適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，包括：第一滑槽導(dǎo)軌組、第二滑槽導(dǎo)軌組、第一擋板及第二擋板；所述第一滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔分布的第一滑槽導(dǎo)軌；所述第二滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔排布的第二滑槽導(dǎo)軌。本實(shí)用新型的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用時(shí)即不破壞光刻機(jī)整機(jī)結(jié)構(gòu)和正常的曝光工藝，又能很好的起到遮擋紫外光的作用；且該裝置中擋板更換方便，更換時(shí)不會(huì)破壞裝置結(jié)構(gòu)；擋板的尺寸可以根據(jù)掩膜架上曝光區(qū)域的大小進(jìn)行設(shè)定，靈活性強(qiáng)。
【專利說明】
適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]接觸式光刻機(jī)，曝光時(shí)掩模壓在光刻膠的襯底晶片上，其主要優(yōu)點(diǎn)是可以使用價(jià)格較低的設(shè)備制造出較小的特征尺寸。接觸式光刻和深亞微米光源已經(jīng)達(dá)到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率為0.5gm左右。接觸式光刻機(jī)的掩模版包括了要復(fù)制到襯底上的所有芯片陣列圖形。在襯底上涂上光刻膠，并被安裝到一個(gè)由手動(dòng)控制的臺(tái)子上，臺(tái)子可以進(jìn)行X、Y方向及旋轉(zhuǎn)的定位控制。掩模版和襯底晶片需要通過分立視場(chǎng)的顯微鏡同時(shí)觀察，這樣操作者用手動(dòng)控制定位臺(tái)子就能把掩模版圖形和襯底晶片上的圖形對(duì)準(zhǔn)了。經(jīng)過紫外光曝光，光線通過掩模版透明的部分，圖形就轉(zhuǎn)移到了光刻膠上。接觸式光刻機(jī)把掩模版的圖形一次全部復(fù)制到襯底上。因此，接觸式光刻機(jī)一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其他應(yīng)用方面。
[0003]光刻是利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上，形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。
[0004]紫外光刻是用紫外光作為圖像信息載體，以光致抗蝕劑(光刻膠)為中間(圖像記錄)媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理，最終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。
[0005]SUSS ΜΑ6雙面光刻機(jī)是設(shè)計(jì)用于實(shí)驗(yàn)室擴(kuò)展研發(fā)、小批量生產(chǎn)或者試制生產(chǎn)環(huán)境下的高分辨率光刻系統(tǒng)。SUSS的ΜΑ6型光刻機(jī)被認(rèn)為是從半導(dǎo)體亞微米技術(shù)研究到三維微系統(tǒng)生產(chǎn)的全行業(yè)技術(shù)標(biāo)桿。這套創(chuàng)新的系統(tǒng)可以滿足客戶對(duì)精度、可靠性和低成本的要求。
[0006]SUSS ΜΑ6適用于所有標(biāo)準(zhǔn)光刻應(yīng)用。針對(duì)厚膠MEMS應(yīng)用，SUSS ΜΑ6提供高質(zhì)量的曝光光學(xué)系統(tǒng)來滿足高分辨以及極佳邊緣質(zhì)量的要求。功能強(qiáng)大的SUSS ΜΑ6可選裝背面對(duì)準(zhǔn)顯微鏡，該顯微鏡可幫助完成準(zhǔn)確的背面工藝。此外，SUSS ΜΑ6還能靈活定制，實(shí)現(xiàn)易碎II1-V族化合物，超薄或者翹曲晶圓的應(yīng)用。
[0007]在實(shí)際工藝中，總是遇到需要一片基片上曝光一半、四分之一或者更小區(qū)域的圖形，以便于區(qū)別比較后續(xù)工藝，比如刻蝕、濺射等等。現(xiàn)有的方法一般是采用濾光紙片遮擋，但濾光紙有幾個(gè)問題:1.紙是柔性的，可塑性差。2.—層甚至多層濾光紙都擋不住強(qiáng)烈的紫外光，效果差。3.無法定位放置，遮擋部位與理想位置差距大。在濾光紙有這么多的問題，在實(shí)際的工作中帶來很多不便，因此需要設(shè)計(jì)一個(gè)簡(jiǎn)單有效的裝置來解決接觸式光刻分區(qū)域曝光的問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0008]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本實(shí)用新型的目的在于提供一種適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，用以解決現(xiàn)存技術(shù)中使用濾光紙片遮擋而導(dǎo)致的可塑性差、遮光效果差及無法定位放置的問題。
[0009]為實(shí)現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實(shí)用新型提供一種適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置包括:第一滑槽導(dǎo)軌組、第二滑槽導(dǎo)軌組、第一擋板及第二擋板；
