專利名稱：處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及處理裝置，詳細(xì)地說是涉及用于進(jìn)行等離子處理等的處理裝置中的處理容器的抑制散熱構(gòu)造。
背景技術(shù)：
在FPD(平板顯示)的制造工序中，對FPD用的玻璃基板進(jìn)行等離子蝕刻、等離子灰化(plasma ashing)、等離子成膜等各種等離子處理。作為進(jìn)行這樣的等離子處理的裝置，已知有平行平板型的等離子處理裝置和電感耦合等離子體(ICP =Inductively Coupled Plasma)處理裝置等。在此，雖然在各種等離子處理裝置中因產(chǎn)生等離子而使處理室內(nèi)的溫度上升，但是通常情況下由于處理室內(nèi)壁附近的等離子密度較低，因此在處理室內(nèi)產(chǎn)生溫度分布。由于該溫度分布有時會在處理容器的內(nèi)表面堆積反應(yīng)生成物。特別是在處理大型基板這樣的大型裝置中，由于處理容器的熱容量大，并且處理容器的表面積較大容易散熱，因此除了在處理室內(nèi)容易產(chǎn)生溫度分布使反應(yīng)生成物的堆積增多以外，還有可能對等離子處理的面內(nèi)均勻性帶來惡劣影響。因此，在等離子處理裝置中，在處理容器的壁上設(shè)置流通熱介質(zhì)的流路，或安裝加熱器等進(jìn)行處理容器的溫度調(diào)節(jié)。然而，近年為了處理大型基板，處理容器也大型化，因此向外部的散熱量增加在處理室內(nèi)的均勻的溫度控制變得越來越困難，從能量效率的觀點看浪費也很大。因此，為了實現(xiàn)處理室內(nèi)的溫度控制的有效化和節(jié)能化，以及作為防止燒傷等的安全對策，而使用在耐熱性的防塵布內(nèi)裝填有隔熱材料的構(gòu)造的布制罩件從外側(cè)覆蓋處理容器。然而，上述布制罩件。除了拆裝等作業(yè)花費時間以外，還存在加工成本高這樣的問題。為了抑制從處理容器散熱提高能量效率，在專利文獻(xiàn)1中提出了在真空熱處理裝置中，用框體覆蓋真空容器及高頻誘導(dǎo)加熱用線圈的方案。專利文獻(xiàn)1 日本特開平8-134533號公報(圖1等)FPD用的玻璃基板，近年有一條邊超過三米的基板，處理該基板的容器的大小也成為小建筑物那樣。將這樣大型的處理容器從外側(cè)用更大的框體進(jìn)行覆蓋是不現(xiàn)實的。因此， 專利文獻(xiàn)1的防止散熱對策不能適用于大型的處理容器。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述問題點所做出的，目的在于提供一種具備操作容易且能夠適用于大型的處理容器的防止散熱構(gòu)造的處理裝置。本發(fā)明的處理裝置具備處理容器，其形成處理被處理體的處理室；抑制散熱組合體，其是將對上述處理容器的外壁面從外側(cè)覆蓋的多個板材組合而成的。通過將上述板材相對于上述處理容器的外壁面隔開間隔配置，由此在上述處理容器與上述抑制散熱組合體之間具有空氣隔熱部。
上述板材可以由金屬或樹脂構(gòu)成。另外，本發(fā)明的處理裝置，上述板材的與上述處理容器相對置的面可以進(jìn)行鏡面加工。本發(fā)明的處理裝置，在上述板材的與上述處理容器相對置的面上可以具有紅外線反射層。另外，本發(fā)明的處理裝置，上述板材的至少一部分可以由可見光透過性的材質(zhì)形成。另外，本發(fā)明的處理裝置，可以在上述處理容器的外壁面上設(shè)置隔離部件，在該隔離部件上固定有上述板材。在這種情況下，也可以利用上述隔離部件來密封上述空氣隔熱部。另外，上述隔離部件也可以由隔熱性的材質(zhì)形成。本發(fā)明的處理裝置，上述空氣隔熱部的厚度可以是在5mm至20mm的范圍內(nèi)。另外， 由于上述板材部分地或全體地多重配置，由此上述空氣隔熱部的部分或全體設(shè)置為多層。 另外，被處理體可以是長邊超過an的矩形的基板。根據(jù)本發(fā)明的處理裝置，由于設(shè)置將對處理容器的外壁面從外側(cè)覆蓋的多個板材組合而成的抑制散熱組合體，并在處理容器與抑制散熱組合體之間具有空氣隔熱部，因此能夠抑制從處理容器散熱，能夠提高處理容器的溫度調(diào)節(jié)效率。另外，由于抑制散熱組合體是將多個板材組合構(gòu)成的，因此也能夠適用于大型的處理容器，操作、拆卸容易且能夠以低成本設(shè)置。另外，幾乎沒有成為產(chǎn)生微粒的擔(dān)心。因此，本發(fā)明的處理裝置，由于具備抑制散熱組合體，因此處理容器內(nèi)的溫度控制效率良好，其結(jié)果能夠起到以高信賴度進(jìn)行目的處理的效果。


