專利名稱：Pdp濾光器及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及PDP濾光器及其制造方法，具體涉及具有改善的霧度值的PDP濾光器及其制造方法。
背景技術：
隨著現代社會越來越信息化，用于光電器件和設備的技術得到發(fā)展，并且這些器件被廣泛應用。具體而言，在諸如TV屏幕和PC監(jiān)視器的器件中廣泛使用圖像顯示器。纖薄構造的寬屏已經成為主流顯示器。
通常，等離子體顯示面板(PDP)成為通用的下一代顯示器，以替代陰極射線管(CRT)，這是因為PDP薄且具有大屏幕。PDP器件基于氣體放電現象來顯示圖像，并表現出優(yōu)異的顯示性能，例如高顯示容量、高亮度和對比度、無圖像殘留和寬視角。而且，PDP器件有利于顯示器的相對大尺寸，并且被認為是具有最適合高清顯示數字電視的優(yōu)點的薄型發(fā)光顯示器，這使得PDP器件被廣泛用作CRT的替代品。
在PDP器件中，當將直流電(DC)和交流電(AC)施加至電極時，發(fā)生氣體放電，從而產生紫外(UV)線。UV發(fā)射激發(fā)相鄰磷光體發(fā)射可見光。盡管具有以上優(yōu)點，但是PDP存在與驅動特性相關的幾個問題，包括電磁(EM)輻射的增加。PDP產生的EM輻射對人體有不利的影響，并引起電子器件如無線電話和遙控器故障。因而，為了使用這種PDP，需要例如通過屏蔽將由PDP發(fā)射的EM輻射減少至一定程度或更低。例如，可以將具有EM屏蔽功能的各種PDP濾光器用于PDP。
PDP器件包括具有發(fā)生氣體放電的放電單元的面板組件和屏蔽電磁波和近紅外線的PDP濾光器。安裝在面板組件整個表面上的PDP濾光器應該具有令人滿意的透明度。
在PDP器件中，在驅動電路和交流(AC)電極之間流動的電流和在用于等離子體放電的電極之間的高壓是產生電磁波的主要原因。由這種原因產生的電磁波主要位于30-200MHz的頻帶。通常，將在可見光區(qū)保持高透光率和低反射指數的導電膜或導電網用作屏蔽所產生的電磁波的電磁屏蔽層。
由于透明導電膜例如氧化銦錫(ITO)膜制成的電磁屏蔽層具有低電導率，導致其電磁屏蔽能力下降。相反，由導電網制成的電磁屏蔽層表現出優(yōu)異的電磁屏蔽性能。因此，主要使用由導電網制成的電磁屏蔽層。
下文中，將參考圖1A-1E描述制造包括導電網的PDP濾光器的現有方法。圖1A-1E是圖示用于說明制造PDP濾光器的現有方法的順序加工步驟的截面圖。
如圖1A所示，利用具有合適的粘合強度的膠粘劑20，將金屬薄膜30通過層合附著到透明基底10上。透明基底10通常是對苯二甲酸乙二酯(PET)膜。
如圖1B所示，通過在金屬薄膜30上涂布光刻膠和利用光刻法(曝光過程和顯影過程)使光刻膠圖案化而形成光刻膠圖案40。
如圖1C所示，通過利用光刻膠圖案40作為蝕刻掩模蝕刻金屬薄膜30而形成電磁屏蔽圖案32。
如圖1D所示，制備一側涂覆有膠粘劑55的濾光器基片75，濾光器基片75包括用于保持濾光器基片75的結構的透明基底50、涂布在透明基底50一個表面上的膠粘劑55、形成在透明基底50另一表面上的顏色校正膜60、近紅外屏蔽膜65和抗反射膜70。
如圖1E所示，PDP濾光器80通過將濾光器基片75的膠粘劑55附著至具有電磁屏蔽圖案32的透明基底10而完成。