[0010]所述第一滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔分布的第一滑槽導(dǎo)軌;所述第一滑槽導(dǎo)軌包括第一導(dǎo)軌本體及設(shè)置于所述第一導(dǎo)軌本體上的第一滑槽;所述第一滑槽位于所述第一滑槽導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)；
[0011]所述第一擋板位于所述第一滑槽導(dǎo)軌之間，且所述第一擋板的兩端分別位于兩所述第一滑槽導(dǎo)軌上的所述第一滑槽內(nèi)，并可沿所述第一滑槽的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)；
[0012]所述第二滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔排布的第二滑槽導(dǎo)軌;所述第二滑槽導(dǎo)軌橫跨所述第一滑槽導(dǎo)軌組，并固定于所述第一滑槽導(dǎo)軌的表面，且所述第二滑槽導(dǎo)軌與所述第一滑槽導(dǎo)軌相垂直;所述第二滑槽導(dǎo)軌包括第二導(dǎo)軌本體及設(shè)置于所述第二導(dǎo)軌本體上的第二滑槽;所述第二滑槽位于所述第二滑槽導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)；
[0013]所述第二擋板位于所述第二滑槽導(dǎo)軌之間，且所述第二擋板的兩端分別位于兩所述第二滑槽導(dǎo)軌上的所述第二滑槽內(nèi)，并可沿所述第二滑道的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)。
[0014]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一滑槽的長(zhǎng)度方向與所述第一導(dǎo)軌本體的長(zhǎng)度方向一致，且所述第一滑槽自所述第一導(dǎo)軌本體的一端面延伸至另一端面。
[0015]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第二滑槽的長(zhǎng)度方向與所述第二導(dǎo)軌本體的長(zhǎng)度方向一致，且所述第二滑槽自所述第二導(dǎo)軌本體的一端面延伸至另一端面。
[0016]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一滑槽導(dǎo)軌的端面與所述第二滑槽導(dǎo)軌的外側(cè)相平齊，且所述第二滑槽導(dǎo)軌的端面與所述第一滑槽導(dǎo)軌的外側(cè)相平齊。
[0017]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一滑槽導(dǎo)軌的長(zhǎng)度大于所述第二滑槽導(dǎo)軌的長(zhǎng)度，且所述第一擋板的長(zhǎng)度小于所述第二擋板的長(zhǎng)度。
[0018]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一擋板及所述第二擋板的寬度均為2.5mm?150_。
[0019]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一滑槽導(dǎo)軌及所述第二滑槽導(dǎo)軌均為塑料滑槽導(dǎo)軌。
[0020]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一擋板及所述第二擋板均為不銹鋼擋板。
[0021]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一擋板及所述第二擋板橫截面的形狀為倒梯形。
[0022]作為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的一種優(yōu)選方案，所述第一滑槽導(dǎo)軌及所述第二滑槽導(dǎo)軌的表面不平度為3μπι/πι;不直度為10?15μπι/πι。
[0023]如上所述，本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，具有以下有益效果:
[0024]I)本實(shí)用新型的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用時(shí)即不破壞光刻機(jī)整機(jī)結(jié)構(gòu)和正常的曝光工藝，又能很好的起到遮擋紫外光的作用;且該裝置中擋板更換方便，更換時(shí)不會(huì)破壞裝置結(jié)構(gòu);擋板的尺寸可以根據(jù)掩膜架上曝光區(qū)域的大小進(jìn)行設(shè)定，靈活性強(qiáng)；
