專利名稱：高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及的是一種高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，尤指一種具可量產(chǎn)化的卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，在其具有可增加濺鍍腔體結(jié)構(gòu)，既有效控制被鍍物的張力，并提供在真空狀態(tài)下對可繞性PET、PVC、CPP基板及織品實(shí)施濺鍍，得以達(dá)到最佳鍍膜效果與鍍膜質(zhì)量的目的。
背景技術(shù)：
真空濺鍍過程是提供基板或是紡織品等基材實(shí)施真空濺鍍(sputter)，其是通過靶材原子變成離子后直接鍍在基材上，形成膜質(zhì)致密的連續(xù)膜，而傳統(tǒng)技術(shù)上在實(shí)施濺鍍時基材為呈固定材積實(shí)施鍍膜作業(yè)，其鍍膜方式受到設(shè)備限制，無法大量對基板及織品實(shí)施量產(chǎn)化的制造，在此設(shè)備的局限下，針對這類基板或是紡織品的濺鍍實(shí)施上有其進(jìn)步必要性。
本實(shí)用新型提出一種卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，利用將被鍍素材以卷送方式實(shí)施鍍膜及完成后亦采卷收方式卷收成捆，達(dá)到一貫化作業(yè)并提升生產(chǎn)能力。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的主要目的是提供一種高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，通過在真空腔體中將卷式被鍍素材表面實(shí)施金屬鍍膜，由進(jìn)料、鍍膜至卷收均連續(xù)作業(yè)，實(shí)現(xiàn)可大量生產(chǎn)的機(jī)構(gòu)。
本實(shí)用新型的次一目的是提供一種將織品類或可繞性基板等被鍍素材以卷式方式進(jìn)行真空濺鍍，在真空腔體上輔以角度偵測感知控制被鍍素材輸送與卷收時的傾斜角度、水平度以控制轉(zhuǎn)速，提供被鍍素材展開張力固定，使鍍附物均勻鍍附金屬層，以提高鍍膜品質(zhì)。
本實(shí)用新型的另一目的是提供一種具有至少一組以上的濺鍍裝置，供被鍍素材具有單面或是雙面的鍍膜層，且表面鍍膜層為至少一層以上。
為實(shí)現(xiàn)此目的本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是提供一種高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，主要包含有兩真空腔體及至少一組以上的濺鍍裝置所構(gòu)成；其中，真空腔體是以腔室及一蓋體所構(gòu)成，腔室內(nèi)部設(shè)置有卷布軸、傳動軸、滾軸、校正滾動條及張力控制滾動條等帶動及輸送被鍍素材的機(jī)傋構(gòu)，兩真空腔體內(nèi)部皆設(shè)有卷布軸，該卷布軸是將被鍍素材固定設(shè)置，被鍍素材為成卷繞設(shè)在卷布軸，被鍍素材是分別繞經(jīng)傳動軸、滾軸、校正滾動條、張力控制滾動條，并進(jìn)入濺鍍裝置內(nèi)進(jìn)行濺鍍作業(yè)，以提供被鍍素材具有單面或是雙面的鍍膜層，經(jīng)過高壓放電濺鍍的被鍍素材再經(jīng)張力控制滾動條、校正滾動條的中心校正、整平后將完成鍍附薄膜的被鍍素材卷收成卷。
本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于，易于實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)，使鍍附物均勻鍍附金屬層，提高鍍膜品質(zhì)。
以下結(jié)合附圖，對本新型上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說明。