然而，通過前述現有方法制造的PDP濾光器在改善霧度特性方面存在限制。具體而言，當形成電磁屏蔽膜時，通過形成具有粗糙表面的金屬薄膜的粘合表面來提高電磁屏蔽膜與透明基底之間的粘合強度的嘗試由于使反射光漫射而導致PDP濾光器的霧度值增加。
發(fā)明內容
為了解決上述和/或其它問題，本發(fā)明提供具有改善的霧度值的PDP濾光器。
本發(fā)明還提供一種PDP濾光器的制造方法。
本發(fā)明的其它方面和/或優(yōu)點將在以下說明中部分提出，并且部分將由于說明而變得顯而易見，或者可以從本發(fā)明的實施中獲知。
根據本發(fā)明的一個方面，提供一種PDP濾光器，所述PDP濾光器包括電磁屏蔽層，該電磁屏蔽層包括具有透明基底和形成在透明基底表面上的非電鍍膜圖案的電磁屏蔽圖案、形成在電磁屏蔽圖案上的顏色校正層和形成在透明基底另一表面上的濾光器基片。
根據本發(fā)明的另一方面，提供一種制造PDP濾光器的方法，該方法包括在透明基底的一個表面上形成非電鍍層、通過使所述非電鍍層圖案化而形成電磁屏蔽圖案、將濾光器基片附著至透明基底的另一表面上、將顏色校正層暫時附著在電磁屏蔽圖案上和通過實施熱壓過程將顏色校正層固定在電磁屏蔽圖案上。
本發(fā)明的這些和/或其它方面和優(yōu)點將通過結合附圖對以下實施例的說明而變得清楚和易于理解。
圖1A-1E是圖示用于說明制造PDP濾光器的現有方法的順序加工步驟的截面圖；圖2是圖示根據本發(fā)明示例性實施方案的PDP濾光器的截面圖；和圖3-圖9是圖示用于說明根據本發(fā)明示例性實施方案的PDP濾光器的制造方法的順序加工步驟的截面圖。
具體實施例方式
以下將具體參考本發(fā)明的示例性實施方案-附圖所示的實施例，其中相同的附圖標記始終代表相同元件。參考附圖描述示例性實施方案以說明本發(fā)明。
下文中，將參考附圖2說明本發(fā)明的示例性實施方案。
圖2是圖示根據本發(fā)明示例性實施方案的PDP濾光器的截面圖。參考圖2，根據本發(fā)明示例性實施方案的PDP濾光器包括電磁屏蔽層100、濾光器基片200和顏色校正層300。
電磁屏蔽層100包括提供在透明基底110一個表面上的電磁屏蔽層圖案130。電磁屏蔽層圖案130包括非電鍍層圖案135。在此，電磁屏蔽層圖案130還可包括位于非電鍍層圖案135一側的黑層圖案131，例如在與透明基底110相鄰的非電鍍層圖案135的下方。黑層圖案131可通過在非電鍍層圖案135側壁對齊而形成。
非電鍍層圖案135是由非電鍍方法形成的金屬層，可將屏蔽電磁波的導電材料用作非電鍍層圖案135。例如，具有優(yōu)異的導電性和可加工性的各種金屬例如銅(Cu)、鉻(Cr)、鎳(Ni)、銀(Ag)、鉬(Mo)、鎢(W)和鋁(Al)均可用作非電鍍層圖案135。這些金屬中，考慮成本、導電性和可加工性，優(yōu)選Cu和Ni。更優(yōu)選的是，Cu可用作非電鍍層圖案135。非電鍍層可不使用膠粘劑而形成在透明基底上。因此，由于在該金屬薄膜的一個表面上無需粗糙表面，這與通常需要粗糙部分以提高金屬薄膜與透明基底之間的粘合強度的現有PDP濾光器不同，因而可以改善霧值特性。