[0025]2)本實(shí)用新型的裝置中的擋板可以在掩膜架上的圓形曝光區(qū)域上進(jìn)行4自由度的手動(dòng)移動(dòng)，形成自由的曝光區(qū)域，實(shí)現(xiàn)在一片基片上一次涂覆光刻膠在同一塊掩模版上分區(qū)域一步曝光，一次顯影成型，也可在一片基片上一次涂覆光刻膠不同掩模版多區(qū)域曝光，一次顯影成型的光刻工藝，從而使得光刻工藝靈活多變;同時(shí)，使用本實(shí)用新型的裝置的接觸式光刻機(jī)可降低掩膜版制作成本，降低生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0026]圖1顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0027]圖2顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置中第一滑槽導(dǎo)軌的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖3顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置中第一滑槽導(dǎo)軌的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]圖4顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置中第二滑槽導(dǎo)軌的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]圖5顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置中第二滑槽導(dǎo)軌的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0031]圖6顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置中第一擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0032]圖7顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置中第二擋板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0033]圖8至圖22顯示為本實(shí)用新型的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置在不同的使用示例中的示意圖。
[0034]元件標(biāo)號(hào)說明
[0035]I 適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置
[0036]11 第一滑槽導(dǎo)軌
[0037]Hl 第一導(dǎo)軌主體
[0038]112 第一滑槽
[0039]12 第一擋板
[0040]13 第二滑槽導(dǎo)軌
[0041]131 第二導(dǎo)軌主體
[0042]132 第二滑槽
[0043]14 第二擋板
[0044]2 基片
[0045]3 光刻膠
[0046]4 第一掩膜版
[0047]5 第二掩膜版
[0048]6 紫外光
【具體實(shí)施方式】
[0049]以下通過特定的具體實(shí)例說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)與功效。本實(shí)用新型還可以通過另外不同的【具體實(shí)施方式】加以實(shí)施或應(yīng)用，本說明書中的各項(xiàng)細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點(diǎn)與應(yīng)用，在沒有背離本實(shí)用新型的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0050]請(qǐng)參閱圖1至圖22，需要說明的是，本實(shí)施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本實(shí)用新型的基本構(gòu)想，雖圖示中僅顯示與本實(shí)用新型中有關(guān)的組件而非按照實(shí)際實(shí)施時(shí)的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實(shí)際實(shí)施時(shí)各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0051]請(qǐng)參閱圖1至圖7，本實(shí)用新型提供一種具有適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I，所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I包括:第一滑槽導(dǎo)軌組、第二滑槽導(dǎo)軌組、第一擋板12及第二擋板14;所述第一滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔分布的第一滑槽導(dǎo)軌11;所述第一滑槽導(dǎo)軌11包括第一導(dǎo)軌本體111及設(shè)置于所述第一導(dǎo)軌本體111上的第一滑槽112;所述第一滑槽112位于所述第一滑槽導(dǎo)軌111的內(nèi)側(cè);所述第一擋板12位于所述第一滑槽導(dǎo)軌11之間，且所述第一擋板12的兩端分別位于兩所述第一滑槽導(dǎo)軌11上的所述第一滑槽112內(nèi)，并可沿所述第一滑槽112的長(zhǎng)度方向滑動(dòng);所述第二滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔排布的第二滑槽導(dǎo)軌13;所述第二滑槽導(dǎo)軌13橫跨所述第一滑槽導(dǎo)軌組，并固定于所述第一滑槽導(dǎo)軌11的表面，且所述第二滑槽導(dǎo)軌13與所述第一滑槽導(dǎo)軌11相垂直;所述第二滑槽導(dǎo)軌13包括第二導(dǎo)軌本體131及設(shè)置于所述第二導(dǎo)軌本體131上的第二滑槽132;所述第二滑槽132位于所述第二滑槽導(dǎo)軌13的內(nèi)側(cè);所述第二擋板14位于所述第二滑槽導(dǎo)軌13之間，且所述第二擋板14的兩端分別位于兩所述第二滑槽導(dǎo)軌13上的所述第二滑槽132內(nèi)，并可沿所述第二滑道132的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)。
