1.一種基于量子度量的二次光學(xué)透鏡的設(shè)計(jì)方法，所述二次光學(xué)透鏡用于將光源發(fā)出的光折射至被照射面，其特征在于，包括：
S1、將被照射面按照光子照度需求劃分成至少一個(gè)網(wǎng)格，所述光子照度需求為非均勻光子照度；
S2、將光源劃分成與被照射面相同數(shù)量的網(wǎng)格，并與被照射面網(wǎng)格存在相對(duì)位置的一一對(duì)應(yīng)關(guān)系，使得每個(gè)網(wǎng)格內(nèi)光源出射的光子數(shù)滿(mǎn)足相對(duì)應(yīng)的被照射面的光子照度需求；
S3、根據(jù)光源劃分的網(wǎng)格的節(jié)點(diǎn)、位置以及出射的光線方向與相對(duì)應(yīng)的被照射面劃分的網(wǎng)格的節(jié)點(diǎn)、位置以及所需的入射光線方向根據(jù)斯涅爾定律計(jì)算得到自由曲面，使得根據(jù)光源劃分的網(wǎng)格的每個(gè)位置上出射的光線與相對(duì)應(yīng)的根據(jù)被照射面劃分的網(wǎng)格的位置的入射光線的交叉點(diǎn)在該自由曲面上；
S4、填充自由曲面形成二次光學(xué)透鏡模型。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于量子度量的二次光學(xué)透鏡的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，每條光線損失的光子數(shù)忽略不計(jì)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于量子度量的二次光學(xué)透鏡的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述一一對(duì)應(yīng)關(guān)系符合邊緣光線原理，即光源劃分的網(wǎng)格的邊緣網(wǎng)格對(duì)應(yīng)照射面劃分的網(wǎng)格的邊緣網(wǎng)格，光源劃分的網(wǎng)格的中心網(wǎng)格對(duì)應(yīng)照射面劃分的網(wǎng)格的中心網(wǎng)格。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于量子度量的二次光學(xué)透鏡的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述步驟S3包括：
S3.1、根據(jù)光源劃分的網(wǎng)格的節(jié)點(diǎn)、位置以及出射的光線方向與相對(duì)應(yīng)的被照射面劃分的網(wǎng)格的節(jié)點(diǎn)、位置以及所需的入射光線方向根據(jù)斯涅爾定律計(jì)算得到控制網(wǎng)格；
S3.2、計(jì)算控制網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)的法向量；
S3.3、根據(jù)控制網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)的法向量計(jì)算出網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)的切向量；
S3.4、根據(jù)網(wǎng)格節(jié)點(diǎn)的切向量連接形成自由曲面。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于量子度量的二次光學(xué)透鏡的設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述步驟S4之后還包括：
S5、模擬光源通過(guò)步驟S4獲得的二次光學(xué)透鏡模型照射到被照射面，判斷被照射面是否達(dá)到非均勻光子照度分布需求；若未達(dá)到非均勻光子照度分布需求，則前進(jìn)到步驟S6，否則結(jié)束；
S6、改變劃分光源與被照射面的網(wǎng)格參數(shù)，返回步驟S1，所述網(wǎng)格參數(shù)包括網(wǎng)格密度和網(wǎng)格形狀。