圖1為本實(shí)用新型的外觀立體圖；圖2為本實(shí)用新型由另一角度視得的外觀立體圖；圖3為本實(shí)用新型真空腔體內(nèi)部結(jié)構(gòu)立體圖；圖4為本實(shí)用新型另一真空腔體內(nèi)部結(jié)構(gòu)立體圖；圖5為本實(shí)用新型卷式鍍膜制造流程示意圖；圖6為本實(shí)用新型張力調(diào)整裝置示意圖；圖7為本實(shí)用新型張力調(diào)整裝置在控制中的角度變化狀態(tài)示意圖；圖8為本實(shí)用新型以兩組以上的濺鍍裝置組成狀態(tài)示意圖。
附圖符號說明1、1‘-真空腔體；11、11‘-腔室；12、12‘-蓋體；2-卷布軸；21-齒輪；22-壓板；3-齒軌；4-加熱器；5-冷卻裝置；6-濺鍍裝置；61-濺鍍腔；62-滾軸；7-張力控制裝置；71-配重塊；72-油壓缸；8-被鍍素材；10-傳動軸；20-滾動條；30、40-校正滾動條；50-張力控制滾動條。
具體實(shí)施方式
請參閱圖1、圖2和圖5所示，本實(shí)用新型的高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)主要包含有由真空腔體1、1‘及至少一組以上的濺鍍裝置6所構(gòu)成，其中該真空腔體1、1‘具有一腔室11、11‘及一蓋體12、12‘所構(gòu)成，腔室11、11‘內(nèi)部設(shè)置有卷布軸2、傳動軸10、滾軸20、校正滾動條30及張力控制滾動條50等帶動及輸送被鍍素材8的機(jī)構(gòu)，每一真空腔體1、1‘內(nèi)部皆設(shè)有卷布軸2，該卷布軸2是將被鍍素材8固定，被鍍素材8為成卷繞設(shè)在卷布軸2，在卷布軸2兩端設(shè)置有齒輪21，其與設(shè)在腔室11、11‘內(nèi)壁上的齒軌3呈嚙合對接，該齒軌3呈傾斜狀設(shè)置，使卷布軸2可因應(yīng)所卷繞被鍍素材8的卷徑大小自動調(diào)整位置，使卷布軸2得保持貼近在傳動軸10，而位于齒軌3傾斜末端處設(shè)置有壓板22，此壓板22是作為防止被鍍素材8輸送至沒料時的張力過大，導(dǎo)致將齒輪21拉離正常與齒軌3嚙合位置。
當(dāng)尚未完成鍍膜的被鍍素材8被設(shè)在真空腔體1內(nèi)的卷布軸2固定后，該被鍍素材8是分別繞經(jīng)傳動軸10、滾軸20、校正滾動條30、張力控制滾動條50，在校正滾動條30至張力控制滾動條50之間設(shè)置有可控溫的加熱器4，該加熱器4采漸進(jìn)式加熱，通過以加速蒸發(fā)被鍍物上的殘留，而影響內(nèi)部真空壓力的抽氣速率與濺鍍質(zhì)量。
在真空腔體1內(nèi)的被鍍素材8經(jīng)過張力控制滾動條50及校正滾動條40便進(jìn)入濺鍍裝置6內(nèi)進(jìn)行濺鍍作業(yè)，該濺鍍裝置6是在2～40mtorr工作壓力下通入特定氣體，通過電子與氣體碰撞產(chǎn)生正離子，在電場的作用下高速轟擊陰極靶，使原子分子或原子濺出而鍍附在被鍍素材8表面形成致密鍍膜。而濺鍍裝置6是可提供被鍍素材8具有單面或是雙面的鍍膜層，且表面鍍膜層可以為至少一層以上的多層鍍膜層，該濺鍍裝置6可依照圖8所示以一組以上的濺鍍裝置6構(gòu)成，以模塊化方式提供被鍍素材8表面具有至少一層以上的鍍膜層。而在經(jīng)過高壓放電鍍附有薄膜的被鍍素材8在卷收之前，必須經(jīng)由冷卻裝置5以攝氏-10℃～22℃加以冷卻，以利后續(xù)的卷收作業(yè)。
關(guān)在被鍍素材8在卷送中張力的控制結(jié)構(gòu)請參閱圖2至圖6所示，位在兩真空腔體1、1‘內(nèi)部設(shè)有卷布軸2，當(dāng)卷繞被鍍素材8直徑越大時，該卷布軸2設(shè)置位置為沿著齒軌3而移動，因此在真空腔體1內(nèi)卷布軸2所卷繞的被鍍素材8是未鍍附有任何薄膜，故當(dāng)被鍍素材8持續(xù)被輸送濺鍍作業(yè)時，卷布軸2則逐漸朝齒軌3傾斜末端移動；而位在真空腔體1‘內(nèi)的卷布軸2則持續(xù)卷繞有鍍附薄膜的被鍍素材8，由在卷布軸2卷繞直徑增大，該卷布軸2朝齒軌3傾斜頂端方向移動。