[0052]需要說明的是，所述兩個(gè)第一滑槽導(dǎo)軌11上表面及下表面均分布位于同一平面內(nèi)，以確保位于所述兩個(gè)第一滑槽導(dǎo)軌11內(nèi)的所述第一滑槽112位于同一平面內(nèi)；所述兩個(gè)第二滑槽導(dǎo)軌13上表面及下表面均分布位于同一平面內(nèi)，以確保位于所述兩個(gè)第二滑槽導(dǎo)軌13內(nèi)的所述第二滑槽132位于同一平面內(nèi)。
[0053]作為示例，所述第二滑槽導(dǎo)軌13可以通過但并不僅限于鉚釘固定于所述第一滑槽導(dǎo)軌11的表面。
[0054]作為示例，所述第一滑槽112的長(zhǎng)度方向與所述第一導(dǎo)軌本體111的長(zhǎng)度方向一致，且所述第一滑槽112自所述第一導(dǎo)軌本體111的一端面延伸至另一端面，即所述第一滑槽112沿所述第一導(dǎo)軌本體111的長(zhǎng)度方向貫穿整個(gè)所述第一導(dǎo)軌本體111。
[0055]作為示例，所述第二滑槽132的長(zhǎng)度方向與所述第二導(dǎo)軌本體131的長(zhǎng)度方向一致，且所述第二滑槽132自所述第二導(dǎo)軌本體131的一端面延伸至另一端面，即所述第二滑槽132沿所述第二導(dǎo)軌本體131的長(zhǎng)度方向貫穿整個(gè)所述第二導(dǎo)軌本體131。
[0056]作為示例，所述第一滑槽導(dǎo)軌11的端面與所述第二滑槽導(dǎo)軌13的外側(cè)相平齊，且所述第二滑槽導(dǎo)軌13的端面與所述第一滑槽導(dǎo)軌12的外側(cè)相平齊。
[0057]作為示例，所述第一滑槽導(dǎo)軌11及所述第二滑槽導(dǎo)軌13的長(zhǎng)度可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)定，優(yōu)選地，本實(shí)施例中，所述第一滑槽導(dǎo)軌11的長(zhǎng)度大于所述第二滑槽導(dǎo)軌13的長(zhǎng)度。
[0058]作為示例，所述第一擋板12及所述第二擋板14的長(zhǎng)度可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)定，優(yōu)選地，本實(shí)施例中，所述第一擋板12的長(zhǎng)度小于所述第二擋板14的長(zhǎng)度。
[0059]作為示例，所述第一擋板12及所述第二擋板14的寬度可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)定，優(yōu)選地，本實(shí)施例中，所述第一擋板12及所述第二擋板14的寬度均為2.5mm?150mm。
[0060]作為示例，所述第一滑槽導(dǎo)軌11及所述第二滑槽導(dǎo)軌13的材料可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行選擇，所述第一滑槽導(dǎo)軌11及所述第二滑槽導(dǎo)軌13的材料可以相同，也可以不同；優(yōu)選地，本實(shí)施例中，所述第一滑槽導(dǎo)軌11及所述第二滑槽導(dǎo)軌13均為塑料滑槽導(dǎo)軌。
[0061]作為示例，所述第一擋板12及所述第二擋板14的材料可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行選擇，所述第一擋板12與所述第二擋板14的材料可以相同，也可以不同；優(yōu)選地，所述第一擋板12及所述第二擋板14的材料均為不銹鋼;更為優(yōu)選地，所述第一擋板12及所述第二擋板14的的材料均為經(jīng)過消光發(fā)黑工藝特殊處理的奧氏體304不銹鋼。
[0062]作為示例，所述第一擋板12及所述第二擋板14橫截面的形狀可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行設(shè)定，優(yōu)選地，本實(shí)施例中，所述第一擋板12及所述第二擋板14橫截面的形狀為倒梯形。
[0063]作為示例，所述第一滑槽導(dǎo)軌11及所述第二滑槽導(dǎo)軌13的表面不平度為3μπι/πι，不直度為10?15μπι/πι，以確保所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I制造精度和安裝精度。
[0064]所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I能夠自由選擇曝光區(qū)域，即能夠自由遮擋照射在掩膜版上的紫外光。由于掩膜版為平面結(jié)構(gòu)，所以本實(shí)用新型的所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I具有沿垂直的Χ、Υ兩個(gè)方向的自由度即可滿足要求。
