專利名稱：一種陶瓷磚拋光方法
技術領域：
本發(fā)明屬于陶瓷磚表面加工技術領域，具體涉及一種陶瓷磚拋光方法。
技術背景常規(guī)的釉質(zhì)陶瓷磚表面拋光方法，是采用高速旋轉(zhuǎn)的磨輪和冷卻液(通常 為水)配合，在一定壓力下對陶瓷磚釉面進行研磨拋光。然而，目前市場上對釉面陶瓷磚的表面提出了更高的品質(zhì)需求，要求光澤度要達到90以上，而傳統(tǒng) 的拋光方法是達不到上述要求的。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種陶瓷磚拋光方法，使拋光后的陶瓷磚表面光澤 度達到90以上。為達到上述目的，本發(fā)明采用如下技術方案 一種陶瓷磚拋光方法，采用 拋光液和磨輪配合對陶瓷磚釉面進行研磨拋光，所述拋光液含有氧化鈰。進一步，所述氧化鈰需均勻懸浮于拋光液液面上。由于氧化鈰不溶于水和 堿，可通過攪拌使氧化鈰均勻懸浮于拋光液液面。進一步，所述氧化鈰在拋光液的重量百分比為5~40%。 進一步，所述氧化鈰的粒度為80 170目。 進一步，適用于本發(fā)明的陶瓷磚的釉面硬度為5 8莫氏硬度。 作為優(yōu)選，拋光過程中磨輪的轉(zhuǎn)速為2000 ~ 3000轉(zhuǎn)/分，磨輪施加于陶瓷磚 釉面的工作壓力為l~4kg/cm2。本發(fā)明利用氧化鈰在陶瓷磚拋光過程中具有機械摩擦和化學分解的雙重作 用，從而達到快速拋光且能使釉面陶瓷磚的表面拋光至光澤度90以上；而且含 有氧化鈰的拋光液能循環(huán)使用，使用壽命長，不污染環(huán)境，易于從沾著物上除去。


圖l是本發(fā)明的工作原理圖；圖2是圖1的A部放大圖?，F(xiàn)結合附圖和實施例對本發(fā)明作進一步說明具體實施方式
由于氧化鈰不溶于水，因此在攪拌裝置中按氧化鈰的重量百分比為5~40% 的比例調(diào)配好拋光液并充分攪拌使氧化鈰均勻懸浮于水面上，氧化鈰的粒度為 80-170目。如圖1所示，陶瓷磚拋光時，陶瓷磚在傳送帶，速度為2~8米/分的 運送；由泵將拋光液2輸送至各磨輪管路，并直接覆于陶瓷磚3的釉質(zhì)表面。 轉(zhuǎn)速為2000-3000轉(zhuǎn)/分的磨輪1以l-4kg/cr^的壓力工作于陶瓷磚釉質(zhì)表面， 拋光液中的氧化鈰顆粒充分融入松軟的磨輪和陶瓷磚釉質(zhì)表面之間，產(chǎn)生機械 摩擦和化學分解作用，從而達到快速研磨拋光，實現(xiàn)光澤度90以上的高品質(zhì)陶 瓷磚釉拋；而且，拋光液在在陶瓷磚釉質(zhì)表面流動，能帶走大量的切削熱量。本發(fā)明適用于陶瓷磚的釉面硬度為5~8莫氏硬度的研磨拋光。權利要求
1、一種陶瓷磚拋光方法，采用拋光液和磨輪配合對陶瓷磚釉面進行研磨拋光，其特征在于，所述拋光液含有氧化鈰。
2、 根據(jù)權利要求1所述的一種陶瓷磚拋光方法，其特征在于，所述氧化鈰 懸浮于拋光液液面上。
3、 根據(jù)權利要求2所述的一種陶瓷磚拋光方法，其特征在于，所述氧化鈰 在拋光液的重量百分比為5 40%。
4、 根據(jù)權利要求3所述的一種陶瓷磚拋光方法，其特征在于，所述氧化鈰 的粒度為80-170目。
5、 根據(jù)權利要求2或3或4所述的一種陶瓷磚拋光方法，其特征在于，所 述陶瓷磚的釉面硬度為5~8莫氏硬度。
6、 根據(jù)權利要求2或3或4所述的一種陶瓷磚拋光方法，其特征在于，所 述磨輪的轉(zhuǎn)速為2000 -3000轉(zhuǎn)/分，磨輪施加于陶瓷磚釉面的工作壓力為 卜4kg/cm2。
7、 根據(jù)權利要求5所述的嚴重陶瓷磚拋光方法，其特征在于，所述磨輪的 轉(zhuǎn)速為2000~3000轉(zhuǎn)/分，磨輪施加于陶瓷磚釉面的工作壓力為l~4kg/cm2。
全文摘要
本發(fā)明屬于陶瓷磚表面加工技術領域，公開了一種陶瓷磚拋光方法。所述方法是采用拋光液和磨輪配合對陶瓷磚釉面進行研磨拋光，所述拋光液含有氧化鈰。本發(fā)明利用氧化鈰在陶瓷磚拋光過程中具有機械摩擦和化學分解的雙重作用，從而達到快速拋光且能使釉面陶瓷磚的表面拋光至光澤度90以上；而且含有氧化鈰的拋光液能循環(huán)使用，使用壽命長，不污染環(huán)境，易于從沾著物上除去。
文檔編號B24B29/00GK101648360SQ20081003019
公開日2010年2月17日 申請日期2008年8月15日 優(yōu)先權日2008年8月15日
發(fā)明者丘兆才, 沈慧萍 申請人:廣東科達機電股份有限公司