光學構件、該光學構件的制造方法以及攝像裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種光學構件，包括：催化劑層，其形成于光學功能面；和氧化鋅，其由微細凹凸構造形成，所述微細凹凸構造通過在所述催化劑層的表面大致周期性地排列有沿C軸取向而成的鐘形狀或錐形狀的突起構造而成。優(yōu)選催化劑層含有以從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素作為主成分的催化劑材料。由此，能夠提供表面形成有微細凹凸構造的光學構件以及能夠容易地制造這種光學構件的制造方法。
【專利說明】
光學構件、該光學構件的制造方法以及攝像裝置
技術領域
[0001]本發(fā)明公開的技術涉及表面形成有微細凹凸構造的光學構件、該光學構件的制造方法以及使用了該光學構件的攝像裝置。
【背景技術】
[0002]以往，已知表面形成有微細凹凸構造的光學構件。這種光學構件具有減少光的反射的效果。專利文獻I?3中公開了為了減少光的反射而在表面形成有微小的凹凸構造的光學構件(防反射構造體)。
[0003]專利文獻I的發(fā)明在由玻璃、金屬、陶瓷或樹脂等構成的基板的表面形成抗蝕劑層，通過使用了電子束或者質(zhì)子束的光刻法在抗蝕劑層上形成圖案從而形成掩膜，通過利用該掩膜進行蝕刻而在基板的表面形成凹凸構造。
[0004]專利文獻2的發(fā)明在玻璃基板的表面形成抗蝕劑層，在該抗蝕劑層上進行利用雙光束干涉的全息曝光來形成由微細形狀構成的掩膜，通過利用該掩膜進行蝕刻而在玻璃基板的表面形成凹凸構造。
[0005]專利文獻3的發(fā)明對由感光性材料形成的光學部件隔開規(guī)定的間隔地配置X射線掩膜，通過隔著該X射線掩膜向光學部件照射X射線而在光學部件的表面形成凹凸構造。
[0006]在先技術文獻
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻I:日本特開2009-128540號公報
[0009]專利文獻2:日本特開2006-243633號公報
[0010]專利文獻3:日本特開2006-235195號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]當然期望不管在何種光學構件中都能夠容易地形成微細凹凸構造。然而，在引用文獻I?3的發(fā)明中，經(jīng)由復雜的工序來對各種光學構件形成微細凹凸構造，因此難以對鏡筒內(nèi)表面、顯示器表面那樣的光學構件等形成微細凹凸構造。這是由于，這些構件或呈曲面、或為筒的內(nèi)表面、或面積大等，從而難以高精度地控制電子束、光的干涉光、X射線。
[0012]本發(fā)明公開的技術是鑒于上述問題點而完成的，其目的在于提供表面形成有微細凹凸構造的光學構件、以及能夠容易地制造這種光學構件的制造方法。根據(jù)本發(fā)明公開的技術，對鏡筒內(nèi)表面、顯示器表面那樣的光學構件等以往難以形成微細凹凸構造的曲面、筒的內(nèi)表面、大面積等形狀的光學構件也能夠形成微細凹凸構造。
[0013]本發(fā)明公開的技術涉及一種光學構件，包括:催化劑層，其形成于光學功能面;和氧化鋅，其由微細凹凸構造形成，所述微細凹凸構造通過在所述催化劑層的表面大致周期性地排列有沿C軸取向而成的鐘形狀或錐形狀的突起構造而成。優(yōu)選催化劑層含有以從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素作為主成分的催化劑材料。