[0065]需要說明的是，所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I在使用的過程中，其放置的位置需要滿足即不破壞光刻機(jī)整機(jī)結(jié)構(gòu)和正常的對(duì)準(zhǔn)曝光工藝，又能很好的起到遮擋紫外光的作用。以SUSS ΜΑ6雙面光刻機(jī)為例，在安裝掩膜版的掩膜架(Mask holder)上的凹槽可以安置所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I，由于掩膜版在所述掩膜架的另一面，曝光裝置在曝光的時(shí)候在掩膜架上方3cm處，所以，將所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I安裝所述掩膜架上的凹槽內(nèi)，即不會(huì)對(duì)掩膜版造成損壞，又不會(huì)影響曝光。
[0066]所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I可以根據(jù)實(shí)際需要使用于不同情況下的曝光工藝中，下面以具體示例予以說明:
[0067]實(shí)施例一，同一塊掩膜版遮擋一部分曝光區(qū)域
[0068]本實(shí)施例中，以正性光刻膠示例，首先，在基片2表面旋涂一層光刻膠3，如圖8所示;使用第一掩膜版4進(jìn)行正常的對(duì)準(zhǔn)，在對(duì)準(zhǔn)完成后，將所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I放置在對(duì)應(yīng)的位置遮擋不需要曝光的區(qū)域，如圖9所示;遮擋完畢后進(jìn)行正常紫外光6曝光工藝，如圖10所示;最后，顯影即可得到光刻圖形，如圖11所示。
[0069]實(shí)施例二，同一塊掩膜版遮擋不同區(qū)域曝光
[0070]本實(shí)施例中，以正性光刻膠示例，首先，在基片2表面旋涂一層光刻膠3，如圖12所示;使用第一掩膜版4進(jìn)行正常的對(duì)準(zhǔn)，在對(duì)準(zhǔn)完成后，將所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I放置在對(duì)應(yīng)的位置遮擋不同的不需要曝光區(qū)域，如圖13所示;遮擋完畢后進(jìn)行正常紫外光6曝光工藝，如圖14所示;最后，顯影即可得到光刻圖形，如圖15所示。
[0071]實(shí)施例三，不同掩膜版在同一片基片上曝光
[0072]本實(shí)施例中，以正性光刻膠示例，首先，在基片2表面旋涂一層光刻膠3，如圖16所示;使用第一掩膜版4進(jìn)行正常的對(duì)準(zhǔn)，在對(duì)準(zhǔn)完成后，將所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I放置在對(duì)應(yīng)的位置遮擋不需要曝光的區(qū)域，如圖17所示;遮擋完畢后進(jìn)行正常紫外光曝光工藝，如圖18及圖19所示;曝光結(jié)束后將所述第一掩膜版4更換為第二掩膜版5進(jìn)行正常的對(duì)準(zhǔn)，對(duì)準(zhǔn)完成后，將所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置I放置在對(duì)應(yīng)的位置遮擋不需要曝光的區(qū)域，如圖20所示;遮擋完畢后進(jìn)行正常紫外光6曝光工藝，如圖21所示;最后，顯影即可得到光刻圖形，如圖22所示。
[0073]綜上所述，本實(shí)用新型提供一種適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置包括:第一滑槽導(dǎo)軌組、第二滑槽導(dǎo)軌組、第一擋板及第二擋板;所述第一滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔分布的第一滑槽導(dǎo)軌;所述第一滑槽導(dǎo)軌包括第一導(dǎo)軌本體及設(shè)置于所述第一導(dǎo)軌本體上的第一滑槽;所述第一滑槽位于所述第一滑槽導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè);所述第一擋板位于所述第一滑槽導(dǎo)軌之間，且所述第一擋板的兩端分別位于兩所述第一滑槽導(dǎo)軌上的所述第一滑槽內(nèi)，并可沿所述第一滑槽的長(zhǎng)度方向滑動(dòng);所述第二滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔排布的第二滑槽導(dǎo)軌;所述第二滑槽導(dǎo)軌橫跨所述第一滑槽導(dǎo)軌組，并固定于所述第一滑槽導(dǎo)軌的表面，且所述第二滑槽導(dǎo)軌與所述第一滑槽導(dǎo)軌相垂直;所述第二滑槽導(dǎo)軌包括第二導(dǎo)軌本體及設(shè)置于所述第二導(dǎo)軌本體上的第二滑槽;所述第二滑槽位于所述第二滑槽導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè);所述第二擋板位于所述第二滑槽導(dǎo)軌之間，且所述第二擋板的兩端分別位于兩所述第二滑槽導(dǎo)軌上的所述第二滑槽內(nèi)，并可沿所述第二滑道的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)。本實(shí)用新型的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用時(shí)即不破壞光刻機(jī)整機(jī)結(jié)構(gòu)和正常的曝光工藝，又能很好的起到遮擋紫外光的作用;且該裝置中擋板更換方便，更換時(shí)不會(huì)破壞裝置結(jié)構(gòu);擋板的尺寸可以根據(jù)掩膜架上曝光區(qū)域的大小進(jìn)行設(shè)定，靈活性強(qiáng)；本實(shí)用新型的裝置中的擋板可以在掩膜架上的圓形曝光區(qū)域上進(jìn)行4自由度的手動(dòng)移動(dòng)，形成自由的曝光區(qū)域，實(shí)現(xiàn)在一片基片上一次涂覆光刻膠在同一塊掩模版上分區(qū)域一步曝光，一次顯影成型，也可在一片基片上一次涂覆光刻膠不同掩模版多區(qū)域曝光，一次顯影成型的光刻工藝，從而使得光刻工藝靈活多變；同時(shí)，使用本實(shí)用新型的裝置的接觸式光刻機(jī)可降低掩膜版制作成本，降低生產(chǎn)成本。
