7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及紅外濾光敏感元件領(lǐng)域，尤其是一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件。
【背景技術(shù)】
[0002]紅外熱成像儀(熱成像儀或紅外熱成像儀)是通過(guò)非接觸探測(cè)紅外能量(熱量)，并將其轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，進(jìn)而在顯示器上生成熱圖像和溫度值，并可以對(duì)溫度值進(jìn)行計(jì)算的一種檢測(cè)設(shè)備。紅外熱成像儀(熱成像儀或紅外熱成像儀)能夠?qū)⑻綔y(cè)到的熱量精確量化或測(cè)量，使您不僅能夠觀察熱圖像，還能夠?qū)Πl(fā)熱的故障區(qū)域進(jìn)行準(zhǔn)確識(shí)別和嚴(yán)格分析。
[0003]紅外熱成像儀的探測(cè)器是實(shí)現(xiàn)紅外能量(熱能)轉(zhuǎn)換電信號(hào)的關(guān)鍵，由于各種生物所發(fā)出來(lái)的紅外能量(熱能)是不同的，所以在日常使用中為了觀察某種特定生物的熱圖像，人們往往會(huì)在探測(cè)器中添加紅外濾光敏感元件，通過(guò)紅外濾光敏感元件可以使探測(cè)器只接受特定波段的紅外能量(熱能)，保證紅外熱成像儀的成像結(jié)果。
[0004]但是，目前的紅外濾光敏感元件，其信噪比低，精度差，不能滿(mǎn)足市場(chǎng)發(fā)展的需要。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的目的是為了解決上述技術(shù)的不足而提供一種測(cè)試精度高、能極大提高信噪比的7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件。
[0006]為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型所設(shè)計(jì)的一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件，包括以Ge為原材料的基板，以Ge、ZnS為第一鍍膜層和以Ge、ZnS為第二鍍膜層，且所述基板設(shè)于第一鍍膜層與第二鍍膜層之間，其特征是所述第一鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有165nm厚度的Ge層、237nm厚度的ZnS層、223nm厚度的Ge層、411nm厚度的ZnS層、137nm厚度的Ge層、338nm厚度的ZnS層、137nm厚度的Ge層、254nm厚度的ZnS層、171nm厚度的Ge層、263nm厚度的ZnS層、157nm厚度的Ge層、499nm厚度的ZnS層、141nm厚度的Ge層、247nm厚度的ZnS層、125nm厚度的Ge層、273nm厚度的ZnS層、391nm厚度的Ge層、178nm厚度的ZnS層、166nm厚度的Ge層、487nm厚度的ZnS層、131nm厚度的Ge層、623nm厚度的ZnS層、183nm厚度的Ge層、263nm厚度的ZnS層、310nm厚度的Ge層、498nm厚度的ZnS層、139nm厚度的Ge層、583nm厚度的ZnS層、191nm厚度的Ge層、363nm厚度的ZnS層、344nm厚度的Ge層、888nm厚度的ZnS層、69nm厚度的Ge層、29 Inm厚度的ZnS層、49nm厚度的Ge層、402nm厚度的ZnS層、614nm厚度的Ge層、949nm厚度的ZnS層；所述的第二鍍膜層由內(nèi)向外依次排列包含有178nm厚度的Ge層、371nm厚度的ZnS層、309nm厚度的Ge層、614nm厚度的ZnS層、38 Inm厚度的Ge層、530nm厚度的ZnS層、264nm厚度的Ge層、57 Inm厚度的ZnS層、94nm厚度的Ge層、549nm厚度的ZnS層、292nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、366nm厚度的Ge層、654nm厚度的ZnS層、347nm厚度的Ge層、802nm厚度的ZnS層、274nm厚度的Ge層、663nm厚度的ZnS層、411nm厚度的Ge層、736nm厚度的ZnS層、276nm厚度的Ge層、576nm厚度的ZnS層、525nm厚度的Ge層、653nm厚度的ZnS層、240nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、558nm厚度的Ge層、1070nm厚度的ZnS層。
[0007]上述各材料對(duì)應(yīng)的厚度，其允許在公差范圍內(nèi)變化，其變化的范圍屬于本專(zhuān)利保護(hù)的范圍，為等同關(guān)系。通常厚度的公差在1nm左右。
[0008]本實(shí)用新型所得到的一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件，其在溫度測(cè)量過(guò)程中，可大大的提高信噪比，提高測(cè)試精準(zhǔn)度，適合于大范圍的推廣和使用。該濾光敏感元件50% Cut on=7600±50nm，7700 ?11000nm，Tavg 彡 90%，8000 ?11000nm，T 彡 88%，1500 ?7400nm，T 彡 3%。
【附圖說(shuō)明】
[0009]圖1是實(shí)施例整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2是實(shí)施例提供的紅外光譜透過(guò)率實(shí)測(cè)曲線(xiàn)圖。
[0011]圖中:第一鍍膜層1、基板2、第二鍍膜層3。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面通過(guò)實(shí)施例結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的描述。
[0013]實(shí)施例1。