[0014]在本發(fā)明公開的技術中，ZnO結晶的C軸是指，從催化劑層面朝向空氣層側延伸的ZnO的結晶軸。例如，可以沿相對于光軸X傾斜的方向延伸，或者相對于光軸X彎曲地延伸，或者折彎延伸。優(yōu)選ZnO結晶的C軸從催化劑層面朝向空氣層側向垂直方向延伸。
[0015]另外，本發(fā)明公開的技術涉及一種光學構件的制造方法，包括:第一步驟，將光學構件的光學功能面投入含有從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素的水溶液中，從而在所述光學功能面上生成以所述至少一種元素作為主成分的催化劑層;第二步驟，將表面生成有所述催化劑層的光學構件的光學功能面投入含有氧化鋅的水溶液中，從而在所述催化劑層的表面生成沿C軸取向的六棱柱突起構造的氧化鋅；以及第三步驟，通過干式蝕刻或濕式蝕刻，將所述六棱柱突起構造的氧化鋅成形為鐘形狀或錐形狀的突起構造。
[0016]或者，本發(fā)明公開的技術涉及一種光學構件的制造方法，包括:第一步驟，將光學構件的光學功能面投入含有從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素的水溶液中，從而在所述光學功能面上生成以所述至少一種元素作為主成分的催化劑層;和第二步驟，將表面生成有所述催化劑層的光學構件的光學功能面投入含有氧化鋅的水溶液中，從而在所述催化劑層的表面生成沿C軸取向的六棱錐形狀或鐘形狀的突起構造的氧化鋅。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的技術，能夠提供表面設有微細凹凸構造的光學構件以及這種光學構件的制造方法。
【附圖說明】
[0018]圖1是沿與光軸平行的平面將透鏡切斷后的簡圖。
[0019]圖2是對透鏡的制造工序進行表示的圖。
[0020]圖3是攝像頭的簡圖。
[0021 ]圖4是對實施例1的制造工序進彳丁表不的圖。
[0022]圖5A是對實施例1的圖2的(D)的工序中的透鏡的表面的SEM照片進行表示的圖。
[0023]圖5B是對實施例1的圖2的(D)的工序中的反射率的測定結果進行表示的圖。
[0024]圖6A是對實施例1的圖2的(C)的工序中的透鏡的表面的SEM照片進行表示的圖。
[0025]圖6B是對實施例1的圖2的(C)的工序中的反射率的測定結果進行表示的圖。
[0026]圖7是對實施例2的制造工序進行表示的圖。
[0027]圖8A是對實施例2中的透鏡的剖面的SEM照片進行表示的圖。
[0028]圖SB是對實施例2中的反射率的測定結果進行表示的圖。
[0029]圖9是對實施例3的制造工序進行表示的圖。
[0030]圖10是對實施例3的透鏡的表面的SEM照片進行表示的圖。
【具體實施方式】
[0031 ]以下，參照附圖對例示的實施方式進行詳細說明。
[0032][1.透鏡的簡要結構]
[0033]圖1是沿與光軸X平行的平面將透鏡10切斷后的剖視圖。
[0034]透鏡10具備:透鏡主體11、和在透鏡主體11的兩面設置的防反射層12。透鏡10是雙凸形狀的透鏡。透鏡10的兩面是光學功能面(也稱為光學有效面)。透鏡10是形成有微細凹凸構造的光學構件的一個例子。
[0035]根據(jù)本發(fā)明的技術，例如，在透鏡主體(也稱為光學構件的基板)表面形成有催化劑層，在該催化劑層的表面大致周期性地排列有氧化鋅(ZnO)沿C軸取向而成的鐘形狀或錐形狀的關起構造。
[0036]透鏡主體11形成透鏡1的基本的構造。即，透鏡主體11呈雙凸形狀。透鏡主體11的表面lla、llb為了實現(xiàn)要求透鏡10達到的光學特性而形成所需的形狀。表面lla、llb例如是平滑的彎曲面。例如，表面lla、llb可以形成為球面形狀、非球面形狀或自由曲面。需要說明的是，表面lla、llb也可以是平面。透鏡主體11也可以是通過注射成形制成的塑料成形品。需要說明的是，透鏡主體11不局限于塑料成形品，也可以由玻璃形成。
