專利名稱：用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，主要適用于電致發(fā)光元件的有機薄膜彩色條紋以及金屬薄膜電極線條的制備。
背景技術：
制備電致發(fā)光元件的有機薄膜彩色線條，或金屬薄膜的電極線條，均需要非常精密的掩膜器(或稱掩膜板，或稱掩膜具)。因此，掩膜器的精度，重復率以及分辯率的好與否，對于能否制備出合格率高的電致發(fā)光元件是十分重要的。
在先技術(1)，中國專利ZL0013136.0提供了一種真空鍍膜的條狀掩膜板。掩膜板的條線是通過鐵條上的齒和刻槽固定的合金絲形成的。合金絲的兩端是焊死在鐵條背面的焊錫上。分辯率能夠做到3條線/mm。但因為合金絲是焊死的，經過真空蒸鍍過一次后，合金絲松塌下來，就無法再使其繃緊繃直。也就無法保證掩膜條線間最初的相互平行和固定等間距的要求。因此，要經常更換掩膜板，造成了很大的浪費，更何況為確保焊接時，要保持合金絲等間距的平行度，加工的難度也是比較大的。
在先技術(2)，中國專利ZL3116759.4提供了一種真空蒸鍍線狀掩膜的掩膜板，包含有固定框架，彈性線，置于固定框架相對平行的帶有定位槽和頂緊螺絲的兩個定位柱，彈性線通過兩定位柱上的定位槽定位繞成平直線組的掩膜線。彈性線的兩端分別由固定螺釘固定在固定框架上。通過調節(jié)固定螺絲使彈性線拉緊拉直。通過調節(jié)頂緊螺絲使彈性線組繃緊繃直。與在先技術(1)相比，在先技術(2)的精度、分辯率、使用率和壽命都提高了。但不足的是通過調節(jié)固定螺釘很難使每根掩膜線都拉得很直；通過調節(jié)頂緊螺絲也很難使掩膜線組中每根掩膜線都繃緊繃直；而且掩膜線有上下兩層，基板只能從邊上插入使用起來不太方便。

發(fā)明內容
為了克服上述在先技術中存在的不足，本發(fā)明提供一種用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器。能夠使每條掩膜線都很容易地拉緊拉直、使每根掩膜線都繃緊繃直。
本發(fā)明為了達到上述目的，所采取的技術方案是掩膜器中主要包含帶有蒸發(fā)窗口的真空鍍膜底座，帶有定位槽的定位柱。彈力線通過定位柱上的定位槽定位構成掩膜線。在每根掩膜線的兩端均連接有拉簧。
本發(fā)明的顯著優(yōu)點在于每根掩膜線的兩端均連接有拉簧。當掩膜線一旦松塌了，掩膜線兩端拉簧的彈力就會自動地使掩膜線拉緊拉直。因為每根掩膜線都連接到拉簧上，所以每根掩膜線都能夠始終保持在繃緊繃直的狀態(tài)中。即使其中個別的線發(fā)生變形也能自動恢復。無須再像在先技術中需要調節(jié)螺釘或螺絲。而且，在先技術中即使使用了調節(jié)螺釘或螺絲也很難保證每根掩膜線都能夠拉緊拉直。所以，本發(fā)明不僅提高了真空鍍膜的精度、分辯率和重復率，同時也易于清洗提高了掩膜器的使用壽命。大大節(jié)約了人力和物力，降低了成本，適宜批量生產。


圖1是本發(fā)明彈性線狀掩膜器的一種實施例結構示意圖。
圖2是圖1中A-A面剖視圖。
圖3是本發(fā)明彈性線狀掩膜器另一種實施例的結構示意圖。
圖4是圖3中B-B面剖視圖。
具體實施例方式
下面結合附圖，詳細說明本發(fā)明掩膜器的結構特征。
圖1、圖2是實施本發(fā)明的一種實例。