[0014]如圖1、圖2所示，本實(shí)施例描述的一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件，包括以Ge為原材料的基板2，以Ge、ZnS為第一鍍膜層I和以Ge、ZnS為第二鍍膜層3，且所述基板2設(shè)于第一鍍膜層I與第二鍍膜層3之間，所述第一鍍膜層I由內(nèi)向外依次排列包含有165nm厚度的Ge層、237nm厚度的ZnS層、223nm厚度的Ge層、411nm厚度的ZnS層、137nm厚度的Ge層、338nm厚度的ZnS層、137nm厚度的Ge層、254nm厚度的ZnS層、171nm厚度的Ge層、263nm厚度的ZnS層、157nm厚度的Ge層、499nm厚度的ZnS層、141nm厚度的Ge層、247nm厚度的ZnS層、125nm厚度的Ge層、273nm厚度的ZnS層、391nm厚度的Ge層、178nm厚度的ZnS層、166nm厚度的Ge層、487nm厚度的ZnS層、131nm厚度的Ge層、623nm厚度的ZnS層、183nm厚度的Ge層、263nm厚度的ZnS層、310nm厚度的Ge層、498nm厚度的ZnS層、139nm厚度的Ge層、583nm厚度的ZnS層、191nm厚度的Ge層、363nm厚度的ZnS層、344nm厚度的Ge層、888nm厚度的ZnS層、69nm厚度的Ge層、29 Inm厚度的ZnS層、49nm厚度的Ge層、402nm厚度的ZnS層、614nm厚度的Ge層、949nm厚度的ZnS層；所述的第二鍍膜層3由內(nèi)向外依次排列包含有178nm厚度的Ge層、371nm厚度的ZnS層、309nm厚度的Ge層、614nm厚度的ZnS層、38 Inm厚度的Ge層、530nm厚度的ZnS層、264nm厚度的Ge層、57 Inm厚度的ZnS層、94nm厚度的Ge層、549nm厚度的ZnS層、292nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、366nm厚度的Ge層、654nm厚度的ZnS層、347nm厚度的Ge層、802nm厚度的ZnS層、274nm厚度的Ge層、663nm厚度的ZnS層、411nm厚度的Ge層、736nm厚度的ZnS層、276nm厚度的Ge層、576nm厚度的ZnS層、525nm厚度的Ge層、653nm厚度的ZnS層、240nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、558nm厚度的Ge層、1070nm厚度的ZnS層。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件，包括以Ge為原材料的基板(2)，以Ge、ZnS為第一鍍膜層(I)和以Ge、ZnS為第二鍍膜層(3 )，且所述基板(2 )設(shè)于第一鍍膜層(I)與第二鍍膜層(3)之間，其特征是所述第一鍍膜層(I)由內(nèi)向外依次排列包含有165nm厚度的Ge層、237nm厚度的ZnS層、223nm厚度的Ge層、411nm厚度的ZnS層、137nm厚度的Ge層、338nm厚度的ZnS層、137nm厚度的Ge層、254nm厚度的ZnS層、171nm厚度的Ge層、263nm厚度的ZnS層、157nm厚度的Ge層、499nm厚度的ZnS層、141nm厚度的Ge層、247nm厚度的ZnS層、125nm厚度的Ge層、273nm厚度的ZnS層、391nm厚度的Ge層、178nm厚度的ZnS層、166nm厚度的Ge層、487nm厚度的ZnS層、131nm厚度的Ge層、623nm厚度的ZnS層、183nm厚度的Ge層、263nm厚度的ZnS層、310nm厚度的Ge層、498nm厚度的ZnS層、139nm厚度的Ge層、583nm厚度的ZnS層、19 Inm厚度的Ge層、363nm厚度的ZnS層、344nm厚度的Ge層、888nm厚度的ZnS層、69nm厚度的Ge層、29 Inm厚度的ZnS層、49nm厚度的Ge層、402nm厚度的ZnS層、614nm厚度的Ge層、949nm厚度的ZnS層；所述的第二鍍膜層(3)由內(nèi)向外依次排列包含有178nm厚度的Ge層、371nm厚度的ZnS層、309nm厚度的Ge層、614nm厚度的ZnS層、38 Inm厚度的Ge層、530nm厚度的ZnS層、264nm厚度的Ge層、57 Inm厚度的ZnS層、94nm厚度的Ge層、549nm厚度的ZnS層、292nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、366nm厚度的Ge層、654nm厚度的ZnS層、347nm厚度的Ge層、802nm厚度的ZnS層、274nm厚度的Ge層、663nm厚度的ZnS層、411nm厚度的Ge層、736nm厚度的ZnS層、276nm厚度的Ge層、576nm厚度的ZnS層、525nm厚度的Ge層、653nm厚度的ZnS層、240nm厚度的Ge層、575nm厚度的ZnS層、558nm厚度的Ge層、1070nm厚度的ZnS層。
【專(zhuān)利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件，包括以Ge為原材料的基板，以Ge、ZnS為第一鍍膜層和以Ge、ZnS為第二鍍膜層，且所述基板設(shè)于第一鍍膜層與第二鍍膜層之間。本實(shí)用新型所得到的一種7600nm長(zhǎng)波通紅外濾光敏感元件，其在溫度測(cè)量過(guò)程中，可大大的提高信噪比，提高測(cè)試精準(zhǔn)度，適合于大范圍的推廣和使用。該濾光敏感元件50％Cut on=7600±50nm，7700～11000nm，Tavg≥90%，8000～11000nm，T≥88%，1500～7400nm，T≤3%。
【IPC分類(lèi)】G02B5-20
【公開(kāi)號(hào)】CN204374475
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420758546
【發(fā)明人】呂晶, 胡偉琴, 王繼平
【申請(qǐng)人】杭州麥樂(lè)克電子科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年6月3日
【申請(qǐng)日】2014年12月7日