優(yōu)選電磁屏蔽層圖案130具有0.5μm-40μm的厚度。更優(yōu)選電磁屏蔽層圖案130具有3μm-10μm的厚度。當電磁屏蔽層圖案130的厚度低于約0.5μm時，會降低電磁屏蔽能力，當電磁屏蔽層圖案130具有大于約40μm的厚度時，會增加制造時間。為了吸收所有由面板組件產生的電磁波，導電電磁屏蔽層圖案需要大于一預定值的厚度。然而，由于可見光透過率隨著導電薄膜厚度增加而下降，因此優(yōu)選考慮可見光透過率來形成合適厚度的電磁屏蔽層圖案。
透明材料可用作提供在電磁屏蔽層100中的透明基底110，而沒有具體限制。例如，無機化合物成型材料如玻璃和石英以及透明有機高聚物成型材料可以用作透明基底110。更優(yōu)選的是，由于有機高聚物的重量輕和剛性特性而可使用有機高聚物。透明基底110可具有80μm-200μm的厚度。
雖然通常將丙烯酸樹脂或聚碳酸酯用作有機高聚物成型材料，但是本發(fā)明不限于此類材料。優(yōu)選透明基底110具有高透明度和耐熱特性。具有分層層壓體的高聚物成型材料可被用作透明基底110。優(yōu)選透明基底110在透明度方面具有80％或更高的可見光透過率，在耐熱性方面具有約60℃的玻璃化轉變溫度。高聚物成型材料在可見波長區(qū)域是應該透明的就足夠了。所述高聚物成型材料的實例包括PET、聚砜(PS)、聚醚砜(PES)、聚苯乙烯、聚乙烯、聚萘二酸酯、聚芳酯、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚酰亞胺、三乙酰纖維素(TAC)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。然而，高聚物成型材料不限于此。其中，考慮成本、耐熱性和透明度，優(yōu)選PET。
而且，濾光器基片200形成在電磁屏蔽層100的表面上，具體形成在透明基底110的另一表面上。濾光器基片200可進一步包括具有光學功能的層，例如抗反射層220，其形成在透明基底210上。膠粘劑層A1可插入在電磁屏蔽層100和濾光器基片200之間。
可利用增強或半增強玻璃或透明塑料材料如丙烯酸樹脂形成厚度為2.0mm-3.5mm的透明基底210。由于該玻璃具有約2.6的比重，因此難以制造輕量化的濾光器。而且，因為玻璃相對較重，因而當將玻璃安裝在等離子體顯示面板上時，面板的整體重量增加。然而，在防止面板破裂方面，玻璃是優(yōu)異的。
在可見光區(qū)的反射指數小于1.5、優(yōu)選小于1.4的薄膜例如氟基透明高聚物樹脂、MgF、硅基樹脂或SiO2可被用作抗反射層220。在此，抗反射層可形成1/4波長光學厚度的單層。作為替代方案，抗反射層可形成為具有不同反射指數的兩層或更多層，可以是無機化合物例如金屬氧化物、氟化物、硅化物、硼化物、碳化物、氮化物和硫化物，或者是有機化合物例如硅基樹脂、丙烯酸樹脂和氟基樹脂。
在透明基底210的一個表面附著至電磁屏蔽層100之后，抗反射層220可形成在透明基底210的另一表面上。
例如，在本發(fā)明的示例性實施方案中，抗反射層220可具有通過交替層疊低反射指數的氧化物膜例如SiO2和高反射指數的氧化物膜例如TiO2或Nb2O5所得到的結構。這些氧化物膜可通過濺射或濕涂布而形成。抗反射層220具有20nm-300nm的厚度。