圖1是示意地表示本發(fā)明的第一實施方式涉及的離子蝕刻裝置的構(gòu)成的剖視圖。圖2是圖1的離子蝕刻裝置的主要部分剖視圖。圖3是表示圖1的離子蝕刻裝置中的隔離件的配設(shè)例的側(cè)視圖。圖4是表示在圖1的離子蝕刻裝置中安裝了板材的狀態(tài)下的側(cè)視圖。圖5是圖4中的5-5線箭頭的主要部分剖視圖。圖6是圖4中的6-6線箭頭的主要部分剖視圖。圖7是表示圖1的離子蝕刻裝置中的隔離件的其他配設(shè)例的側(cè)視圖。圖8是表示板材的變形例的剖視圖。圖9是表示板材的另一變形例的剖視圖。圖10是本發(fā)明的第二實施方式涉及的離子蝕刻裝置的主要部分剖視圖。附圖標(biāo)記說明101...處理裝置；IOla...底壁；IOlb...側(cè)壁；IOlc...蓋體；IOld...熱介
質(zhì)流路；105...抑制散熱單元；106...板材；107...隔離件；108...螺栓；109...螺栓；111...基座(susc^ptor) ；112...基材；113、114...密封部件；115...絕緣部件； 131. · ·噴頭；133. · ·氣體擴散空間；135. · ·氣體噴出口 ；137. · ·氣體導(dǎo)入口 ；139. · ·處理氣體供給管；141...閥；143...質(zhì)量流量控制器；145...氣體供給源；151...排氣用開口 ； 153. · ·排氣管；153a. · ·凸緣部；155. · ·排氣裝置；171...供電線；173. · ·匹配箱(M. B)；175...高頻電源；180...空氣隔熱部；200...等離子蝕刻裝置。
具體實施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明的實施方式進(jìn)行詳細(xì)地說明。(第一實施方式)圖1是表示作為本發(fā)明的處理裝置的第一實施方式的等離子蝕刻裝置的概略構(gòu)成的剖視圖。圖2是放大表示圖1的主要部分的剖視圖。如圖1所示，等離子蝕刻裝置200 構(gòu)成為，對作為被處理體的例如FPD用的玻璃基板(以下，簡單地記作“基板’”)S進(jìn)行蝕刻的容量結(jié)合型的平行平板等離子蝕刻裝置。另外，作為FPD可例示出液晶顯示器(LCD)、電致發(fā)光(Electro Luminescence ；EL)顯示器、等離子顯示面板(PDP)等。該等離子蝕刻裝置200，具有內(nèi)側(cè)被陽極氧化處理(鋁陽極化處理)的由鋁構(gòu)成的成形為方筒形狀的處理容器101。處理容器101的主體(容器主體)由底壁101a、四個側(cè)壁IOlb (僅圖示兩個)構(gòu)成。另外，在處理容器101的主體的上部連接有蓋體101c。另外，在四個側(cè)壁IOlb的內(nèi)部形成有熱介質(zhì)流路101d。在該熱介質(zhì)流路IOld上連接有導(dǎo)入管102和排出管103。而且，經(jīng)由這些導(dǎo)入管102和排出管103與設(shè)置在處理容器101的外部、作為熱介質(zhì)循環(huán)裝置的冷卻單元104連接。冷卻單元104，具備例如未圖示的熱交換器和循環(huán)泵等。熱介質(zhì)通過未圖示的循環(huán)泵的動作，一邊在熱介質(zhì)流路IOld與設(shè)置在裝置外部的冷卻單元104之間循環(huán)一邊對側(cè)壁IOlb進(jìn)行升溫或冷卻。熱介質(zhì)流路 101d、上述導(dǎo)入管102、排出管103以及冷卻單元104構(gòu)成調(diào)節(jié)處理容器101的溫度的溫度調(diào)節(jié)單元。在處理容器101的側(cè)壁IOlb的外側(cè)，以包圍處理容器101周圍的方式設(shè)置有作為 “抑制散熱組合體”的抑制散熱單元105。