一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),該方案包括有自密封裝置、抽真空單元、環(huán)境監(jiān)測單元、充氮?dú)鈫卧筒倏貑卧蛔悦芊庋b置與抽真空單元、充氮?dú)鈫卧铜h(huán)境監(jiān)測單元連接;操控單元能夠接收環(huán)境監(jiān)測單元的回傳信號并控制抽真空單元和充氮?dú)鈫卧膯⑼?。該方案結(jié)合真空自密封設(shè)備研制技術(shù)、抽真空技術(shù)、氮?dú)庵脫Q技術(shù)、真空及潔凈度環(huán)境監(jiān)測技術(shù)等多種手段,為光學(xué)傳輸通道提供了的可實(shí)現(xiàn)高真空度的自密封與潔凈的環(huán)境系統(tǒng)。
【專利說明】
一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及的是激光器技術(shù),尤其是一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科學(xué)技術(shù)發(fā)展,光學(xué)功率不斷提高,而當(dāng)光學(xué)通道在空氣中傳輸時,空氣環(huán)境中的油污、雜質(zhì)和水汽等會造成光束質(zhì)量下降,特別是長距離光束傳輸過程,會大大降低光束功率;同時如果空氣中的雜質(zhì)或油污附著在光學(xué)鏡面上,更容易造成光學(xué)鏡面的污染和破損。因此對真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng)是解決光束傳輸熱暈現(xiàn)象和內(nèi)光路鏡面防護(hù)的重要技術(shù)手段。
[0003]同時由于光學(xué)系統(tǒng)的特殊性,當(dāng)光學(xué)元件的布設(shè)平臺發(fā)生微小變形時,光路也會發(fā)生偏移,特別是對于長距離傳輸時,對光路影響更是巨大,所以為了提高光路穩(wěn)定性,對布設(shè)系統(tǒng)的剛強(qiáng)度要求也較高。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的,就是針對現(xiàn)有技術(shù)所存在的不足,而提供一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),該方案結(jié)合真空自密封設(shè)備研制技術(shù)、抽真空技術(shù)、氮?dú)庵脫Q技術(shù)、真空及潔凈度環(huán)境監(jiān)測技術(shù)等多種手段,為光學(xué)傳輸通道提供了的可實(shí)現(xiàn)高真空度的自密封與潔凈的環(huán)境系統(tǒng)。
[0005]本方案是通過如下技術(shù)措施來實(shí)現(xiàn)的:
[0006]—種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),包括有自密封裝置、抽真空單元、環(huán)境監(jiān)測單元、充氮?dú)鈫卧筒倏貑卧?;自密封裝置與抽真空單元、充氮?dú)鈫卧铜h(huán)境監(jiān)測單元連接;操控單元能夠接收環(huán)境監(jiān)測單元的回傳信號并控制抽真空單元和充氮?dú)鈫卧膯⑼!?br>[0007]作為本方案的優(yōu)選:自密封裝置包括有封蓋板、框架、光束輸入輸出端口、光路平臺、充氣口、真空口;所述封蓋板與框架之間固定連接;光路平臺與框架固定連接;光束輸入輸出端口、充氣口和真空口設(shè)置在框架上;充氣口與充氮?dú)鈫卧B接;抽氣口與抽真空單元連接;環(huán)境監(jiān)測單元設(shè)置在由框架、封蓋板和光路平臺組成的封閉區(qū)域內(nèi)。
[0008]作為本方案的優(yōu)選:框架和封蓋板之間的接觸面上設(shè)置有密封件。
[0009]作為本方案的優(yōu)選:光束輸入輸出端口與框架的接觸面上設(shè)置有密封件。
[0010]作為本方案的優(yōu)選:框架上設(shè)置有加強(qiáng)筋。
[0011]作為本方案的優(yōu)選:框架上設(shè)置有電氣連接板。
[0012]作為本方案的優(yōu)選:光路平臺與框架的接觸面上設(shè)置有密封件。
[0013]本方案的有益效果可根據(jù)對上述方案的敘述得知,由于在該方案結(jié)合光路設(shè)計(jì),材料選型、自密封結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、高剛強(qiáng)度結(jié)構(gòu)研制、裝備件清潔等多種手段,為光學(xué)傳輸通道提供了的可實(shí)現(xiàn)高真空度的自密封與潔凈的環(huán)境系統(tǒng)裝置,具有系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,自動化操作方便等優(yōu)點(diǎn)。
[0014]由此可見,本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和進(jìn)步,其實(shí)施的有益效果也是顯而易見的。
【附圖說明】