而且，顏色校正層300提供在電磁屏蔽層100的另一表面上，具體是在電磁屏蔽層圖案130上。顏色校正層300可利用膠粘劑層A2附著至電磁屏蔽層100。如圖9所示，可形成膠粘劑層A2以填充電磁屏蔽層圖案130的空隙。雖然顏色校正層130可以是具有氖光屏蔽功能和近紅外屏蔽功能的雜化膜，但是可以單獨形成氖光屏蔽層和近紅外屏蔽層。顏色校正層300具有5μm-150μm的厚度。
當單獨提供氖光屏蔽層和近紅外屏蔽層以構成顏色校正層300時，因為氖光屏蔽層用來將橙色校正為紅色，因此更優(yōu)選使面板組件內產生的可見光先通過氖光屏蔽層進行顏色校正，再通過近紅外屏蔽層進行顏色校正。
顏色校正層300增加顯示的顏色再現范圍，可將具有選擇性吸收的顏料用于顏色校正層，以吸收不必要發(fā)射的580nm-600nm的橙色光，由此改善屏幕的清晰度(difinition)。
而且，為了屏蔽由面板組件所產生并且引起電子設備例如無線電話或遙控器故障的近紅外光，可將含有吸收近紅外區(qū)波長的近紅外光吸收顏料的高聚物樹脂用于顏色校正層300。因為PDP器件發(fā)射寬波長區(qū)域的強近紅外光，因此必須使用可吸收寬波長區(qū)域近紅外光的近紅外吸收顏料。
例如，在本發(fā)明的示例性實施方案中，可將至少一種顏料例如蒽醌基顏料、銨基顏料、聚碳炔基顏料、偶氮基顏料和有機顏料用于顏色校正層300。用于顏色校正層300的顏料不限于上述顏料。不將顏料限制在具體值是因為顏料的濃度和類型取決于顯示所需的吸收波長、吸收效率和透光特性。當使用有機顏料時，在改善PDP濾光器的霧值特性方面比無機顏料更為有利。
而且，雖然沒有示出，但是根據本發(fā)明的另一示例性實施方案，可進一步提供透明層以填充電磁屏蔽層圖案130的空白部分。在此，可在形成在透明層上的膠粘劑層上形成顏色校正層。
可將透明膠粘劑用作插入在各層或各膜之間的膠粘劑。膠粘劑的例子包括丙烯酸膠粘劑、硅膠粘劑、氨酯膠粘劑、PMB膠粘劑、乙烯-乙酸乙烯酯基膠粘劑(EVA)、聚乙烯基醚、飽和無定形聚酯和蜜胺樹脂。
以下，并未描述的用于“非電鍍核膜”125是指非電鍍核膜并且是非黑部分。
在根據本發(fā)明示例性實施方案的PDP濾光器中，因為使用包括非電鍍層圖案和包括有機顏料的顏色校正層的電磁屏蔽層，因此可以得到低于2.2％的霧度值，因而可以改善霧度特性。
下文中，將參考圖3-9來描述制造圖2所示的PDP濾光器的方法。本發(fā)明中本領域技術人員公知的方法步驟將簡要說明，以避免對本發(fā)明的模糊誤解。而且，包括在制造PDP濾光器的方法中的PDP濾光器的各元件將基本與上述元件相同，并使用相同的附圖標記指示相同元件。因此，將省略或簡要描述重復的說明。
如圖3所示，在透明基底110上形成多孔高聚物膜120。
透明親水材料被用作多孔高聚物膜120，其中透明親水材料的例子包括乙烯醇基樹脂、丙烯酸基樹脂和纖維素基樹脂。多孔高聚物膜120的材料不限于上述例子。多孔高聚物膜120可通過旋涂、輥涂、浸漬和棒涂而形成在透明基底110的一個表面上。多孔高聚物膜120具有0.2μm-2μm的厚度。
接著，如圖4所示，形成非電鍍核膜125。多孔高聚物膜可以是非電鍍核膜125，以使非電鍍核膜125形成在多孔高聚物膜120中，如圖3所示。非電鍍核膜125不限于多孔高聚物膜。例如，雖然沒有示出，但是非電鍍核膜可以層疊在多孔高聚物膜的表面上。在此，非電鍍核可以是化學鍍催化劑，例如Pd或Ag。