抑制散熱單元105將多個板材106組合而構(gòu)成。 抑制散熱單元105的各板材106被安裝在配設(shè)于處理容器101的側(cè)壁IOlb的隔離件107 上。關(guān)于抑制散熱單元105的詳細(xì)的構(gòu)造詳見后述。蓋體IOlc構(gòu)成為，通過未圖示的開閉裝置能夠相對于側(cè)壁IOlb開閉。在蓋體IOlc 閉合的狀態(tài)下，蓋體IOlC與各側(cè)壁IOlb的接合部分被0型環(huán)120密封，從而保持處理容器 101內(nèi)的氣密性。在蓋體IOlc的外側(cè)以包圍蓋體IOlc的周圍的方式，設(shè)置有作為“抑制散熱組合體”的抑制散熱單元121。抑制散熱單元121將多個板材122組合而構(gòu)成。抑制散熱單元121的各板材122被安裝在配置于蓋體IOlc的隔離件123上。另外，也可以不設(shè)置蓋體IOlc外側(cè)的抑制散熱單元121。另外，由于抑制散熱單元121的基本的構(gòu)成與抑制散熱單元105同樣，故省略其詳細(xì)的說明。在處理容器101內(nèi)的底部配置有框形狀的絕緣部件110。在絕緣部件110上設(shè)置有作為能載置基板S的載置臺的基座111。也作為下部電極的基座111具備基材112?；?12例如由鋁或不銹鋼(SUQ等導(dǎo)電性材料形成。基材112配置在絕緣部件110上，在兩個部件的接合部分配置有0型環(huán)等密封部件113來保持氣密性。在絕緣部件110與處理容器101的底壁IOla之間也利用0型環(huán)等密封部件114來保持氣密性?；?12的側(cè)部外周被絕緣部件115包圍。由此，確?；?11側(cè)面的絕緣性，防止等離子處理時的異常放 H1^ ο在基座111的上方，與該基座111平行且相對置地設(shè)置有作為上部電極發(fā)揮作用的噴頭131。噴頭131被支承于處理容器101的上部蓋體101c。噴頭131形成中空狀，在其內(nèi)部設(shè)置有氣體擴散空間133。另外，在噴頭131的下表面(與基座111相對的面)形成有噴出處理氣體的多個氣體噴出孔135。該噴頭131接地并與基座111 一起構(gòu)成一對平行平板電極。在噴頭131的上部中央附近設(shè)置有氣體導(dǎo)入口 137。在該氣體導(dǎo)入口 137上連接有處理氣體供給管139。在該處理氣體供給管139上經(jīng)由兩個閥141、141以及質(zhì)量流量控制器143而連接有供給用于蝕刻的處理氣體的氣體供給源145。作為處理氣體，除了鹵素系氣體和A氣之外，例如還能夠使用Ar氣等稀有氣體等。在上述處理容器101內(nèi)的四個角附近的位置，在四個位置形成貫通底壁IOla的排氣用開口 151。各排氣用開口 151與排氣管153連接。排氣管153，在其端部具有凸緣部 153a，在使0型環(huán)(省略圖示)介于該凸緣部153a與底壁IOla之間的狀態(tài)下被固定。排氣管153與排氣裝置155連接。排氣裝置155例如具備渦輪分子泵等真空泵，由此構(gòu)成為能夠?qū)⑻幚砣萜?01內(nèi)吸真空到規(guī)定的減壓環(huán)境為止。另外，雖省略圖示但在處理容器101的側(cè)壁IOlb上設(shè)置有通過閘閥進(jìn)行開閉的基板S的輸送用開口部、和能夠觀察處理容器101內(nèi)部的透過窗。在基座111的基材112上連接有供電線171。在該供電線171上經(jīng)由匹配箱 (M. B.) 173而連接有高頻電源175。由此，從高頻電源175例如將13. 56MHz的高頻電力供給到作為下部電極的基座111。另外，供電線171經(jīng)由作為形成于底壁IOla的貫通開口部的供電用開口 177被導(dǎo)入到處理容器101內(nèi)。下面，詳細(xì)說明抑制散熱單元105。抑制散熱單元105以覆蓋處理容器101的各側(cè)壁IOlb的外壁面的一部分或大致全部面的方式沿著側(cè)壁IOlb配置。在本實施方式中，抑制散熱單元105的板材106配置成從處理容器101的側(cè)壁IOlb的上端(與蓋體IOlc的交界)稍下方的位置起覆蓋到側(cè)壁IOlb的下端附近。