[0037]具有表面Ila的防反射層12與具有表面Ilb的防反射層12的基本結構相同，因此以下對具有表面Ila的防反射層12進行說明。
[0038]防反射層12具有減少光的反射的防反射構造(SWS:SubWavelength Structure)15 JWS15是微細凹凸構造的一個例子。SWS15具有催化劑層13、和在催化劑層13上排列的多個凸部14。
[0039]在催化劑層13的整個表面形成有由ZnO構成的凸部14。因此，由ZnO構成的凸部14無間隙地排列在透鏡主體11的表面11a，一個個突起分別與透鏡主體11的表面Ila密接。
[0040]這里，“凸部14無間隙地排列”是指多個相鄰的凸部14的底部(S卩，凸部14的最低的部分)相互連結，而以不存在平坦部的狀態(tài)排列(例如，參照圖8A)。需要說明的是，如后文所述，相鄰的凸部14的頂點間具有規(guī)定的間距。
[0041]根據(jù)本發(fā)明公開的技術，通過在透鏡主體11與凸部14之間設置催化劑層13，從而能夠避免凸部14從透鏡主體11剝離。
[0042]凸部14以規(guī)定間距(周期)以下而排列。規(guī)定間距設定為比成為防反射層12減少反射的對象的光(以下，稱為“對象光”)的波長(以下，稱為“對象波長”)小。換言之，多個凸部14至少減少具有規(guī)定間距以上的波長的光的反射。凸部14例如呈鐘狀、圓錐那樣的尖細形狀。凸部14可以沿相對于光軸X傾斜的方向延伸，或者相對于光軸X彎曲地延伸，或者折彎延伸。即，SWSl 5為從空氣層(折射率n0 = I)朝向透鏡材料(折射率η I > I)逐漸引起折射率變化而不進行表面反射的防反射構造。
[0043][2.凸部的具體結構]
[0044]通過在防反射層12上排列多個凸部14而形成微細凹凸構造。將連結多個凹部的底部(最低的部分)而形成的假想的面、即催化劑層13的表面設為基面L。基面L與透鏡主體11的表面I la、I Ib大致平行地形成。
[0045]這里，凸部14的間距是相鄰的凸部14的頂點間的在與光軸X正交的面平行的方向上的距離。另外，凸部14的光軸方向的高度是從凸部14的頂點至基面L的在光軸方向上的距離。
[0046]在攝像光學系統(tǒng)中使用透鏡10的情況下，對象光為可見光。在該情況下，對象波長為400nm?700nm，因此優(yōu)選凸部14的間距為400nm以下。若采用這樣的間距，則能夠使對對象光(例如，可見光)的反射率在中心波長550nm處為I %以下。
[0047]另外，優(yōu)選SWS15對對象光(例如，可見光)的反射率在中心波長550nm處為1%以下。從實現(xiàn)較高的防反射效果的角度出發(fā)，凸部14的高度優(yōu)選為對象波長的0.4倍以上。在對象光為可見光的情況下，凸部14的高度優(yōu)選為280nm以上。凸部14的高度更優(yōu)選為500nm以上。
[0048]并且，為了不產(chǎn)生衍射光，優(yōu)選將凸部14的間距設為對象波長除以透鏡10的折射率除而得到的值以下。在對象波長為可見光且透鏡10的折射率為1.5的情況下，凸部14的間距優(yōu)選為266nm以下。
