件設(shè)置于輸出室(7)附近，適合于將已經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料(22)與所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)分離。
14. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)涂有粘合劑表層，所述網(wǎng)幅式材料(2)借助于接觸過程和/或熱粘合過程可分離地固定于所述表層上。
15. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述網(wǎng)幅式材料(2)的至少一個(gè)表面上涂有粘合劑并適合于直接固定于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)。
16. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述進(jìn)給構(gòu)件(3)由松繞裝置(31)形成；所述收集構(gòu)件(8)由巻繞裝置(81)形成。
17. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述輸入室(4)和所述輸出室(7)包含多個(gè)隔間(ll)，所述隔間(11)具有多個(gè)真空泵(12)。
18. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于其在進(jìn)給構(gòu)件(3)與驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)之間，和在驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件與收集構(gòu)件(8)之間包含張力控制構(gòu)件(13)。
19. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含設(shè)置于所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)的出口的光學(xué)控制構(gòu)件(14)，用于控制沉積的涂層。
20. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含至少一個(gè)壓力輥(15)，所述壓力輥(15)在網(wǎng)幅式材料(2)與所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)之間引起耦合。
21. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于其包含分別位于所述真空沉積模塊(6)前或后的預(yù)處理站和/或后處理站。
22. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述預(yù)處理站由保護(hù)性薄層引出站組成。
23. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述預(yù)處理站由層疊涂布站組成。
24. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(1)，其中所述預(yù)處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護(hù)層的沉積站組成。
25. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述后處理站由用于借助于保護(hù)層和薄層材料(22)的粘合和/或通過熱熔粘接技術(shù)涂布保護(hù)層的涂布站組成。
26. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(l)，其中所述后處理站由層疊涂布站組成。
27. 根據(jù)權(quán)利要求21的系統(tǒng)(1)，其中所述后處理站由用于通過噴涂和/或輥技術(shù)沉積保護(hù)層的沉積站組成。
28. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述網(wǎng)幅式材料(2)為薄層、膜或片的形式。
29. 根據(jù)前述權(quán)利要求任一項(xiàng)的系統(tǒng)(l)，其特征在于所述網(wǎng)幅式材料(2)是聚合膜。
30. 用于真空涂布網(wǎng)幅式材料(2)的方法，其包括涂布步驟(101)，其中進(jìn)行至少一個(gè)用于沉積金屬組分的真空沉積操作；其特征在于，在所述涂布步驟中，所述網(wǎng)幅式材料沿著線性方向被驅(qū)動(dòng)并支持至真空沉積模塊(6)，以沉積金屬和/或介電組分。
31. 根據(jù)前述權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述網(wǎng)幅式材料(2)沿著線性方向被驅(qū)動(dòng)并支持至多個(gè)用于將網(wǎng)幅式材料調(diào)節(jié)至工作壓力的構(gòu)件，從用于將網(wǎng)幅式材料調(diào)節(jié)至對其涂布最佳的真空壓力的調(diào)節(jié)步驟(ioo)，直到用于將網(wǎng)幅式材料恢復(fù)至通常的大氣壓的合適的輸出步驟(102)。
32. 根據(jù)權(quán)利要求30到31任一項(xiàng)的用于真空涂布網(wǎng)幅式材料(2)的方法，其特征在于其還包括對網(wǎng)幅式材料(2， 22)的預(yù)處理步驟和/或后處理步驟。
全文摘要
本申請公開了用于連續(xù)真空涂布可連續(xù)提供的網(wǎng)幅式材料(2)的系統(tǒng)(1)，該系統(tǒng)具有進(jìn)給構(gòu)件；至少一個(gè)輸入室(4)，在其中進(jìn)行輸入大氣壓和涂布室(5)的真空壓力之間的轉(zhuǎn)變，涂布室(5)包括至少一個(gè)用于在網(wǎng)幅式材料上沉積金屬和/或介電組分的真空沉積模塊(6)；至少一個(gè)輸出室(7)；和收集經(jīng)涂布的網(wǎng)幅式材料的收集構(gòu)件(8)。所述系統(tǒng)還包含驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件(9)，網(wǎng)幅式材料通過其一個(gè)表面固定在所述驅(qū)動(dòng)和支持構(gòu)件上以運(yùn)輸，所述材料至少在通過涂布室時(shí)優(yōu)選沿著直線路徑。
文檔編號C23C14/56GK101778963SQ200880102767
公開日2010年7月14日 申請日期2008年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月20日
發(fā)明者F·比柳恩達(dá)斯尤斯特, G·伊達(dá)爾戈利納斯, I·薩利納斯阿里斯, R·阿隆索埃斯特萬 申請人:諾沃熱尼奧公司