在處理容器101的側(cè)壁IOlb上配置有閘閥或基板S的輸送用開口部、用于確認(rèn)等離子的狀態(tài)的透過窗等的情況下，只要避開該部分配置抑制散熱單元105即可，而則無需覆蓋側(cè)壁IOlb的全部面。抑制散熱單元105構(gòu)成為包括多個板材106和支承它們的隔離件107。構(gòu)成抑制散熱單元105的板材106例如能夠使用不銹鋼、或與處理容器101同樣地使用鋁、鋁合金等金屬材料，或具有耐熱性的樹脂材料。各板材106的形狀是任意的，例如能夠做成矩形的板狀。在本實施方式中，各板材 106是具有面積比處理容器101的一個側(cè)壁IOlb的面積小的平面的板狀部件。另外，各板材106的大小可以相同也可以不同。另外各板材106的形狀，可以統(tǒng)一成相同的形狀，也可以是不同的形狀。另外，在將處理容器101做成圓筒形狀的情況下，抑制散熱單元105也可以做成直徑大于處理容器101的圓筒形狀的圍柵。在這種情況下，板材106可以做成將圓筒分隔成任意數(shù)而成的曲面形狀。如圖2所示，在本實施方式中，板材106的上端附近折彎成L字形，該折彎部106a 被掛在排列于最上部的隔離件107的上表面上。折彎部106a在板材106的上端與隔離件 107之間產(chǎn)生縫隙，起到防止空氣隔熱部180的空氣排出到上方的作用。另外，通過設(shè)置折彎部106a而在將板材106安裝于隔離件107時，容易進(jìn)行安裝作業(yè)和定位。另外，板材106 也可以不具有折彎部106a。
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由于板材106還具有裝飾處理容器101外觀的美觀的效果，因而成為裝飾板的替代。即，通過配置板材106而無需在處理容器101上配置裝飾板。各板材106被安裝在隔離件107上，該隔離件107配設(shè)于處理容器101的側(cè)壁IOlb 的外壁面。各板材106通過插裝有隔離件107而與處理容器101隔開間隔地安裝。在處理容器101的側(cè)壁IOlb與板材106之間形成的空間，形成空氣隔熱部180。處理容器101的側(cè)壁IOlb與板材106的距離(即，空氣隔熱部180的厚度)，可以考慮所需的隔熱效果和對大型處理容器的適用來決定。在本實施方式中，例如優(yōu)選為5mm至20mm左右，更優(yōu)選為 7mm到12mm左右。另外，空氣隔熱部180的厚度，只要是所需的厚度以上即可，不一定是不變的厚度，例如，可以是側(cè)壁IOlb的上側(cè)部分比下側(cè)部分厚。由于本實施方式的抑制散熱單元105是將多枚比處理容器101的側(cè)壁IOlb小的板材106進(jìn)行組合而使用，因此即使處理容器101是以大型的基板S為處理對象的大型的容器，也能夠沒有任何障礙地進(jìn)行安裝和拆卸。另外，由于抑制散熱單元105是將比側(cè)壁 IOlb小的多枚板材106進(jìn)行組合而構(gòu)成，因此能夠根據(jù)處理容器101的形狀而改變板材 106的大小和形狀來配置。因此能夠使用隔離件107 —邊將空氣隔熱部180的厚度保持為所需的厚度一邊配置板材106，從而能夠得到優(yōu)越的隔熱效率。假設(shè)在采用了用較大的框體覆蓋處理容器101全體的構(gòu)造(例如專利文獻(xiàn)1)的情況下，由于難以適用于大型的處理容器，并且處理容器與框體的間隔不是一定的，因此空氣隔熱的效果會因部位而異，因而有時不能得到充分的抑制散熱的效果。另外，由于避免從處理容器101直接向板材106的熱傳導(dǎo)，因此各板材106優(yōu)選為相對于處理容器101的側(cè)壁IOlb不具有面接觸的部分，更優(yōu)選為使板材106與處理容器 101處于完全的非接觸狀態(tài)。另外，板材106的內(nèi)表面(與處理容器101的側(cè)壁IOlb的外壁面相對置的面)優(yōu)選實施鏡面加工等從而預(yù)先處于反射率高的狀態(tài)。通過預(yù)先將板材106的內(nèi)表面進(jìn)行鏡面加工，由此能夠反射從處理容器101放射的紅外線，抑制向外部散熱，從而提高空氣隔熱部 180的隔熱性能。隔離件107具有相對于處理容器101的側(cè)壁IOlb留有一定的間隔地固定板材106 的功能。即，隔離件107具有支承、固定板材106的功能，和插裝于板材106與側(cè)壁IOlb之間來確?？