[0049]需要說明的是，在透鏡10的光學功能面上，優(yōu)選將反射率抑制得更低、將透射率設置得更高。即，優(yōu)選通過使凸部14的間距為266nm以下且凸部14的高度為280nm以上，能夠使整個可見光區(qū)的反射率達到1%以下，能夠得到良好的反射抑制效果。需要說明的是，若考慮制造上的容易度，則優(yōu)選凸部14的間距為50nm?266nm、且凸部的高度為280nm?2000nm。例如，通過使凸部14的間距為230nm且凸部14的高度為350nm，能夠使整個可見光區(qū)的反射率達到I %以下，能夠得到良好的反射抑制效果。
[0050]為了減少光學構件的表面反射，防反射層12包括:凸部14，其由透明的材料即ZnO構成;催化劑層13，其含有從Pd、Pt、Au、Ag、Ru、Rh中選出的至少一種元素，且厚度薄至不會妨礙光的透過的程度。
[0051]像這樣，通過以下所示的制造方法能夠容易地在透鏡10等光學構件表面制造催化劑層13以及由ZnO構成的凸部14。
[0052][3.制造方法]
[0053]以下，對透鏡10的制造方法進行說明。圖2是對透鏡10的制造工序進行表示的圖。
[0054]首先，如圖2的(A)所示那樣，準備透鏡主體11。透鏡主體11通過注射成形等形成，具有凸狀的表面lla、llb。
[0055]接下來，如圖2的(B)所示那樣，向含有從Pd、Pt、Au、Ag、Ru、Rh中選出的至少一種元素的溶液中浸漬透鏡主體11，從而在透鏡主體11的表面lla、llb形成催化劑層13。
[0056]該工序中使用的溶液例如是奧野制藥株式會社制的Technoclear(商標名)SN溶液、Techno cl ear AG溶液、以及Techno clear I3D 溶液等。
[0057]另外，在透鏡主體11的表面IIa、I Ib形成催化劑層13所需的時間為0.5?5分鐘，在此期間，優(yōu)選將溶液的溫度保持為室溫(例如25°C)。
[0058]此時，為了不損害透射率，催化劑層13的厚度優(yōu)選為幾nm以下。催化劑層13的厚度優(yōu)選為0.5nm?30nm左右。
[0059]接著，如圖2的(C)所示那樣，將形成有催化劑層13的透鏡主體11浸漬于ZnO非電解鍍敷液中，形成由ZnO構成且呈鐘形狀或錐形狀的凸部14。維持該狀態(tài)而形成SWS15，進而完成在表面形成有防反射層12的透鏡10。
[0060]本發(fā)明公開的技術中使用的ZnO非電解鍍敷液是例如奧野制藥株式會社制的Techno clear-Β工藝用溶液。例如，可以使用Techno cIearZN_M_V2、Techno clear ZN-R-V2以及它們的混合物。
[0061]根據(jù)此時的鍍敷條件以及圖2的(B)的催化劑層13的形成條件，有時會形成ZnO單晶沿C軸取向而成的六棱柱形狀的凸部14’(圖2的(D))。在該情況下，進一步通過濕式蝕刻或者干式蝕刻溶解或者削取六棱柱前端部分而加工成鐘形狀、錐形狀。這樣，形成凸部14，從而遍及透鏡的表面整體而形成SWS15。這樣，在透鏡主體11的兩方的表面lla、llb形成防反射層12。其結果是，同樣地完成透鏡10。
[0062]在濕式蝕刻中，例如可以使用0.2M的磷酸溶液。另外，在干式蝕刻中，可以使用照射由Ar離子構成的RF等離子體的方法或者照射使用了F系、Cl系氣體的ICP等離子體的方法等。
[0063]這里，能夠根據(jù)催化劑層13的形成條件以及ZnO非電解鍍敷液濃度、鍍敷條件來控制凸部14的寬度、高度以及間距。
[0064]例如，若加長ZnO非電解鍍敷條件的時間，則能夠形成間距大致相同而凸部的高度不同的、即縱橫尺寸比不同的SWS15。
[0065]另外，若改變ZnO非電解鍍敷液的濃度，則凸部14的密度發(fā)生變化，其結果是能夠改變間距O大致能夠形成I OOnm至幾μ??的大小的ZnO結晶。