此時，化學鍍催化劑用作在鍍覆過程中刺激金屬結晶生長的催化劑。當鍍Cu、Ni或Au時，優(yōu)選通過金屬基過程制備非電鍍核。而且，Ag基溶液、Pd基溶液或這兩者溶液的混合物可用作金屬基溶液。因為由金屬顆粒例如Pd或Ag形成的非電鍍核膜125具有在非電鍍過程中作為催化劑的足夠活性，從而通過鍍覆刺激金屬結晶生長。因而可以得到具有更緊密結晶的金屬圖案。
形成這種非電鍍核膜125的方法的實例包括在化學鍍催化劑溶液中浸漬多孔高聚物膜，以使化學鍍催化劑可滲入多孔高聚物膜或吸附進多孔高聚物膜表面中。
接著，如圖5所示，在非電鍍核膜25上形成非電鍍層135a。此時，非電鍍核膜125可由于金屬組分而變黑，以形成黑層131a。因此，在本發(fā)明示例性實施方案中，形成黑層無需任何單獨步驟。顯然，如有必要，黑層可通過單獨步驟形成。
非電鍍層135a是由非電鍍方法形成的金屬層，并且可將能夠屏蔽電磁波的導電金屬用作非電鍍層135a。例如，具有優(yōu)異導電性和可加工性的各種金屬例如Cu、Cr、Ni、Ag、Mo、W和Al均可用作非電鍍層135a。上述金屬中，考慮成本、導電性和可加工性，優(yōu)選Cu和Ni。更優(yōu)選的是，可將Cu用作非電鍍層135a。
接著，如圖6所示，在非電鍍層135a上形成掩模圖案140，隨后圖案化以形成如圖7所示的電磁屏蔽圖案130，其中電磁屏蔽圖案130包括提供在黑層圖案131上的非電鍍圖案135。此時，可利用硝酸和FeCl3使掩模圖案40圖案化。將由于掩模圖案140的圖案化過程而通過掩模圖案140曝光的非電鍍層沿著形成在曝光的非電鍍層下方的黑層的變黑組分而移除，使得非電鍍核膜125可部分恢復。因此，可以形成黑層，從而僅保留在非電鍍層135的下方區(qū)域中。
隨后，如圖8所示，將濾光器基片200附著至電磁屏蔽層100的一個表面上。具體而言，濾光器基片200可被附著至電磁屏蔽層100的透明基底110的表面上，也就是未形成電磁屏蔽層130時的透明基底110的表面。
電磁屏蔽層100和濾光器基片200可通過膠粘劑相互附著。膠粘劑層A1可形成在濾光器基片200或電磁屏蔽層100的一個表面上。
此時，可形成具有光學功能的濾光器基片200。例如，可在透明基底210上額外形成具有光學功能的層如抗反射層220。而且，雖然沒有示出，但是濾光器基片200可具有抗反射功能以外的其它光學功能。
在此，可很容易地制造單層的抗反射層220，但是其抗反射功能低于多層的。多層抗反射層具有覆蓋寬波長區(qū)域的抗反射功能。當抗反射層220由無機化合物薄膜形成時，抗反射層可通過現有已知方法例如濺射、離子鍍、離子束輔助、真空沉積和濕涂布來形成。當抗反射層220由有機化合物薄膜形成時，抗反射層220可通過現有已知方法如濕涂布來形成。濾光器基片200可附著至電磁屏蔽層100，此時抗反射層220附著至透明基底210。作為替代方案，在電磁屏蔽層100可附著至用于濾光器基片的透明基底210的表面之后，抗輻射層220可形成在用于濾光器基片的透明基底210的另一表面上。
根據本發(fā)明示例性實施方案的抗反射層220可形成為交替堆疊的低反射指數氧化物膜例如SiO2和高反射指數氧化物例如TiO2和Nb2O5。氧化物膜可通過濺射或濕涂布而形成?？狗瓷鋵?20具有20nm-300nm的厚度。