[0074]上述實(shí)施例僅例示性說明本實(shí)用新型的原理及其功效，而非用于限制本實(shí)用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實(shí)用新型的精神及范疇下，對(duì)上述實(shí)施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者在未脫離本實(shí)用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實(shí)用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于，所述適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置包括:第一滑槽導(dǎo)軌組、第二滑槽導(dǎo)軌組、第一擋板及第二擋板； 所述第一滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔分布的第一滑槽導(dǎo)軌;所述第一滑槽導(dǎo)軌包括第一導(dǎo)軌本體及設(shè)置于所述第一導(dǎo)軌本體上的第一滑槽;所述第一滑槽位于所述第一滑槽導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)； 所述第一擋板位于所述第一滑槽導(dǎo)軌之間，且所述第一擋板的兩端分別位于兩所述第一滑槽導(dǎo)軌上的所述第一滑槽內(nèi)，并可沿所述第一滑槽的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)； 所述第二滑槽導(dǎo)軌組包括一對(duì)平行間隔排布的第二滑槽導(dǎo)軌;所述第二滑槽導(dǎo)軌橫跨所述第一滑槽導(dǎo)軌組，并固定于所述第一滑槽導(dǎo)軌的表面，且所述第二滑槽導(dǎo)軌與所述第一滑槽導(dǎo)軌相垂直;所述第二滑槽導(dǎo)軌包括第二導(dǎo)軌本體及設(shè)置于所述第二導(dǎo)軌本體上的第二滑槽;所述第二滑槽位于所述第二滑槽導(dǎo)軌的內(nèi)側(cè)； 所述第二擋板位于所述第二滑槽導(dǎo)軌之間，且所述第二擋板的兩端分別位于兩所述第二滑槽導(dǎo)軌上的所述第二滑槽內(nèi)，并可沿所述第二滑道的長(zhǎng)度方向滑動(dòng)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一滑槽的長(zhǎng)度方向與所述第一導(dǎo)軌本體的長(zhǎng)度方向一致，且所述第一滑槽自所述第一導(dǎo)軌本體的一端面延伸至另一端面。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第二滑槽的長(zhǎng)度方向與所述第二導(dǎo)軌本體的長(zhǎng)度方向一致，且所述第二滑槽自所述第二導(dǎo)軌本體的一端面延伸至另一端面。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一滑槽導(dǎo)軌的端面與所述第二滑槽導(dǎo)軌的外側(cè)相平齊，且所述第二滑槽導(dǎo)軌的端面與所述第一滑槽導(dǎo)軌的外側(cè)相平齊。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一滑槽導(dǎo)軌的長(zhǎng)度大于所述第二滑槽導(dǎo)軌的長(zhǎng)度，且所述第一擋板的長(zhǎng)度小于所述第二擋板的長(zhǎng)度。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一擋板及所述第二擋板的寬度均為2.5mm?150_。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一滑槽導(dǎo)軌及所述第二滑槽導(dǎo)軌均為塑料滑槽導(dǎo)軌。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一擋板及所述第二擋板均為不銹鋼擋板。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一擋板及所述第二擋板橫截面的形狀為倒梯形。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適于接觸式光刻機(jī)的分區(qū)域曝光裝置，其特征在于:所述第一滑槽導(dǎo)軌及所述第二滑槽導(dǎo)軌的表面不平度為3μπι/πι;不直度為10?15μπι/πι。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK205450560SQ201620238897
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年3月25日
【發(fā)明人】馬林賢
【申請(qǐng)人】中國(guó)科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所