[0066]另外，無論是催化劑層的賦予工序還是ZnO非電解鍍敷工序，均能夠僅通過將光學構件浸漬于規(guī)定的溶液中來進行，因此無論是何種形狀的光學構件(例如鏡筒的內(nèi)表面等)，都能夠非常容易地形成SWS15。另外，ZnO非電解鍍敷液溫度通常為100°C以下，因此也能夠?qū)λ芰系炔痪哂心蜔嵝缘牟牧闲纬蒘WS15。從而，幾乎在所有光學構件上都能夠形成SffSl5 ο
[0067][4.攝像頭]
[0068]接下來，對具備透鏡10的攝像頭100進行說明。圖3表示攝像頭100的簡要剖視圖。
[0069]攝像頭100具備:攝像頭主體110、和安裝在攝像頭主體110上的更換鏡頭120。攝像頭100是攝像裝置的一個例子。
[0070]攝像頭主體110具有攝像元件130。
[0071]更換鏡頭120構成為相對于攝像頭主體110而能夠安裝拆卸。更換鏡頭120例如為望遠變焦鏡頭。更換鏡頭120具有用于使光束聚焦在攝像頭主體110的攝像元件130上的成像光學系統(tǒng)140。成像光學系統(tǒng)140具有上述的透鏡10、和折射型透鏡150、160。透鏡10作為透鏡元件而發(fā)揮功能，由于具有SWS15，因此透鏡表面的反射減少，能夠減少由透鏡表面的反射引起的光斑(f Iare)、重影。
[0072]并且，在更換鏡頭120的鏡筒內(nèi)表面也能夠形成SWS15，因此進一步實現(xiàn)光斑、重影的減少。
[0073][5.效果]
[0074]透鏡10的表面設有SWS15，SWS15具有:催化劑層13、和在催化劑層13上排列的多個凸部14。在催化劑層13的整個表面形成有由ZnO構成的凸部14。因此，由ZnO構成的凸部14無間隙地排列在透鏡主體11的表面11a，一個個突起分別隔著催化劑層13而與透鏡主體11的表面I Ia密接。
[0075]凸部14以規(guī)定間距(周期)以下而排列。規(guī)定間距設定為比成為防反射層12減少反射的對象的光(以下，稱為“對象光”)的波長(以下，稱為“對象波長”)小。換言之，多個凸部14至少減少具有規(guī)定間距以上的波長的光的反射。凸部14例如呈鐘狀、圓錐那樣的尖細形狀。
[0076]在對透鏡主體11進行ZnO非電解鍍敷的各工序中，只要將透鏡主體11浸漬于無ZnO電解溶液中就能夠形成這樣的凸部14。從而，無論是何種形狀的光學構件(例如鏡筒的內(nèi)表面等)，都能夠非常容易地形成SWS15。另外，ZnO的鍍敷液溫度通常為100°C以下，因此也能夠?qū)λ芰系炔痪哂心蜔嵝缘牟牧闲纬蒘WS15。其結果是，能夠容易地制造具備SWS15的透鏡10。
[0077]需要說明的是，能夠根據(jù)催化劑層13的形成條件以及ZnO非電解鍍敷液濃度、鍍敷條件來控制凸部14的寬度、間距以及高度等尺寸。
[0078]例如，若加長ZnO非電解鍍敷條件的時間，則能夠形成間距大致相同而凸部的高度不同的、即縱橫尺寸比不同的SWS15。
[0079]另外，若改變ZnO非電解鍍敷液的濃度，則凸部14的密度發(fā)生變化，其結果是能夠改變間距O大致能夠形成I OOnm至幾μ??的大小的ZnO結晶。
[0080]由ZnO構成的凸部14是透明的，因此進入SWS15內(nèi)的光經(jīng)由多個凸部14進入透鏡主體11內(nèi)部，不會被多個凸部14反射。然后，能夠以較高的透射率透過。
[0081 ] 另外，SWS15對可見光的反射率優(yōu)選在中心波長550nm處為1%以下。
[0082]另外，凸部14的高度例如為500nm以上。
[0083]根據(jù)上述的結構，在將多個凸部14用于減少光的反射的情況下，至少能夠?qū)梢姽獍l(fā)揮較高的反射減少效果。
[0084]〈其他實施方式〉