諝飧魺岵?80的厚度的功能。隔離件107能夠耐受處理容器101的溫度，能夠用熱傳導(dǎo)率小的隔熱材料形成。由于用隔熱材料形成隔離件107，因此能夠抑制經(jīng)由隔離件 107從處理容器101向板材106的熱傳導(dǎo)。作為隔熱材料，例如能夠使用聚碳酸酯、氟化樹脂、聚酰亞胺、聚酰胺-酰亞胺、聚苯硫醚、聚醚砜、聚砜、環(huán)氧玻璃等樹脂材料、氟橡膠、硅橡膠、氟硅橡膠、全氟聚醚類橡膠、丙烯橡膠、乙烯丙烯橡膠等橡膠材料。圖3是表示處理容器101任意的側(cè)壁IOlb的外壁面上的隔離件107的配置例的側(cè)視圖。在圖3表示的例子中，在一個側(cè)壁IOlb的外壁面上縱橫各配置三個合計九個隔離件107。另外，隔離件107的配置位置、配置個數(shù)只要能夠固定多個板材106則可以是任意的。另外，在本實施方式中，雖然將隔離件107做成長尺寸的棱柱形狀，但其形狀不做特殊限定。隔離件107例如俯視觀察時可以是L字形或十字形、或者也可以是四邊形等框形狀或“二”字形(U字形)。圖4是表示在以圖3的狀態(tài)設(shè)置的隔離件107上安裝板材106，在處理容器101上配置有抑制散熱單元105的狀態(tài)。在圖4中用虛線表示隔離件107的位置。在該例中是在一個側(cè)壁IOlb的外側(cè)安裝三枚板材106A、106B、106C。另外，配置在一個側(cè)壁IOlb上的板材106的枚數(shù)不限定于三枚，可以根據(jù)處理容器101的大小選擇任意枚數(shù)。隔離件107利用螺栓108固定在處理容器101上。另外，為了將板材106經(jīng)由螺栓108從處理容器101向板材106的熱傳導(dǎo)減小到極小，因此利用與固定隔離件107的螺栓108不同的螺栓109將板材106固定在隔離件107上。另外，如果是熱傳導(dǎo)小的螺栓則可以將隔離件107和板材106 —起固定在處理容器101上。另外，固定隔離件107和板材 106的單元不限于螺栓108、109。例如，采用在隔離件107和板材106上設(shè)置通過陽模、陰模進(jìn)行的嵌合構(gòu)造，或?qū)宀?06掛到隔離件107上的方法，也能夠?qū)宀?06更容易拆裝地安裝于隔離件107。板材106A與板材106B的接合部、板材106B與板材106C的接合部構(gòu)成為，分別以微小的寬度(例如2 IOcm)重疊，從而極力防止空氣隔熱部180的空氣向外部泄漏。具體而言，例如如圖5所示，以板材106B的端部附近向外側(cè)彎曲，對板材106A的端部從外側(cè)覆蓋的方式重疊。圖6表示抑制散熱單元105的拐角部的截面。在抑制散熱單元105的拐角部，沿著處理容器101的拐角形狀將板材106A折彎成大致直角。而且，板材106A的端部以從外側(cè)覆蓋板材106D (在圖4中省略圖示)的方式重疊接合，其中板材106D覆蓋與圖3、 4表示的側(cè)壁IOlb正交的相鄰的側(cè)壁101b。另外，抑制散熱單元105的拐角部的形狀考慮安全等因素可以是圓弧狀或由多個鈍角折彎的形狀。這樣，通過使板材106的端部彼此重疊來組合抑制散熱單元105，由此使板材106 的接合部分無間隙，從而能夠抑制空氣隔熱部180的空氣向外部泄漏。相鄰的板材106彼此重疊的部分，例如可以用未圖示的螺栓進(jìn)行固定。另外，也可以不使板材106的端部彼此重疊，而用其他部件來覆蓋板材106端部間的間隙。另外，可以利用隔離件107密封空氣隔熱部180。圖7表示為了在側(cè)壁IOlb的上部和下部固定板材106的上端和下端，而配置有與側(cè)壁IOlb的橫方向的長度大致相等長度的長尺寸的隔離件107A的構(gòu)成例。在側(cè)壁IOlb的上下方向的大致中間位置配置與圖3相同形狀的隔離件107。通過使用長尺寸的隔離件107A，能夠在板材106的上端和下端附近密封空氣隔熱部180。即，空氣隔熱部180的上下被隔離件107A密封，從而抑制空氣隔熱部 180的空氣排出到外部，因此能夠提高隔熱效率。代替圖7的長尺寸的隔離件107A，而無間隙地在橫方向上連續(xù)地配置更短的隔離件107，也能夠得到同樣的效果。另外，在圖7表示的例子中，雖然在側(cè)壁IOlb的上部和下部兩方設(shè)置了長尺寸的隔離件107A，但也可以在側(cè)壁IOlb的左右端部沿著該端部設(shè)置隔離件107A，將空氣隔熱部180的上下左右由隔離件 107A密封。另一方面，例如也可以只在側(cè)壁IOlb的上部設(shè)置長尺寸的隔離件107A，只密封空氣隔熱部180的上部。接下來，對以上那樣構(gòu)成的等離子蝕刻裝置200的處理動作進(jìn)行說明。首先，在未圖示的閘閥開放的狀態(tài)下經(jīng)由基板輸送用開口，通過未圖示的輸送裝置的叉部將作為被處理體的基板S向處理容器101內(nèi)搬入，并轉(zhuǎn)移到基座111。之后，關(guān)閉閘閥，通過排氣裝置 155將處理容器101內(nèi)抽真空到規(guī)定的真空度為止。然后，開放閥141，將處理氣體從氣體供給源145經(jīng)由處理氣體供給管139、氣體導(dǎo)入口 137，導(dǎo)入到噴頭131的氣體擴散空間133。此時，由質(zhì)量流量控制器143進(jìn)行處理氣體的流量控制。被導(dǎo)入到氣體擴散空間133的處理氣體，再經(jīng)由多個噴出孔135對載置在基座111上的基板S均勻地噴出，將處理容器101內(nèi)的壓力保持為規(guī)定的值。在該狀態(tài)下從高頻電源175將高頻電力經(jīng)由匹配箱173施加到基座111。由此，在作為下部電極的基座111與作為上部電極的噴頭131之間產(chǎn)生高頻電場，將處理氣體分解進(jìn)行等離子化。利用該等離子對基板S實施蝕刻處理。在實施蝕刻處理后，停止從高頻電源175施加高頻電力，在停止氣體導(dǎo)入后，將處理容器101內(nèi)減壓到規(guī)定的壓力。然后，開放閘閥，將基板S從基座111轉(zhuǎn)移到未圖示的輸送裝置的叉部，從處理容器101的輸送用開口部送出基板S。通過以上的操作，結(jié)束對基板 S的等離子蝕刻處理。在以上的處理過程中，在等離子蝕刻裝置200中，由抑制散熱單元105包圍處理容器101的周圍，通過形成空氣隔熱部180，能夠提高由設(shè)置于處理容器101的熱介質(zhì)流路 IOld進(jìn)行的溫度調(diào)節(jié)效率。因此，能夠獲得抑制處理容器101內(nèi)的堆積物的附著，或提高等離子蝕刻處理的基板面內(nèi)均勻性的效果。另外，由于抑制散熱單元105是將多個板材106 組合裝配的構(gòu)造，因此安裝、拆卸容易，也是適合大型的處理容器101的構(gòu)造。另外，因為抑制散熱單元105由板材106構(gòu)成，因此幾乎沒有成為產(chǎn)生微粒的原因。另外，板材106也能夠由金屬材料以外的材質(zhì)構(gòu)成。圖8表示由可見光透過性的透明材料形成板材106的變形例。作為可用于板材106的透明材料，例如能夠列舉出丙烯樹脂、聚碳酸酯等。通過用透明材料作為板材106材質(zhì)，由此能夠改進(jìn)等離子蝕刻裝置200 的目視識別性。例如，在處理容器101的側(cè)壁IOlb上設(shè)置有用于確認(rèn)其內(nèi)部(處理室)的透過窗(省略圖示)的情況下，即使不避開該透過窗的配置位置，從其外側(cè)用抑制散熱單元 105進(jìn)行覆蓋，也能夠通過透明的板材106和透過窗來確認(rèn)處理室內(nèi)的狀態(tài)。在這種情況下，可以只將與透過窗的配置位置對應(yīng)的部分置換成透明的板材106。圖9表示在板材106的內(nèi)表面(與處理容器101的側(cè)壁IOlb的外壁面相對置的面)上設(shè)置有紅外線反射層190的變形例。紅外線反射層190能夠通過在板材106的表面涂覆紅外線反射涂料，或?qū)臃e紅外線反射膜而形成。作為紅外線反射涂料，例如可以利用 ATTSU-9(商品名日本油漆株式會社制)。作為紅外線反射膜，例如可以利用NanO70S(商品名住友3M公司制)等。另外，如圖8所例示的那樣，在由透明材料形成板材106的情況下，優(yōu)選用可見光透過性的紅外線反射涂料或可見光透過性的紅外線反射膜形成紅外線反射層190。作為可見光透過性的紅外線反射膜，例如，可以利用NanO80S(商品名住友3M公司制)等。第二實施方式接下來，參照圖10說明本發(fā)明的處理裝置的第二實施方式涉及的等離子蝕刻裝置。圖10是放大表示第一實施方式的與圖2對應(yīng)的處理容器101的主要部分截面的附圖。 另外，在以下的說明中，以與第一實施方式的不同點為中心進(jìn)行說明，而省略對第二實施方式中與第一實施方式相同的構(gòu)成的說明。如圖10所示，本實施方式的等離子蝕刻裝置的抑制散熱單元201具備接近側(cè)壁 IOlb的內(nèi)側(cè)板材202、和配置在該內(nèi)側(cè)板材202外側(cè)的外側(cè)板材203。由此，空氣隔熱部成為內(nèi)側(cè)隔熱部180a和外側(cè)隔熱部180b的雙重隔熱構(gòu)造。內(nèi)側(cè)隔熱部180a是通過插裝第一隔離件204而劃分開的側(cè)壁IOlb的外壁與內(nèi)側(cè)板材202之間的空間。外側(cè)隔熱部180b是通過插裝第二隔離件205而劃分開的內(nèi)側(cè)板材202與外側(cè)板材203之間的空間。在處理容器101的外壁上例如通過螺栓固定有第一隔離件204，在該第一隔離件 204上固定內(nèi)側(cè)板材202。經(jīng)由該內(nèi)側(cè)板材202將第二隔離件205固定于第一隔離件204， 此外外側(cè)板材203被固定于該第二隔離件205。內(nèi)側(cè)板材202、外側(cè)板材203以及第二隔離件205的固定例如能夠通過螺栓進(jìn)行。另外，在處理容器101的外壁上例如通過螺栓固定有第一隔離件204，第二隔離件 205與內(nèi)側(cè)板材202過貫通它們的螺栓而被固定于第一隔離件204，此外，外側(cè)板材203和第二隔離件205以及內(nèi)側(cè)的板材202，也可以通過貫通它們的螺栓而被固定于第一隔離件 204。另外，在處理容器101的外壁上例如通過螺栓固定有第一隔離件204，第二隔離件 205和內(nèi)側(cè)板材202以及第一隔離件204，通過貫通它們的螺栓被固定于處理容器101的外壁，此外，外側(cè)的板材203和第二隔離件205以及內(nèi)側(cè)的板材202，也可以通過貫通它們的螺栓被固定于第一隔離件204。此外，例如，也可以在內(nèi)側(cè)板材202與外側(cè)板材203之間，預(yù)先組裝配置有第二隔離件205的部件，并將其固定于第一隔離件204。這樣通過將空氣隔熱部作成雙重構(gòu)造，能夠進(jìn)一步提高抑制從處理容器101散熱的效果。本實施方式的抑制散熱單元201的內(nèi)側(cè)板材202彼此，以及外側(cè)板材203彼此的接合部分的構(gòu)造與第一實施方式相同。另外，與第一實施方式的板材106相同，內(nèi)側(cè)板材 202和外側(cè)板材203均可由透明材料構(gòu)成，另外，可以在內(nèi)側(cè)板材202和外側(cè)板材203的內(nèi)壁面(處理容器101側(cè)的面)上實施鏡面加工，或設(shè)置紅外線反射層。另外，在一個處理容器101中，可以根據(jù)部位，將設(shè)置一層空氣隔熱部(參照第一實施方式)的部分與設(shè)置雙重空氣隔熱部的部分進(jìn)行組合。例如，通過在處理容器101中配置以下的抑制散熱單元，即在散熱特別大的部位設(shè)置雙重空氣隔熱部而在其他部位設(shè)置一層空氣隔熱部，從而能夠?qū)崿F(xiàn)有效的散熱抑制。另外，空氣隔熱部不限于雙重，也可以三重以上。這樣，通過將板材部分或全體地多重配置，能夠部分或全體地設(shè)置多層空氣隔熱部。由于第二實施方式的其他構(gòu)成和效果與第一實施方式相同，因此省略說明。以上，雖然以例示為目的詳細(xì)地說明了本發(fā)明的實施方式，但本發(fā)明不限定于上述實施方式。本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠完成不脫離本發(fā)明的思想和范圍的諸多改變，它們也都包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。例如，在上述實施方式中，雖然列舉平行平板等離子處理裝置為例，但本發(fā)明也能夠適用于電感耦合等離子體處理裝置、表面波等離子處理裝置、 ECR(ElectronCyclotron Resonance 電子回旋共振)等離子處理裝置、螺旋波等離子處理裝置等其他方式的等離子處理裝置。另外，只要是容器內(nèi)的溫度調(diào)節(jié)所需的裝置，則不限于干蝕刻裝置，也同樣能夠適用于成膜裝置或灰化裝置等。另外，本發(fā)明不限于將FPD用基板作為被處理體，也能夠適用于將半導(dǎo)體晶片或太陽電池用基板作為被處理體的情況。另外，上述各實施方式的抑制散熱單元，也能夠適用于不具有溫度調(diào)節(jié)單元的處
理容器。
權(quán)利要求
1.一種處理裝置，其特征在于，具備 處理容器，其形成處理被處理體的處理室；抑制散熱組合體，其是將對上述處理容器的外壁面從外側(cè)覆蓋的多個板材組合而成的，通過將上述板材相對于上述處理容器的外壁面隔開間隔配置，由此在上述處理容器與上述抑制散熱組合體之間具有空氣隔熱部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于， 上述板材由金屬或樹脂構(gòu)成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的處理裝置，其特征在于，上述板材的與上述處理容器相對置的面被進(jìn)行鏡面加工。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任意一項所述的處理裝置，其特征在于，在上述板材的與上述處理容器相對置的面上具有紅外線反射層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任意一項所述的處理裝置，其特征在于，上述板材的至少一部分由可見光透過性的材質(zhì)形成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任意一項所述的處理裝置，其特征在于，在上述處理容器的外壁面上設(shè)置隔離部件，在該隔離部件上固定有上述板材。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的處理裝置，其特征在于， 利用上述隔離部件來密封上述空氣隔熱部。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的處理裝置，其特征在于， 上述隔離部件由隔熱性的材質(zhì)形成。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中的任意一項所述的處理裝置，其特征在于，上述空氣隔熱部的厚度是在5mm至20mm的范圍內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中的任意一項所述的處理裝置，其特征在于，上述板材部分地或全體地多重配置，由此上述空氣隔熱部的部分或全體設(shè)置為多層。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中的任意一項所述的處理裝置，其特征在于，上述被處理體是長邊超過an的矩形的基板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種處理裝置，具備使操作容易且不成為產(chǎn)生微粒的原因，能夠適用于大型處理容器的防止散熱構(gòu)造。抑制散熱單元(105)以覆蓋處理容器(101)的各側(cè)壁(101b)的外壁面的一部分或大致全部面的方式沿著側(cè)壁(101b)配置。抑制散熱單元(105)由多個板材(106)構(gòu)成，各板材(106)安裝在隔離件(107)上，該隔離件(107)配設(shè)于處理容器(101)的側(cè)壁(101b)的外壁面。各板材(106)通過插裝隔離件(107)而與處理容器(101)隔開間隔地安裝，從而在中間形成空氣隔熱部(180)。
文檔編號H01J37/32GK102194638SQ20111004200
公開日2011年9月21日 申請日期2011年2月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月24日
發(fā)明者笠原稔大 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社