如圖1、圖2所示，本發(fā)明的掩膜器，主要包含帶有蒸發(fā)窗口15的蒸發(fā)模具底座1，在蒸發(fā)窗口15相對的兩側置有相互平行的帶定位槽的兩個定位柱3。在兩個定位柱3的外側與其平行地置有兩個拉線桿2。彈力線通過兩個定位柱3上的定位槽定位繞成平行平直的掩膜線4。每根彈力線的兩端都分別連接在一根繞過拉線桿2的拉簧5的兩端上。在蒸發(fā)模具底座1上還置有壓板架立柱10，由壓板固定螺釘6固定在壓板架立柱10上的帶有壓緊螺絲7的壓板架上板8。當被蒸鍍樣板12置于掩膜線4組上時，蓋在背面的上壓板13由壓緊螺絲7頂牢。為了放置方便，蒸發(fā)模具底座1下面帶有墊腳11。
上述構成掩膜線的每根彈力線的兩端都與一根拉簧的兩端相連。因此，每根掩膜線都被拉簧的彈力拉緊拉直。即使由于蒸鍍或其他原因會使掩膜線松塌，而有拉簧的彈力也將自動地使其拉緊拉直。所以，整個掩膜線4始終是繃緊繃直的。
圖3、圖4所示的是實施本發(fā)明的另一種具體結構。
在帶有蒸發(fā)窗口15的蒸發(fā)模具底座1上，置有帶定位槽的定位柱3，還置有拉簧模片17。彈性細模線通過定位柱3上的定位槽定位構成掩膜線4。每根掩膜線4的兩端分別與一根拉簧5的一端相連。拉簧5的另一端連接到拉簧模片17上。
上面所說的帶有蒸發(fā)窗口15的蒸發(fā)模具底座1是中間開口的塊狀物體，如圖1所示的實施例，或者是中間開口的板狀物體，或者是中間開口的片狀物體。如圖2所示的實施例。
所說的帶定位槽的定位住3是帶定位槽的長柱形，如圖1所示的，或是帶定位槽的板條形，或是帶定位槽的長片形，如圖2所示。
權利要求
1.一種用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，主要包含帶有蒸發(fā)窗口的蒸發(fā)模具底座，帶有定位槽的定位柱，彈力線通過定位柱定位構成掩膜線，其特征在于在每根掩膜線的兩端均連接有拉簧。
2.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，其特征在于所說的掩膜線(4)的兩端分別與一根繞過置于蒸發(fā)模具底座(1)上與兩定位柱(3)相互平行的拉線桿(2)的拉簧(5)的兩端相連。
3.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，其特征在于所說的掩膜線(4)的兩端分別連接有一根拉簧(5)，而拉簧(5)的另一端連接在置于蒸發(fā)模具底座(1)的拉簧模片(17)上。
4.根據權利要求1、或2、或3所述的用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，其特征在于所說的帶有蒸發(fā)窗口(15)的蒸發(fā)模具底座(1)是中間開口的塊狀物體，或者是中間開口的板狀物體，或者是中間開口的片狀物體。
5.根據權利要求1、或2、或3所述的用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，其特征在于所說的定位柱(3)是帶定位槽的長柱形，或者是帶定位槽的板條形，或者是帶定位槽的長片形。
全文摘要
一種用于真空鍍膜的彈性線狀掩膜器，特別適用于電致發(fā)光元件的有機薄膜彩色條紋以及金屬薄膜電極線條的制備。主要技術特征是掩膜線的兩端連接有拉簧?？坷傻膹椓⒚扛谀ぞ€都時時刻刻地拉緊拉直，繃緊繃直。提高了真空鍍膜的精度、分辯率和重復率。提高了掩膜器的使用壽命，節(jié)約了人力和物力。
文檔編號C23C14/04GK1546721SQ200310109330
公開日2004年11月17日 申請日期2003年12月12日 優(yōu)先權日2003年12月12日
發(fā)明者張志林 申請人:上海大學