[0085]如上文所述，作為本發(fā)明的技術的例示，對上述實施方式進行了說明。然而，本發(fā)明中的技術并不限于此，也能夠在適當進行了變更、置換、添加、省略等的實施方式中應用。另外，也能夠?qū)ι鲜鰧嵤┓绞街姓f明的各結構要素進行組合而形成新的實施方式。另外，在附圖以及
【發(fā)明內(nèi)容】
所記載的構成要素中，不僅包括必須的構成要素，為了對上述技術進行例示，也會包括非必須的構成要素。因此，不應當根據(jù)非必須的構成要素記載于附圖、
【發(fā)明內(nèi)容】
中這一事實，便直接將那些非必須的構成要素認定為必須的構成要素。
[0086]上述的實施方式也可以設為如下的結構。
[0087]例如，形成微細凹凸構造的光學構件不限于透鏡。也可以應用于透鏡以外的光學構件。例如，對具有鏡筒內(nèi)表面、顯示器表面那樣的光學功能面的光學構件等以往的難以形成防反射膜等的曲面、筒的內(nèi)表面、大面積等任意形狀都能夠形成SWS。并且，由于能夠在100°C以下的溫度下形成微細凹凸構造，因此也能夠在不具有耐熱性的塑料材料上形成SWS。從而，尤其對利用現(xiàn)有方法的防反射膜等無法實現(xiàn)防反射處理的光學構件可以發(fā)揮效果O
[0088]以往，來自透鏡周邊的光學構件的表面的反射光有時會成為朝向受光部的雜散光。因此，透鏡周邊的光學構件在表面進行紋理加工求加工)等。但是，紋理加工不會消除雜散光，而是通過反射光的散射來改變反射光的方向，減少雜散光向受光部入射的入射量，從而減少雜散光導致光斑等畫質(zhì)劣化。因此，僅紋理加工無法完全抑制光斑等，也需要進行入射光方向的調(diào)節(jié)。通過在透鏡周邊的光學構件形成微細凹凸構造，由此能夠大幅度減少向透鏡投射的雜散光，因此無需設置光學構件的防反射膜等。
[0089]【實施例】
[0090]以下，對形成有微細凹凸構造的透鏡及其制造方法的實施例進行說明。
[0091]-實施例1-
[0092]在實施例1中，在催化劑層的形成、以及ZnO非電解鍍敷中使用奧野制藥株式會社制的市售的Techno cIear_B工藝用的各種溶液，從而在板玻璃基板上形成微細凹凸構造。
[0093]圖4表示其制造工序。
[0094]首先，如圖4的(A)所示，清洗玻璃基板41，將其在50°C的Technoclear CL溶液中浸漬5分鐘，然后直接從溶液取出，進行水洗。接下來，將該玻璃基板41在25 °C的Technoclear SN溶液中浸漬2分鐘后，進行水洗。接下來，將該玻璃基板41在25 °C的Technoc I ear AG溶液中浸漬I分鐘后，進行水洗。然后，將該玻璃基板41在2 5 °C的Te chno clear PD溶液中浸漬I分鐘，從而如圖4的(B)所示，在玻璃基板41表面上致密且密接性良好地形成由Pd與Ag構成的催化劑層43。
[0095]然后，對在表面形成有催化劑層43的玻璃基板41進一步進行水洗，將其在80°C的ZnO非電解鏈敷液(Techno clear ZN-M-V2與Te chno clear ZN-R-V2的混合溶液，濃度比換算為Techno clear ZN-M-V2: Techno clear ZN-R_V2 = 50mL/L: 20mL/L)中浸漬40分鐘。由此，如圖4的(C)所示，得到在催化劑層43的表面致密地排列有ZnO的六棱柱單晶的突起的微細凹凸構造45。