在真空腔體1、1‘及濺鍍腔61內(nèi)數(shù)個傳動被鍍素材8的軸體，其中校正滾動條30、40是可為一般軸徑或?yàn)楫悘捷S，通過校正滾動條30、40在輸送被鍍素材8時，得左右傾斜達(dá)到中心校正被鍍素材8。
另外，如圖5至圖8，被鍍素材8的張力調(diào)整控制是利用設(shè)在兩腔室11、11‘內(nèi)的張力控制滾動條50，并搭配張力控制裝置7達(dá)到使被鍍素材8基材張力固定，其中張力控制滾動條50以搖擺方式經(jīng)由角度感知器作訊號回饋，以控制放料軸心卷布軸2的轉(zhuǎn)速；而控制張力控制滾動條50的張力控制裝置7以油壓缸72及配重塊71實(shí)施張力控制滾動條50位置的調(diào)整，以保持被鍍素材8在穩(wěn)定轉(zhuǎn)速下達(dá)到固定張力的輸送模式，進(jìn)而使得在濺鍍裝置6中的鍍膜效果穩(wěn)定且質(zhì)量好。
以上說明對本新型而言只是說明性的，而非限制性的，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解，在不脫離以下所附權(quán)利要求所限定的精神和范圍的情況下，可做出許多修改，變化，或等效。
權(quán)利要求1.一種高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，其特征在于，該機(jī)構(gòu)是由兩真空腔體及至少一組以上的濺鍍裝置所組成；其中，真空腔體是由腔室及一蓋體所構(gòu)成，設(shè)置有用于固定被鍍素材的卷布軸，用來傳導(dǎo)繞性素材運(yùn)動的傳動軸和滾軸，以及校正滾動條，張力滾動條；兩真空腔體之間設(shè)置進(jìn)行濺鍍作業(yè)的濺鍍裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述卷布軸兩端設(shè)置有齒輪，其與設(shè)在腔室內(nèi)壁上的齒軌呈嚙合對接，所述卷布軸因應(yīng)所卷繞被鍍素材的卷徑大小而在齒軌上調(diào)整移動設(shè)置位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述校正滾動條至張力控制滾動條之間設(shè)置有加熱器。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，其特征在于，在所述的的濺鍍裝置與用于卷收的真空腔之間設(shè)有冷卻裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述濺鍍裝置是以一組以上的，利用模塊化方式提供被鍍素材表面具有至少一層以上的鍍膜層的濺鍍裝置構(gòu)成。
專利摘要一種高真空卷式鍍膜機(jī)構(gòu)，主要包含有兩真空腔體及至少一組以上的濺鍍裝置所構(gòu)成，其中真空腔體是以腔室及一蓋體所構(gòu)成，腔室內(nèi)部設(shè)置有卷布軸、傳動軸、滾軸、校正滾動條及張力控制滾動條等帶動及輸送被鍍素材的機(jī)傋，兩真空腔體內(nèi)部皆設(shè)有卷布軸，該卷布軸是將被鍍素材固定設(shè)置，被鍍素材為成卷繞設(shè)在卷布軸，被鍍素材是分別繞經(jīng)傳動軸、滾軸、校正滾動條、張力控制滾動條，并進(jìn)入濺鍍裝置內(nèi)進(jìn)行濺鍍作業(yè)，以提供被鍍素材具有單面或是雙面的鍍膜層，經(jīng)過高壓放電濺鍍的被鍍素材再經(jīng)張力控制滾動條、校正滾動條的中心校正、整平后將完成鍍附薄膜的被鍍素材卷收成卷。
文檔編號C23C14/34GK2921038SQ200620019050
公開日2007年7月11日 申請日期2006年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月31日
發(fā)明者楊成杰, 林志煌 申請人:英志企業(yè)股份有限公司