接著，如圖9所示，將顏色校正層300暫時附著在電磁屏蔽層100上。具體而言，可利用膠粘劑層A2將顏色校正層300暫時附著在電磁屏蔽層100上。此時，顏色校正層300可以是具有氖光屏蔽功能和近紅外屏蔽功能的雜化膜，但是氖光屏蔽層和近紅外屏蔽層可單獨形成。而且，膠粘劑層A2可形成在電磁屏蔽層100或顏色校正層300的一個表面上。
顏色校正層300可通過濕涂布氖光屏蔽顏料和/或近紅外屏蔽顏料而在PET基底上制造。
隨后，進行熱壓過程。盡管沒有示出，但是暫時附著在電磁屏蔽層100上的顏色校正層300可通過熱壓過程而完全附著至電磁屏蔽層100，由此電磁屏蔽層和顏色校正層可相互固定。在本發(fā)明的示例性實施方案中，因為電磁屏蔽層和顏色校正層以諸如暫時附著過程和熱壓過程的兩步驟相互附著，因此可以改善霧度特性。
具體而言，在本發(fā)明示例性實施方案中，熱壓過程可在30℃以上的溫度和4Torr以上的壓力下進行，從而優(yōu)化霧度值。當溫度低于30℃時，產率下降。當壓力低于4Torr時，膠粘劑沒有完全填充在非電鍍層圖案之間，這導致產生微小氣泡，由此可降低霧度值。此外，當考慮經濟效率時，熱壓過程可在30℃-60℃的溫度和4Torr-7Torr的壓力下進行。此時，熱壓過程可進行30分鐘或更長時間。
在本發(fā)明中，當各層或各膜相互附著時，可以使用透明膠粘劑。所述膠粘劑的例子包括丙烯酸膠粘劑、硅膠粘劑、氨酯膠粘劑、PMB膠粘劑、乙烯-乙酸乙烯酯基膠粘劑(EVA)、聚乙烯醚、飽和無定形聚酯和蜜胺樹脂。
因為通過根據本發(fā)明示例性實施方案的方法制造的PDP濾光器具有改善的霧度特性，因此可以得到低于2.2％的霧度值。
如上所述，在制造根據本發(fā)明示例性實施方案的PDP濾光器的方法中，濾光器基片200附著至電磁屏蔽層100并隨后將顏色校正層300附著于其上。然而，所述方法不限于此種操作。換言之，根據本發(fā)明的另一示例性實施方案，在電磁屏蔽層100和顏色校正層300相互附著之后，可將濾光器基片200附著至電磁屏蔽層100。
下文中，將說明根據本發(fā)明示例性實施方案制造的PDP濾光器樣品的物理性能。
實驗實施例在PET基底的一個表面上形成0.5μm厚的多孔高聚物膜，隨后在Pd膠體溶液中浸漬以形成非電鍍核膜。接著，通過非電鍍方法在非電鍍核膜上形成3μm厚的CU層并隨后圖案化。接下來，將未形成非電鍍層的PET基底表面附著至形成增強玻璃黑色陶瓷的一個表面上。將膠粘劑涂布在電磁屏蔽層上，并將包括銨基有機染料的雜化膜通過粘合機暫時附著至電磁屏蔽層上。隨后，將抗反射層附著至增強玻璃的另一表面上。在50℃溫度和6.2Torr壓力下進行熱壓過程30分鐘，從而完成PDP濾光器。利用霧值計(制造商GARDNER，型號Haze-gard plus)測量PDP濾光器，結果得到1.8％的霧度值。
可比較的實驗實施例1按照與前述實驗樣品相同的方法制造PDP濾光器。不過，熱壓過程在50℃溫度和3.0Torr壓力下進行30分鐘，由此得到20％的霧度值。
可比較的實驗實施例2按照與前述實驗樣品相同的方法制造PDP濾光器，只是使用鈷基染料。熱壓過程在50℃溫度和6.2Torr壓力下進行30分鐘，由此得到3.1％的霧度值。
