專利名稱:一種氣體滲碳爐滲劑滴注系統(tǒng)的制作方法
一種氣體滲碳爐滲劑滴注系統(tǒng)，屬于化學(xué)熱處理設(shè)備的輔助裝置。
目前，氣體滲碳爐是采用滴定器來控制滲劑的加入量。由于電機(jī)震動，而使滴定器調(diào)節(jié)螺釘產(chǎn)生轉(zhuǎn)動，造成控制滴量不穩(wěn)定。要保持一定的滴量就必須經(jīng)常加以調(diào)節(jié)，從而增加了勞動強(qiáng)度。另一方面，爐內(nèi)的壓力是經(jīng)常波動的，滲劑在滴定口上受到的阻力也就經(jīng)常發(fā)生變化，這也是造成滴量不穩(wěn)定的一個因素。由于滴量不穩(wěn)定造成了工藝參數(shù)的變化，不能保證加工件的質(zhì)量。
用滴定器控制滴量時，支撐管道較長。由于管道與爐蓋上平面存在不垂直和電機(jī)存在震動問題，常常使?jié)B劑滴在管壁上，滲劑順著管壁流到爐壁上造成爐壁結(jié)焦，堵塞滴注系統(tǒng)。采用加粗支撐管道的辦法，從一定程度上減少了滴在管壁上的滲劑，但由于受爐蓋保溫套的限制，支撐管道不可能無限加粗，因而不能從根本上解決結(jié)焦堵塞問題；采用在支撐管道中心加一個滲劑導(dǎo)向細(xì)管的辦法時，由于所加的導(dǎo)向細(xì)管不與冷卻套直接接觸，爐溫很容易傳給導(dǎo)向細(xì)管，使導(dǎo)向細(xì)管溫度升高，造成滲劑在導(dǎo)向細(xì)管底口結(jié)焦堵塞。為了降低導(dǎo)向細(xì)管的溫度，導(dǎo)向細(xì)管底口必須與爐蓋拉長距離，這樣又容易造成滲劑滴在爐壁上而產(chǎn)生結(jié)焦堵塞。
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點，提供一種控制滲劑滴量穩(wěn)定和避免爐壁產(chǎn)生結(jié)焦堵塞的滲劑滴注系統(tǒng)。
本發(fā)明的構(gòu)思是用流量計控制滲劑的滴量，由流量計、防結(jié)焦滴注裝置和爐內(nèi)壓力負(fù)反饋管路組成一種新的氣體滲碳爐滴注系統(tǒng)。
圖1是本發(fā)明滴注系統(tǒng)圖。
圖2是本發(fā)明防結(jié)焦滴注裝置圖。
用流量計〔5〕控制滲劑的加入量，流量計是依靠其它固定物吊在空間，所以，不受爐子震動的影響，解決了因爐子震動造成的滴量變動的問題。
防結(jié)焦滴注裝置是由導(dǎo)向細(xì)管〔2〕和冷卻套〔3〕組成。導(dǎo)向細(xì)管與冷卻套直接接觸，給導(dǎo)向細(xì)管提供了良好的冷卻條件，使導(dǎo)向細(xì)管底口的溫度不能升高，因此解決了滲劑在導(dǎo)向細(xì)管底口結(jié)焦的問題。
導(dǎo)向細(xì)管〔2〕的底口與爐蓋的上平面在同一水平面上，使導(dǎo)向細(xì)管底口與爐體保溫套的下平面的距離縮短，滲劑能直接滴入爐內(nèi)，而不會碰在爐壁上，從而解決了爐壁結(jié)焦堵塞的問題。
為了消除由于爐內(nèi)壓力波動，而影響到滴量變化的問題，在該系統(tǒng)上加了壓力負(fù)反饋裝置。該裝置是用管子將簡易滴定管取氣口〔8〕和封閉型的滲劑桶頂面聯(lián)通。當(dāng)爐內(nèi)壓力升高時，簡易滴定管內(nèi)向上的壓力增大，使?jié)B劑加入量有變小的趨勢。同時該壓力通過負(fù)反饋管路加在了滲劑桶的液面上，又使?jié)B劑加入量有增大的趨勢。由于這兩個作用力方向相反，大小相等，相互抵銷。從而使?jié)B劑加入量不受爐內(nèi)壓力波動的影響。
使用該氣體滲碳爐滲劑滴注系統(tǒng)時，滲劑從滲劑桶〔6〕流到流量計〔5〕；調(diào)整流量計的調(diào)節(jié)螺釘，使流量計浮子對準(zhǔn)所需流量刻度數(shù)，達(dá)到控制一定滲劑加入量的目的。滲劑從流量計〔5〕流到簡易滴定管〔4〕，然后經(jīng)過導(dǎo)向細(xì)管〔2〕直接滴入爐內(nèi)。冷卻套〔3〕與導(dǎo)向細(xì)管〔2〕直接接觸，且導(dǎo)向細(xì)管底口與爐蓋上平面在同一水平面上，用法蘭盤〔1〕連接爐蓋和防結(jié)焦滴注裝置。壓力負(fù)反饋管路〔7〕把滲劑桶〔6〕和防結(jié)焦滴注裝置上的取氣口聯(lián)通。
該滲劑滴注系統(tǒng)用造價低廉的流量計代替了價格較高的滴定器，取消了長支撐管道，降低了成本。能使?jié)B劑滴量穩(wěn)定，保證了加工件的質(zhì)量。由于采用了防結(jié)焦滴注裝置，解決了爐壁結(jié)焦及管口堵塞問題，使一些易于結(jié)焦堵塞但經(jīng)濟(jì)有效的滲劑(如尿素、三乙醇胺、稀土等)得到了充分利用。
該滲劑滴注系統(tǒng)操作方便、實用性強(qiáng)、降低了勞動強(qiáng)度。
權(quán)利要求
1.一種氣體滲碳爐滲劑滴注系統(tǒng)，其特征在于該系統(tǒng)是由流量計、防結(jié)焦滴注裝置和爐內(nèi)壓力負(fù)反饋管路組成，防結(jié)焦滴注裝置的導(dǎo)向細(xì)管與冷卻套直接接觸，滲劑導(dǎo)向細(xì)管的底口與爐蓋的上平面在同一水平面上。
專利摘要
氣體滲碳爐滲劑滴注系統(tǒng)是化學(xué)熱處理設(shè)備的輔助裝置。它克服了目前正在應(yīng)用的滴注設(shè)備存在的控制滴量不穩(wěn)定的缺點，解決了滲劑在滴注過程中碰在爐壁上造成結(jié)焦堵塞的問題。本滴注系統(tǒng)特征是由流量計，防結(jié)焦滴注裝置和爐內(nèi)壓力負(fù)反饋管路組成，其中，防結(jié)焦滴注裝置的導(dǎo)向細(xì)管與冷卻套直接接觸。應(yīng)用該滲劑滴注系統(tǒng)，工藝參數(shù)穩(wěn)定，能保證加工件的質(zhì)量，減輕勞動強(qiáng)度。該系統(tǒng)造價低廉，易于推廣。
文檔編號C23C8/08GK87201607SQ87201607
公開日1988年3月16日 申請日期1987年6月15日
發(fā)明者王立鐸, 王成國, 楊愛華, 王世清, 喬毅南, 郭守真, 劉黎明 申請人:山東工業(yè)大學(xué)導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan