專利名稱：束流傳輸系統(tǒng)及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是涉及一種束流傳輸系統(tǒng)及方法。
背景技術(shù)：
在許多制造領(lǐng)域中都需要對(duì)離子束或電子束進(jìn)行傳輸控制。例如，離子注入方法 用來把通常稱之為雜質(zhì)的原子或分子引入靶標(biāo)基片，從而改變基片材料的性能，如金屬軸 承通過離子注入引入其他材料，可以提高其耐磨性，延長(zhǎng)使用壽命；離子鍍膜方法是把離子 材料沉淀在工件表面，從而改變工件表面的物理和化學(xué)性能，如光學(xué)器件或顯示設(shè)備的制 造，就需要采用厚度可控、表面性能預(yù)定的薄膜沉積的工藝，以提高其光學(xué)性能。尤其令人感興趣的是，用離子注入法在單晶或多晶硅中摻雜，是制造現(xiàn)代集成電 路中使用的一種常規(guī)工藝過程。由于半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)逐漸趨向較大晶圓(從8英寸到12 英寸，而現(xiàn)在已向18英寸發(fā)展)的工藝，單晶圓工藝(一次處理一片晶圓)最近已被廣泛 地采用。晶圓工件越大，注入所需的時(shí)間就越長(zhǎng)，因此要想達(dá)到一定的注入劑量均勻性和注 入角度均勻性也變得越來越困難。在離子束應(yīng)用領(lǐng)域，掃描離子束一般有兩種方式電掃描和磁掃描。對(duì)于高導(dǎo)流系 數(shù)的離子束傳輸，一般不能使用任何電掃描裝置，而是使用磁掃描或不掃描離子束。磁掃描 一般使用的是二極磁鐵，其可在瞬間偏轉(zhuǎn)離子束，但在該偏轉(zhuǎn)方向上二極磁鐵的聚焦效果 很弱，而且在與該偏轉(zhuǎn)維度相垂直的另外一個(gè)維度上還表現(xiàn)為散焦效應(yīng)，所以如果要使束 流保持一定的發(fā)散角度和傳輸效率，就需要另外再增設(shè)其他束流光學(xué)器件對(duì)其進(jìn)行聚焦， 這樣將導(dǎo)致束流傳輸路徑變長(zhǎng)，對(duì)束流的傳輸效率不利。眾所周知的是，當(dāng)離子束通過四極磁鐵時(shí)，四極磁鐵對(duì)離子束在某一個(gè)維度上的 聚焦效應(yīng)較強(qiáng)，而在與該聚焦維度相垂直的另一個(gè)維度上則表現(xiàn)為散焦，因而可以考慮連 續(xù)設(shè)置兩組由四極磁鐵組成的束流光學(xué)聚焦單元，由此使通過的離子束在兩個(gè)相互垂直的 維度上均產(chǎn)生較強(qiáng)的聚焦效果。因此，由上述內(nèi)容可知，若希望同時(shí)實(shí)現(xiàn)對(duì)束流的掃描和聚焦，則必然需要結(jié)合采 用兩組甚至兩組以上的束流光學(xué)器件，這將導(dǎo)致束流傳輸路徑進(jìn)一步變長(zhǎng)，對(duì)束流的傳輸 效率更加不利。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中無法通過單一束流光學(xué)器件同 時(shí)實(shí)現(xiàn)束流的掃描和聚焦的缺陷，提供一種利用桿狀四極磁鐵同時(shí)實(shí)現(xiàn)束流的掃描和聚焦 的束流傳輸系統(tǒng)及方法。本發(fā)明是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的一種束流傳輸系統(tǒng)，其包括 一束流出射裝置和一作為束流傳輸終點(diǎn)的目標(biāo)工件，其特點(diǎn)在于，在該束流出射裝置和該 目標(biāo)工件之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別位于束流路徑兩側(cè)的第一桿狀四極磁鐵，該兩個(gè) 第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為一第一預(yù)設(shè)值，且該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在一預(yù)設(shè)上限和一預(yù)設(shè)下限之間不斷改變。較佳地，在該對(duì)第一桿狀四極磁鐵與該目標(biāo)工件之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別 位于束流路徑兩側(cè)的第二桿狀四極磁鐵，該對(duì)第二桿狀四極磁鐵的設(shè)置方向與該對(duì)第一桿 狀四極磁鐵相垂直，且該兩個(gè)第二桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值相等且之和保持為一第
二預(yù)設(shè)值。較佳地，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵位于該對(duì)第二桿狀四極磁鐵的焦點(diǎn)處。其中，該束流出射裝置為一離子源或一電子源。較佳地，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵的鐵芯長(zhǎng)度方向與束流橫截面上一需要聚焦或散 焦的方向平行。較佳地，該束流傳輸系統(tǒng)還包括設(shè)于該目標(biāo)工件處的一束流診斷設(shè)備，用于測(cè)量 束流的強(qiáng)度分布和角度分布，并將測(cè)得數(shù)據(jù)反饋至用于控制該對(duì)第一桿狀四極磁鐵的計(jì)算 機(jī)。較佳地，該束流傳輸系統(tǒng)還包括設(shè)于該目標(biāo)工件處的一束流診斷設(shè)備，用于測(cè)量 束流的強(qiáng)度分布和角度分布，并將測(cè)得數(shù)據(jù)反饋至用于控制該對(duì)第一桿狀四極磁鐵和該對(duì) 第二桿狀四極磁鐵的計(jì)算機(jī)。本發(fā)明的另一技術(shù)方案為一種利用上述束流傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的束流傳輸方法，其 特點(diǎn)在于，使該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為該第一預(yù)設(shè)值，且使 該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在該預(yù)設(shè)上限和該預(yù)設(shè)下限之間不斷改變， 在該方法中，束流由該束流出射裝置出射后，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流聚焦或散焦，并 使束流在與該聚焦或散焦的維度相垂直的維度內(nèi)不斷往復(fù)掃描，而后注入該目標(biāo)工件。較佳地，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流在其需要聚焦或散焦的維度內(nèi)聚焦或散 焦ο較佳地，在該目標(biāo)工件處設(shè)置一束流診斷設(shè)備，利用該束流診斷設(shè)備測(cè)量束流的 強(qiáng)度分布和角度分布，并基于該測(cè)得數(shù)據(jù)調(diào)整該對(duì)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值， 以使束流到達(dá)該目標(biāo)工件時(shí)的強(qiáng)度分布和角度分布符合預(yù)設(shè)要求。本發(fā)明的又一技術(shù)方案為一種利用上述束流傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的束流傳輸方法，其 特點(diǎn)在于，使該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為該第一預(yù)設(shè)值，且使 該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在該預(yù)設(shè)上限和該預(yù)設(shè)下限之間不斷改變， 且使該兩個(gè)第二桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值相等且之和保持為該第二預(yù)設(shè)值，在該方 法中，束流由該束流出射裝置出射后，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流聚焦或散焦，并使束流 在與該聚焦或散焦的維度相垂直的維度內(nèi)不斷往復(fù)掃描，然后該對(duì)第二桿狀四極磁鐵使束 流在該掃描維度內(nèi)聚焦或散焦，而后注入該目標(biāo)工件。較佳地，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流在其需要聚焦或散焦的維度內(nèi)聚焦或散
焦ο較佳地，在該目標(biāo)工件處設(shè)置一束流診斷設(shè)備，利用該束流診斷設(shè)備測(cè)量束流的 強(qiáng)度分布和角度分布，并基于該測(cè)得數(shù)據(jù)調(diào)整該對(duì)第一桿狀四極磁鐵和該對(duì)第二桿狀四 極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值，以使束流到達(dá)該目標(biāo)工件時(shí)的強(qiáng)度分布和角度分布符合預(yù)設(shè)要 求。較佳地，該對(duì)第二桿狀四極磁鐵將束流在該掃描維度內(nèi)校正至平行傳播。
本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于本發(fā)明通過設(shè)置一對(duì)第一桿狀四極磁鐵，并且通過 對(duì)其線圈內(nèi)的電流值進(jìn)行特別控制，在該單一束流光學(xué)器件的作用范圍內(nèi)同時(shí)實(shí)現(xiàn)了束流 在一個(gè)維度上的聚焦、以及在與該聚焦維度相垂直的另一個(gè)維度上的往復(fù)掃描；另外，通過 在該對(duì)第一桿狀四極磁鐵之后再設(shè)置一對(duì)第二桿狀四極磁鐵，本發(fā)明的該系統(tǒng)還能夠在束 流到達(dá)目標(biāo)工件之前對(duì)其在該掃描維度內(nèi)進(jìn)行聚焦，以校正束流角度。因此，本發(fā)明能夠通 過控制一對(duì)或兩對(duì)桿狀四極磁鐵的電流大小，控制束流的強(qiáng)度分布和角度分布，從而提高 束流的利用效率，更方便地優(yōu)化束流的劑量和角度的均勻性，同時(shí)得益于桿狀四極磁鐵的 聚焦效應(yīng)，還可以提高束流的傳輸效率和到達(dá)工件時(shí)的束流強(qiáng)度。


圖Ia為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的第一實(shí)施例的側(cè)視圖。圖Ib為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的第一實(shí)施例的俯視圖。圖2為本發(fā)明中的一對(duì)桿狀四極磁鐵對(duì)束流的聚焦效應(yīng)示意圖。圖3為本發(fā)明中的一對(duì)桿狀四極磁鐵對(duì)束流的偏轉(zhuǎn)效應(yīng)示意圖。圖如為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的第二實(shí)施例的側(cè)視圖。圖4b為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的第二實(shí)施例的俯視圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖給出本發(fā)明較佳實(shí)施例，以詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案。圖Ia和圖Ib所示分別為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的第一實(shí)施例的側(cè)視圖和俯視 圖。由束流出射裝置1出射的束流在束流路徑上經(jīng)過傳輸之后，最終按照預(yù)設(shè)的強(qiáng)度分布 和角度分布要求到達(dá)目標(biāo)工件4處以對(duì)工件完成加工制程。該束流出射裝置1可以為一離 子源或一電子源，相應(yīng)地，傳輸?shù)氖鲃t可以為離子束或電子束。本發(fā)明在該束流出射裝置 1和該目標(biāo)工件4之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別位于束流路徑兩側(cè)的第一桿狀四極磁鐵 21、22。該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵21、22均由桿狀鐵芯以及繞于鐵芯上的電磁線圈構(gòu)成， 其中，該桿狀鐵芯可以為長(zhǎng)方體，或者在鐵芯的長(zhǎng)度方向上具有一定弧度的近似長(zhǎng)方體，或 者鐵芯的橫截面也可以呈近似矩形，在桿狀鐵芯不是標(biāo)準(zhǔn)長(zhǎng)方體的情況下，設(shè)置于束流路 徑兩側(cè)的該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵21、22仍然需要保持形狀對(duì)稱。上述各種衍生類型的四 極磁鐵組均能夠?qū)崿F(xiàn)相同的聚焦或散焦以及偏轉(zhuǎn)效應(yīng)，以下將對(duì)此做詳細(xì)說明。當(dāng)一對(duì)桿狀四極磁鐵的線圈通電后，會(huì)對(duì)從其間通過的束流在某一維度上產(chǎn)生聚 焦或散焦效應(yīng)，圖2(其中的桿狀四極磁鐵為側(cè)視)所示為聚焦效應(yīng)中的一個(gè)特例，即束流 由該對(duì)桿狀四極磁鐵的焦點(diǎn)處出射，在通過該對(duì)桿狀四極磁鐵后在圖2的紙面維度內(nèi)被聚 焦為平行束流。一對(duì)桿狀四極磁鐵的聚焦或散焦能力基本上僅與它們的線圈電流值(定義 為電流的大小，與電流方向無關(guān))之和有關(guān)，只要電流值之和保持不變，則它們對(duì)從其間通 過的束流的聚焦或散焦效應(yīng)也基本不發(fā)生改變。而一對(duì)桿狀四極磁鐵對(duì)束流的偏轉(zhuǎn)效應(yīng) 則與它們各自的線圈電流值均相關(guān)，當(dāng)兩者的電流值相等時(shí)，對(duì)束流無偏轉(zhuǎn)作用，當(dāng)兩者的 電流值不相等時(shí)，則會(huì)使束流發(fā)生偏轉(zhuǎn)，且電流值相差越大，對(duì)束流的偏轉(zhuǎn)作用就越強(qiáng)，圖 3(其中的桿狀四極磁鐵為俯視)所示即為束流在一對(duì)桿狀四極磁鐵的作用下在圖3的紙面維度內(nèi)發(fā)生偏轉(zhuǎn)的示意圖，但在該偏轉(zhuǎn)的過程中，束流在與圖3的紙面維度相垂直的維度 內(nèi)的分布狀態(tài)基本不會(huì)發(fā)生改變。由此可以推知，若不斷地改變兩個(gè)桿狀四極磁鐵的電流 值之間的差距，則可以使束流不斷地發(fā)生不同程度的偏轉(zhuǎn)，從而便能夠?qū)崿F(xiàn)束流的掃描；更 進(jìn)一步地，若在不斷地改變電流值之差的同時(shí)，還始終保持電流值之和不變，則能夠在實(shí)現(xiàn) 束流掃描的同時(shí)保持穩(wěn)定不變的聚焦或散焦性能。在圖Ia和圖Ib所示的實(shí)施例中，根據(jù)對(duì)束流的強(qiáng)度分布和角度分布的要求，將該 兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵21、22的線圈內(nèi)的電流值之和保持為一第一預(yù)設(shè)值，以在圖Ia的紙 面維度內(nèi)實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)程度的聚焦效應(yīng)，減少束流在該維度內(nèi)的損失；同時(shí)，使該兩個(gè)第一桿狀 四極磁鐵21、22的線圈內(nèi)的電流值均在一預(yù)設(shè)上限和一預(yù)設(shè)下限之間不斷改變，由此不斷 地改變它們之間的電流值之差，以在圖Ib的紙面維度內(nèi)實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)幅度的掃描效果，例如圖 Ib中的實(shí)線可以表示某一時(shí)刻下的束流軌跡，而虛線則可以表示另一時(shí)刻下的束流軌跡。 掃描動(dòng)作使得束流在目標(biāo)工件4處能夠覆蓋更大的加工范圍，并且有利于滿足工件處對(duì)束 流的均勻度要求，而聚焦動(dòng)作又能使得束流的傳輸損失降低，并且在工件處獲得更理想的 強(qiáng)度和角度分布。當(dāng)工件尺寸較小，能夠被束流所覆蓋時(shí)，無需使工件進(jìn)行任何機(jī)械掃描運(yùn) 動(dòng)便可以便捷迅速地完成加工；而當(dāng)工件尺寸較大，部分超出了束流的覆蓋范圍時(shí)，也只需 使工件進(jìn)行較短距離的一維或二維機(jī)械掃描運(yùn)動(dòng)即可，大大地縮短了制程耗時(shí)，提高了工 作效率。當(dāng)然，根據(jù)不同制程的要求，該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵21、22也可以被設(shè)置為執(zhí)行 散焦功能，同時(shí)在與該散焦維度相垂直的維度內(nèi)執(zhí)行掃描功能。由于從束流出射裝置1出射的束流在各個(gè)維度上的發(fā)散程度往往是不同的，因此 可以將該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22的鐵芯長(zhǎng)度方向(圖Ia紙面內(nèi)的豎直方向，以及圖Ib 的垂直紙面方向)設(shè)置為與束流橫截面上某一需要聚焦的方向平行，從而使得束流在其需 要聚焦的維度上獲得較佳的聚焦效果，提高了束流的傳輸效率和最終到達(dá)目標(biāo)工件4的束 流強(qiáng)度。類似地，當(dāng)根據(jù)制程要求需要束流在某一維度上散焦時(shí)，也可以相應(yīng)地將該對(duì)第一 桿狀四極磁鐵21、22的鐵芯長(zhǎng)度方向設(shè)置為與束流橫截面上該需要散焦的方向平行。在不同的加工制程中，為了使得束流在最終到達(dá)工件時(shí)的強(qiáng)度分布和角度分布能 夠更加精確地符合特定的制程需要，有必要對(duì)該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22的電流值進(jìn)行 相應(yīng)的精確設(shè)定，以使得束流在傳輸過程中得到合適程度的聚焦并執(zhí)行合適程度的掃描。 該精確設(shè)定的特定電流值組合需要通過反復(fù)的調(diào)試摸索獲得，因此，可以在目標(biāo)工件4處 設(shè)置一束流診斷設(shè)備，用于測(cè)量束流在到達(dá)工件時(shí)的強(qiáng)度分布和角度分布，并將測(cè)得數(shù)據(jù) 反饋至用于控制該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22的計(jì)算機(jī)，通過對(duì)電流值進(jìn)行調(diào)節(jié)、測(cè)量束 流參數(shù)、反饋數(shù)據(jù)、再次調(diào)節(jié)的不斷循環(huán)調(diào)試，最終便可以獲得完全符合預(yù)設(shè)要求的束流。在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上，如圖如和圖4b所示，還可以較佳地在該對(duì)第一桿狀四極 磁鐵21、22與該目標(biāo)工件4之間設(shè)置一對(duì)相互平行的、分別位于束流路徑兩側(cè)的第二桿狀 四極磁鐵31、32，該對(duì)第二桿狀四極磁鐵31、32的設(shè)置方向(其鐵芯長(zhǎng)度方向?yàn)閳D如中的 垂直紙面方向以及圖4b紙面平面內(nèi)的豎直方向)與該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22相垂直。 將該兩個(gè)第二桿狀四極磁鐵31、32的線圈內(nèi)的電流值設(shè)置為相等并且保持其二者之和恒 定為一第二預(yù)設(shè)值。由此，該對(duì)第二桿狀四極磁鐵31、32便可以使束流在離開第一桿狀四 極磁鐵21、22之后，在其掃描維度內(nèi)被聚焦，從而不但在該維度內(nèi)減少了束流損失，還可以 校正束流到達(dá)工件時(shí)的角度，使其達(dá)到預(yù)設(shè)的注入角度及角度均勻性的要求。當(dāng)然，根據(jù)不同制程的要求，該兩個(gè)第二桿狀四極磁鐵31、32也可以被設(shè)置為執(zhí)行散焦功能。特別地，當(dāng) 該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22恰好位于該對(duì)第二桿狀四極磁鐵31、32的焦點(diǎn)處時(shí)，該對(duì)第 二桿狀四極磁鐵31、32能夠?qū)⑹髟谄鋻呙杈S度內(nèi)校正至平行傳播(如圖4b所示)。類似 地，在該實(shí)施例中同樣可以設(shè)置束流診斷設(shè)備，來測(cè)量工件處束流的強(qiáng)度分布和角度分布， 并將測(cè)得數(shù)據(jù)反饋至用于控制該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22和該對(duì)第二桿狀四極磁鐵31、 32的計(jì)算機(jī)，在不斷地執(zhí)行對(duì)電流值的調(diào)節(jié)、測(cè)量束流參數(shù)、反饋數(shù)據(jù)、再次調(diào)節(jié)的循環(huán)調(diào) 試后，便可以摸索得到符合當(dāng)前實(shí)際制程需要的該對(duì)第一桿狀四極磁鐵21、22以及該對(duì)第 二桿狀四極磁鐵31、32的特定電流值組合，從而最終在工件處獲得完全符合預(yù)設(shè)要求的束 流。綜上所述，本發(fā)明可以通過控制一對(duì)或兩對(duì)桿狀四極磁鐵的電流值，控制束流的 強(qiáng)度分布和角度分布，從而提高束流的利用效率，更方便地優(yōu)化束流的劑量和角度的均勻 性，同時(shí)由于桿狀四極磁鐵的聚焦效應(yīng)，還可以提高束流的傳輸效率和到達(dá)工件時(shí)的束流強(qiáng)度。雖然以上描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，這些 僅是舉例說明，本發(fā)明的保護(hù)范圍是由所附權(quán)利要求書限定的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背 離本發(fā)明的原理和實(shí)質(zhì)的前提下，可以對(duì)這些實(shí)施方式做出多種變更或修改，但這些變更 和修改均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種束流傳輸系統(tǒng)，其包括一束流出射裝置和一作為束流傳輸終點(diǎn)的目標(biāo)工件，其 特征在于，在該束流出射裝置和該目標(biāo)工件之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別位于束流路徑 兩側(cè)的第一桿狀四極磁鐵，該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為一第一 預(yù)設(shè)值，且該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在一預(yù)設(shè)上限和一預(yù)設(shè)下限之間 不斷改變。
2.如權(quán)利要求1所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，在該對(duì)第一桿狀四極磁鐵與該目 標(biāo)工件之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別位于束流路徑兩側(cè)的第二桿狀四極磁鐵，該對(duì)第二 桿狀四極磁鐵的設(shè)置方向與該對(duì)第一桿狀四極磁鐵相垂直，且該兩個(gè)第二桿狀四極磁鐵的 線圈內(nèi)的電流值相等且之和保持為一第二預(yù)設(shè)值。
3.如權(quán)利要求1或2所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，該束流出射裝置為一離子源或 一電子源。
4.如權(quán)利要求1或2所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵的鐵芯 長(zhǎng)度方向與束流橫截面上一需要聚焦或散焦的方向平行。
5.如權(quán)利要求1所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，該束流傳輸系統(tǒng)還包括設(shè)于該目 標(biāo)工件處的一束流診斷設(shè)備，用于測(cè)量束流的強(qiáng)度分布和角度分布，并將測(cè)得數(shù)據(jù)反饋至 用于控制該對(duì)第一桿狀四極磁鐵的計(jì)算機(jī)。
6.如權(quán)利要求2所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，該束流傳輸系統(tǒng)還包括設(shè)于該目 標(biāo)工件處的一束流診斷設(shè)備，用于測(cè)量束流的強(qiáng)度分布和角度分布，并將測(cè)得數(shù)據(jù)反饋至 用于控制該對(duì)第一桿狀四極磁鐵和該對(duì)第二桿狀四極磁鐵的計(jì)算機(jī)。
7.一種利用權(quán)利要求1所述的束流傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的束流傳輸方法，其特征在于，使該 兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為該第一預(yù)設(shè)值，且使該兩個(gè)第一桿狀 四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在該預(yù)設(shè)上限和該預(yù)設(shè)下限之間不斷改變，在該方法中，束 流由該束流出射裝置出射后，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流聚焦或散焦，并使束流在與該 聚焦或散焦的維度相垂直的維度內(nèi)不斷往復(fù)掃描，而后注入該目標(biāo)工件。
8.如權(quán)利要求7所述的束流傳輸方法，其特征在于，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流在 其需要聚焦或散焦的維度內(nèi)聚焦或散焦。
9.如權(quán)利要求7或8所述的束流傳輸方法，其特征在于，在該目標(biāo)工件處設(shè)置一束流診 斷設(shè)備，利用該束流診斷設(shè)備測(cè)量束流的強(qiáng)度分布和角度分布，并基于該測(cè)得數(shù)據(jù)調(diào)整該 對(duì)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值，以使束流到達(dá)該目標(biāo)工件時(shí)的強(qiáng)度分布和角度分 布符合預(yù)設(shè)要求。
10.一種利用權(quán)利要求2所述的束流傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的束流傳輸方法，其特征在于，使該 兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為該第一預(yù)設(shè)值，且使該兩個(gè)第一桿狀 四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在該預(yù)設(shè)上限和該預(yù)設(shè)下限之間不斷改變，且使該兩個(gè)第二 桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值相等且之和保持為該第二預(yù)設(shè)值，在該方法中，束流由該 束流出射裝置出射后，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流聚焦或散焦，并使束流在與該聚焦或 散焦的維度相垂直的維度內(nèi)不斷往復(fù)掃描，然后該對(duì)第二桿狀四極磁鐵使束流在該掃描維 度內(nèi)聚焦或散焦，而后注入該目標(biāo)工件。
11.如權(quán)利要求10所述的束流傳輸方法，其特征在于，該對(duì)第一桿狀四極磁鐵使束流 在其需要聚焦或散焦的維度內(nèi)聚焦或散焦。
12.如權(quán)利要求10或11所述的束流傳輸方法，其特征在于，在該目標(biāo)工件處設(shè)置一束 流診斷設(shè)備，利用該束流診斷設(shè)備測(cè)量束流的強(qiáng)度分布和角度分布，并基于該測(cè)得數(shù)據(jù)調(diào) 整該對(duì)第一桿狀四極磁鐵和該對(duì)第二桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值，以使束流到達(dá)該目 標(biāo)工件時(shí)的強(qiáng)度分布和角度分布符合預(yù)設(shè)要求。
13.如權(quán)利要求10或11所述的束流傳輸方法，其特征在于，該對(duì)第二桿狀四極磁鐵將 束流在該掃描維度內(nèi)校正至平行傳播。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種束流傳輸系統(tǒng)，其包括一束流出射裝置和一作為束流傳輸終點(diǎn)的目標(biāo)工件，在該束流出射裝置和該目標(biāo)工件之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別位于束流路徑兩側(cè)的第一桿狀四極磁鐵，該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值之和保持為一第一預(yù)設(shè)值，且該兩個(gè)第一桿狀四極磁鐵的線圈內(nèi)的電流值均在一預(yù)設(shè)上限和一預(yù)設(shè)下限之間不斷改變。本發(fā)明還公開了一種利用上述束流傳輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的束流傳輸方法。本發(fā)明可以通過控制一對(duì)或兩對(duì)桿狀四極磁鐵的電流值，控制束流的強(qiáng)度分布和角度分布，從而提高束流的利用效率，更方便地優(yōu)化束流的劑量和角度的均勻性，同時(shí)由于桿狀四極磁鐵的聚焦效應(yīng)，還可以提高束流的傳輸效率和到達(dá)工件時(shí)的束流強(qiáng)度。
文檔編號(hào)H01J37/30GK102110568SQ200910200780
公開日2011年6月29日 申請(qǐng)日期2009年12月25日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月25日
發(fā)明者錢鋒 申請(qǐng)人:上海凱世通半導(dǎo)體有限公司