抗電磁鏡片的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及鏡片領(lǐng)域，尤其涉及具有抗電磁鍍層的鏡片。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著科技的進(jìn)步和通訊事業(yè)的日趨發(fā)展，電腦、電視、微波爐及手機(jī)的應(yīng)用日益普及，電器的電磁波對人體的影響越來越嚴(yán)重。過量的電磁波進(jìn)入人體，使體內(nèi)分子運(yùn)動(dòng)加劇，產(chǎn)生一定的熱量，使人體水分蒸發(fā)、破壞細(xì)胞正常的新陳代謝，導(dǎo)致細(xì)胞發(fā)生病變、甚至壞死等情況。長期處于較強(qiáng)電磁波輻射環(huán)境中工作、生活的人往往容易導(dǎo)致發(fā)生眼部疾病。因此，基于這種情形下，抗電磁鏡片被應(yīng)用來對眼部進(jìn)行保護(hù)。CN201589905 U、CN203950047U、CN201359642Y均提出了抗電磁鏡片，均是在鏡片上通過鍍膜形成能夠?qū)щ娗彝腹獾目闺姶佩兡?。其中，CN201589905 U、CN203950047U是采用的鍍膜層的光穿透率不高。CN201359642Y采用的鍍膜層雖透光性較好，但其導(dǎo)電性還有待提高(電阻率在百Ω/cm2級別)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型提出一種具有更低電阻率且透光性較佳的抗電磁鏡片。
[0004]本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):
[0005]—種抗電磁鏡片，包括一鏡片及鍍于該鏡片表面的一復(fù)合鍍膜層，其中:該復(fù)合鍍膜層由內(nèi)至外依次包括一二氧化鋯層、一金屬銅層、一金屬鉻層、一二氧化硅層。
[0006]進(jìn)一步的，二氧化鋯層的厚度范圍是80至150埃米，金屬銅層的厚度范圍是80至150埃米，金屬鉻層的厚度范圍是15至50埃米，二氧化硅層的厚度范圍是30至100埃米。優(yōu)選的，二氧化鋯層的厚度是100埃米，金屬銅層的厚度是100埃米，金屬鉻層的厚度是20埃米，二氧化硅層的厚度是40埃米。
[0007]進(jìn)一步的，在二氧化硅層上還鍍一防水保護(hù)層。
[0008]本實(shí)用新型的抗電磁鏡片是一種具有更低電阻率且透光性較佳的抗電磁鏡片，從而使本實(shí)用新型的抗電磁鏡片不僅可以在日常場合使用，也可以在一些特定應(yīng)用場合下使用，例如佩戴以隔離電腦、傳真機(jī)、手機(jī)、微波爐等電子元器件的輻射等。
【附圖說明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2是本實(shí)用新型一實(shí)施例的抗電磁鏡片的透射頻譜測試結(jié)果圖。
[0011]圖3是本實(shí)用新型一實(shí)施例的抗電磁鏡片的接收顏色限制區(qū)域測試結(jié)果圖。
[0012]圖4是本實(shí)用新型一實(shí)施例的抗電磁鏡片的頻譜數(shù)據(jù)測試結(jié)果表格。
【具體實(shí)施方式】
[0013]為進(jìn)一步說明各實(shí)施例，本實(shí)用新型提供有附圖。這些附圖為本實(shí)用新型揭露內(nèi)容的一部分，其主要用以說明實(shí)施例，并可配合說明書的相關(guān)描述來解釋實(shí)施例的運(yùn)作原理。配合參考這些內(nèi)容，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)能理解其他可能的實(shí)施方式以及本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。圖中的組件并未按比例繪制，而類似的組件符號通常用來表示類似的組件。
[0014]現(xiàn)結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