[0015]圖1為本實(shí)用新型的自密封裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0016]圖2為圖1中框架的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]圖3為本實(shí)用新型的系統(tǒng)控制圖。
[0018]圖中,I為封蓋板,2為框架,3為光路輸入輸出端口,4為密封件,5為光路平臺,6為真空口,7為加強(qiáng)筋,8為電氣連接板,9為充氣口。
【具體實(shí)施方式】
[0019]本說明書中公開的所有特征,或公開的所有方法或過程中的步驟,除了互相排斥的特征和/或步驟以外,均可以以任何方式組合。
[0020]本說明書(包括任何附加權(quán)利要求、摘要和附圖)中公開的任一特征,除非特別敘述,均可被其他等效或具有類似目的的替代特征加以替換。即,除非特別敘述,每個特征只是一系列等效或類似特征中的一個例子而已。
[0021]如圖所示,本方案包括有自密封裝置、抽真空單元、環(huán)境監(jiān)測單元、充氮?dú)鈫卧筒倏貑卧蛔悦芊庋b置與抽真空單元、充氮?dú)鈫卧铜h(huán)境監(jiān)測單元連接;操控單元能夠接收環(huán)境監(jiān)測單元的回傳信號并控制抽真空單元和充氮?dú)鈫卧膯⑼!?br>[0022]自密封裝置包括有封蓋板、框架、光束輸入輸出端口、光路平臺、充氣口、真空口;所述封蓋板與框架之間固定連接;光路平臺與框架固定連接;光束輸入輸出端口、充氣口和真空口設(shè)置在框架上;充氣口與充氮?dú)鈫卧B接;抽氣口與抽真空單元連接;環(huán)境監(jiān)測單元設(shè)置在由框架、封蓋板和光路平臺組成的封閉區(qū)域內(nèi)??蚣芎头馍w板之間的接觸面上設(shè)置有密封件。光束輸入輸出端口與框架的接觸面上設(shè)置有密封件??蚣苌显O(shè)置有加強(qiáng)筋??蚣苌显O(shè)置有電氣連接板。光路平臺與框架的接觸面上設(shè)置有密封件。
[0023]該方案結(jié)合光路設(shè)計(jì),材料選型、自密封結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、高剛強(qiáng)度結(jié)構(gòu)研制、裝備件清潔等多種手段,為光學(xué)傳輸通道提供了的可實(shí)現(xiàn)高真空度的自密封與潔凈的環(huán)境系統(tǒng)裝置,具有系統(tǒng)結(jié)構(gòu)簡單,自動化操作方便等優(yōu)點(diǎn)。
[0024]本實(shí)用新型并不局限于前述的【具體實(shí)施方式】。本實(shí)用新型擴(kuò)展到任何在本說明書中披露的新特征或任何新的組合,以及披露的任一新的方法或過程的步驟或任何新的組入口 ο
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:包括有自密封裝置、抽真空單元、環(huán)境監(jiān)測單元、充氮?dú)鈫卧筒倏貑卧?所述自密封裝置與抽真空單元、充氮?dú)鈫卧铜h(huán)境監(jiān)測單元連接;所述操控單元能夠接收環(huán)境監(jiān)測單元的回傳信號并控制抽真空單元和充氮?dú)鈫卧膯⑼!?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:所述自密封裝置包括有封蓋板、框架、光束輸入輸出端口、光路平臺、充氣口、真空口;所述封蓋板與框架之間固定連接;所述光路平臺與框架固定連接;所述光束輸入輸出端口、充氣口和真空口設(shè)置在框架上;所述充氣口與充氮?dú)鈫卧B接;所述真空口與抽真空單元連接;所述環(huán)境監(jiān)測單元設(shè)置在由框架、封蓋板和光路平臺組成的封閉區(qū)域內(nèi)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:所述框架和封蓋板之間的接觸面上設(shè)置有密封件。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:所述光束輸入輸出端口與框架的接觸面上設(shè)置有密封件。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:所述框架上設(shè)置有加強(qiáng)筋。6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:所述框架上設(shè)置有電氣連接板。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空自密封光學(xué)潔凈系統(tǒng),其特征是:所述光路平臺與框架的接觸面上設(shè)置有密封件。
【文檔編號】G02B7/00GK205643851SQ201521067129
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2015年12月21日
【發(fā)明人】吳春霞, 鮮玉強(qiáng), 陳永亮, 張 林, 嚴(yán)從林, 張偉, 陳濤, 葉長春, 蘇友斌
【申請人】中國工程物理研究院應(yīng)用電子學(xué)研究所