專利名稱：新結構蒸發(fā)鍍膜材料的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空光學鍍膜機里使用的蒸發(fā)鍍制各種光學薄膜的蒸發(fā)材料的結構。
蒸發(fā)鍍膜材料作為光學薄膜中的低折射率材料用在真空鍍膜機里蒸發(fā)各種光學薄膜。如


圖1所示，現有技術中的蒸發(fā)鍍膜材料均為粒狀石英，放置在真空光學鍍膜機真空室的蒸發(fā)坩鍋里，在真空室里的電子槍發(fā)出電子束照射在粒狀石英玻璃上，使之發(fā)熱，當溫度達到石英玻璃的熔點后，石英玻璃迅速熔化蒸發(fā)，蒸發(fā)的石英微粒子(SiO2)與其它高折射率材料反復蒸發(fā)鍍制，使之可形成各種光學薄膜。使用上述粒狀蒸發(fā)鍍膜材料有兩個缺點1．由于放置在蒸發(fā)坩鍋里的熔融石英顆粒堆在一起時有很多空隙，密度不夠，不能適應長時間蒸發(fā)鍍制多層光學薄膜。
2．由于熔融石英的蒸發(fā)狀況呈半升華狀態(tài)，顆粒受熱蒸發(fā)狀態(tài)不一，使之不能很均勻地蒸發(fā)，在鍍制精度很高的光學薄膜時，會影響薄膜的均勻性。
本實用新型的目的是提供一種新結構蒸發(fā)鍍膜材料，該材料的密度一致、蒸發(fā)時間長、薄膜均勻、成品率高。
本實用新型的技術方案是一種新結構蒸發(fā)鍍膜材料，該材料是圓環(huán)形狀的石英玻璃環(huán)，密度均勻一致。
本實用新型進一步的技術方案是一種新結構蒸發(fā)鍍膜材料，該材料是圓環(huán)形狀的石英玻璃環(huán)，密度均勻一致；所述石英玻璃環(huán)的截面為矩形。
本實用新型的優(yōu)點是1．由于熔融石英玻璃環(huán)是塊狀固體，密度均勻一致，蒸發(fā)時間要比顆粒狀石英來得長，故而能適應長時間地鍍制多層光學薄膜。
2．由于熔融石英玻璃環(huán)是整體的，故而受電子束加熱能較均勻地蒸發(fā)，故而在鍍制高精度光學薄膜時，能得到均勻性較好的薄膜，使得成品度提高。
以下結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述
圖1為現有技術的使用狀態(tài)示意圖；圖2、圖3為本實用新型的結構示意圖；圖4為本實用新型的使用狀態(tài)示意圖；其中1石英玻璃環(huán)；2真空室；3電子槍；4電子束；5石英微粒子；6工件架；7玻璃基片；8粒狀石英；9蒸發(fā)坩鍋。
實施例如圖2、圖3所示，一種新結構蒸發(fā)鍍膜材料，該材料是圓環(huán)形狀的石英玻璃環(huán)[1]，密度均勻一致；所述石英玻璃環(huán)[1]的截面為矩形。
如圖4所示，熔融石英玻璃環(huán)[1]放置在真空光學鍍膜機的真空室[2]里，在真空狀況下，設置在真空室[2]里的電子槍[3]發(fā)出電子束[4]，照射在石英玻璃環(huán)[1]上，使之發(fā)熱，當溫度達到石英玻璃的熔點后，石英玻璃迅速熔化蒸發(fā)，蒸發(fā)的石英微粒子(SiO2)[5]到達在真空室[2]上部工件架[6]上的玻璃基片[7]上，冷卻凝結形成薄膜，在真空室[2]中使用石英玻璃(SiO2)與其它高折射率材料反復蒸發(fā)鍍制，使之可形成各種光學薄膜。
權利要求1．一種新結構蒸發(fā)鍍膜材料，其特征在于該材料是圓環(huán)形狀的石英玻璃環(huán)[1]，密度均勻一致。
2．根據權利要求1所述的新結構蒸發(fā)鍍膜材料，其特征在于所述石英玻璃環(huán)[1]的截面為矩形。
專利摘要本實用新型公開了一種新結構蒸發(fā)鍍膜材料,該材料是圓環(huán)形狀的石英玻璃環(huán),密度均勻一致;所述石英玻璃環(huán)的截面為矩形;由于熔融石英玻璃環(huán)是塊狀固體,密度均勻一致,蒸發(fā)時間要比顆粒狀石英來得長,故而能適應長時間地鍍制多層光學薄膜;由于熔融石英玻璃環(huán)是整體的,故而受電子束加熱能較均勻地蒸發(fā),故而在鍍制高精度光學薄膜時,能得到均勻性較好的薄膜,使得成品度提高。
文檔編號C23C14/28GK2461937SQ0024073
公開日2001年11月28日 申請日期2000年10月23日 優(yōu)先權日2000年10月23日
發(fā)明者彭守敏 申請人:彭守敏