[0015]參閱圖1所示，本實(shí)用新型提出一種抗電磁鏡片，包括一鏡片10及鍍于該鏡片表面的一復(fù)合鍍膜層20，其中:該復(fù)合鍍膜層20由內(nèi)至外依次包括一二氧化鋯(ZrO2)層201、一金屬銅(Cu)層202、一金屬鉻(Cr)層203、一二氧化硅(S12)層204。鏡片10可以選用樹脂鏡片或玻璃鏡片。
[0016]其中，該復(fù)合鍍膜層20中各膜層的厚度如下:二氧化鋯層的厚度范圍是80至150埃米(A)，金屬銅層的厚度范圍是80至150埃米，金屬鉻層的厚度范圍是15至50埃米，二氧化硅層的厚度范圍是30至100埃米。優(yōu)選的，二氧化鋯層的厚度是100埃米，金屬銅層的厚度是100埃米，金屬鉻層的厚度是20埃米，二氧化硅層的厚度是40埃米。
[0017]本實(shí)用新型的抗電磁鏡片在鏡片的表面由內(nèi)至外依次由真空蒸鍍上合適厚度的二氧化錯(cuò)(ZrO2)層、金屬銅(Cu)層、金屬絡(luò)(Cr )層、二氧化娃(S12)層，從而使該抗電磁鏡片具有更低電阻率和較佳的透光性。
[0018]優(yōu)選的，為了更好地保護(hù)抗電磁的鍍膜層而不輕易脫落，還在該二氧化硅層204上鍍一防水保護(hù)層30，可鍍約25埃米(A)的厚度膜厚。
[0019]本實(shí)用新型的抗電磁鏡片經(jīng)過導(dǎo)電率測試，其鍍膜層的電阻率可以低于30 Ω/cm2,甚至達(dá)到20 Ω /cm2以下。同時(shí)，本實(shí)用新型一實(shí)施例的抗電磁鏡片進(jìn)行光學(xué)測試，參閱圖2至圖4所示，結(jié)果表明其鍍膜層的透光率可達(dá)50%左右，具有較佳的透光性。本實(shí)用新型的抗電磁鏡片的鍍膜層厚度(包括防水保護(hù)層)也較薄，在230至475埃米(A)之間的厚度，不足50納米(nm)，顯然是低于CN203950047 U中的45_90nm的電磁波屏蔽層厚度，從而具有更好的應(yīng)用前景。本實(shí)用新型的抗電磁鏡片的膜層厚度越小越不影響基材本身的功能，且清晰度高，不影響產(chǎn)品外觀。
[0020]盡管結(jié)合優(yōu)選實(shí)施方案具體展示和介紹了本實(shí)用新型，但所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明白，在不脫離所附權(quán)利要求書所限定的本實(shí)用新型的精神和范圍內(nèi)，在形式上和細(xì)節(jié)上可以對本實(shí)用新型做出各種變化，均為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種抗電磁鏡片，包括一鏡片及鍍于該鏡片表面的一復(fù)合鍍膜層，其特征在于:該復(fù)合鍍膜層由內(nèi)至外依次包括一二氧化鋯層、一金屬銅層、一金屬鉻層、一二氧化硅層。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗電磁鏡片，其特征在于:二氧化鋯層的厚度范圍是80至150埃米，金屬銅層的厚度范圍是80至150埃米，金屬鉻層的厚度范圍是15至50埃米，二氧化硅層的厚度范圍是30至100埃米。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的抗電磁鏡片，其特征在于:二氧化鋯層的厚度是100埃米，金屬銅層的厚度是100埃米，金屬鉻層的厚度是20埃米，二氧化硅層的厚度是40埃米。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的抗電磁鏡片，其特征在于:在二氧化硅層上還鍍一防水保護(hù)層。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及鏡片領(lǐng)域。本實(shí)用新型提出一種抗電磁鏡片，包括一鏡片及鍍于該鏡片表面的一復(fù)合鍍膜層，其中：該復(fù)合鍍膜層由內(nèi)至外依次包括一二氧化鋯層、一金屬銅層、一金屬鉻層、一二氧化硅層。本實(shí)用新型的抗電磁鏡片具有更低電阻率且透光性較佳。
【IPC分類】G02B1/10, G02C7/10
【公開號】CN205210433
【申請?zhí)枴緾N201520851116
【發(fā)明人】楊敏男
【申請人】廈門美瀾光電科技有限公司
【公開日】2016年5月4日
【申請日】2015年10月30日