在前述實驗實施例中得到的PDP濾光器中，測量到1.8％的霧度特性。在可比較的實驗實施例1的情況下，熱壓過程在低于實驗實施例的壓力下進行，由此霧度特性顯著劣化。而在可比較的實驗實施例2的情況下，將對應于無機染料的鈷基染料用作顏色校正層，可以發(fā)現與使用有機染料的實驗實施例比較其霧度特性劣化。
如上所述，根據本發(fā)明，可以改善PDP濾光器的霧度特性。
雖然已經示出和描述了本發(fā)明的幾個示例性實施方案，但是本發(fā)明不限于所述的示例性實施方案。相反，本領域技術人員應該理解可對這些示例性實施方案進行變化而不偏離本發(fā)明的原理和實質，也就是由權利要求及其等價物所限定的范圍。
權利要求
1.一種PDP濾光器，包含電磁屏蔽層，其包括具有透明基底和形成在所述透明基底表面上的非電鍍層圖案的電磁屏蔽圖案；形成在電磁屏蔽圖案上的顏色校正層；和形成的所述透明基底另一表面上的濾光器基片。
2.權利要求1的PDP濾光器，其中霧度值低于2.2％。
3.權利要求1的PDP濾光器，其中所述顏色校正層是屏蔽氖光和近紅外光的雜化膜。
4.權利要求1的PDP濾光器，其中所述顏色校正層是選自蒽醌基顏料、銨基顏料、聚碳炔基顏料和偶氮基顏料的至少一種。
5.權利要求1的PDP濾光器，其中所述濾光器基片包括透明基底和形成在透明基底一個表面上的抗反射層。
6.權利要求1的PDP濾光器，還包含形成在與透明基底相鄰的電磁屏蔽圖案的一個表面上的黑層圖案。
7.一種用于制造PDP濾光器的方法，該方法包括在透明基底的一個表面上形成非電鍍層；通過使非電鍍層圖案化來形成電磁屏蔽圖案；將濾光器基片附著在透明基底的另一表面上；將顏色校正層暫時附著在電磁屏蔽圖案上；和通過實施熱壓過程，使顏色校正層固定在電磁屏蔽圖案上。
8.權利要求7的方法，其中形成非電鍍層包括在透明基底上形成非電鍍核膜；和在非電鍍核膜上形成非電鍍層。
9.權利要求8的方法，其中形成非電鍍核膜包括在透明基底上形成多孔高聚物膜；和在用于化學鍍的膠體溶液中浸漬所述多孔共聚物膜。
10.權利要求9的方法，其中所述用于化學鍍的膠體溶液是鈀(Pd)或銀(Ag)膠體溶液。
11.權利要求8的方法，其中所述非電鍍核膜在形成非電鍍層時變黑。
12.權利要求7的方法，其中所述熱壓過程在30℃以上溫度和4Torr以上壓力下進行。
13.權利要求12的方法，其中所述熱壓過程在30℃-60℃的溫度和4Torr-7Torr的壓力下進行。
14.權利要求7的方法，其中PDP濾光器的霧度值低于2.2％。
15.權利要求7的方法，其中所述顏色校正層是屏蔽氖光和近紅外光的雜化膜。
16.權利要求7的方法，其中所述顏色校正層是選自蒽醌基顏料、銨基顏料、聚碳炔基顏料和偶氮基顏料的至少一種。
17.權利要求7的方法，其中所述濾光器基片包括透明基底和形成在透明基底一個表面上的抗反射層。
全文摘要
一種PDP濾光器及其制造方法。該PDP濾光器包含電磁屏蔽層，其包括具有透明基底和形成在所述透明基底表面上的非電鍍層圖案的電磁屏蔽圖案、形成在電磁屏蔽圖案上的顏色校正層和形成的所述透明基底另一表面上的濾光器基片。
文檔編號H01J17/02GK1949441SQ20061014963
公開日2007年4月18日 申請日期2006年10月13日 優(yōu)先權日2005年10月14日
發(fā)明者申東根, 樸東炫, 徐知潤 申請人:三星康寧株式會社