[0096]圖5A示出了該狀態(tài)下的表面SEM照片，圖5B示出了其反射率的測定結果。根據(jù)圖5A，Zn0的六棱柱單晶以致密且?guī)缀醪淮嬖诓ＡЩ?1的平坦部的方式形成，成為排列有六棱柱的凸構造的構造。在這樣的構造中，自空氣層側的表面的折射率變化急劇地發(fā)生，因此無法防止反射，而體現(xiàn)與形成ZnO的薄膜時相同的反射率的行為。即，如圖5B所示，每λ/4反射率的增減呈正弦波狀。若維持該狀態(tài)不變則無法成為防反射構造，因此將該狀態(tài)的玻璃基板浸漬于0.2Μ的磷酸溶液中，通過濕式蝕刻，使ZnO的六棱柱單晶溶解直至ZnO的六棱柱單晶的前端部分成為尖細形狀。這樣，可以得到圖4的(D)所示的鐘形狀的由ZnO構成的凸部44的光學構件。
[0097]圖6Α示出了該狀態(tài)下的表面SEM照片，圖6Β示出了其反射率的測定結果。根據(jù)圖6Α，Ζη0的鐘形狀的單晶以致密且?guī)缀醪淮嬖诓ＡЩ?1的平坦部的方式形成，成為排列有鐘形狀的凸構造的構造。
[0098]由圖6Β可知，若凹凸構造的前端變細，則形成有凹凸的面的折射率變化變得平緩，成為防反射構造，反射率在可見光區(qū)內(nèi)降低，反射率在中心波長550nm處為I %以下。
[0099]-實施例2-
[0100]在實施例2中，在催化劑層的形成、以及ZnO非電解鍍敷中使用奧野制藥株式會社制的市售的Techno cIear_B工藝用的各種溶液，從而在板玻璃基板上形成微細凹凸構造。
[0101]圖7表示其制造工序。
[0102]首先，如圖7的(A)所示，清洗玻璃基板71，將其在50°C的Techno clear CL溶液中浸漬5分鐘，然后直接從溶液取出，進行水洗。接下來，將該玻璃基板71在25 °C的Technoclear SN溶液中浸漬2分鐘后，進行水洗。接下來，將該玻璃基板71在25 °C的Technocl ear AG溶液中浸漬I分鐘后，進行水洗。然后，將該玻璃基板71在25 °C的Techno clear PD溶液中浸漬I分鐘，從而如圖7的(B)所示，在玻璃基板71表面上致密且密接性良好地形成由Pd與Ag構成的催化劑層73。
[0103]然后，對在表面形成有催化劑層73的玻璃基板71進一步進行水洗，將其在70°C的ZnO非電解鏈敷液(Techno clear ZN-M-V2與Te chno clear ZN-R-V2的混合溶液，濃度比換算為Techno clear ZN-M-V2: Techno clear ZN-R_V2 = 50mL/L: 20mL/L)中浸漬40分鐘。由此，如圖7的(C)所示得到具有在催化劑層73的表面致密地排列有ZnO的六棱錐單晶的突起的微細凹凸構造45的光學構件。
[0104]圖8A示出了該狀態(tài)下的表面SEM照片，圖SB示出了其反射率的測定結果。根據(jù)圖8A，Zn0的六棱錐形狀的單晶以致密且?guī)缀醪淮嬖诓ＡЩ?1的平坦部的方式形成，成為排列有六棱錐形狀的凸構造的構造。
[0105]由圖SB可知，若凹凸構造的前端變細，則表面的折射率變化變得平緩，成為防反射構造，反射率在可見光區(qū)內(nèi)降低，反射率在中心波長550nm處為I %以下。
[0106]-實施例3-
[0107]在實施例3中，在催化劑層的形成、以及ZnO非電解鍍敷中使用奧野制藥株式會社制的市售的Techno cIear_B工藝用的各種溶液，從而在聚碳酸酯制成的透鏡罩上形成微細凹凸構造。
[0108]圖9表示其制造工序。
[0109]首先，如圖9的(A)所示，清洗通過注射成形得到的聚碳酸酯制成的透鏡罩91。接下來，將該透鏡罩91在50°C的Techno clear CL溶液中浸漬5分鐘后，然后直接從溶液取出，進行水洗。接下來，將該透鏡罩91在25°C的Techno clear SN溶液中浸漬2分鐘后，進行水洗。接下來，將該透鏡罩91在25°C的Techno clear AG溶液中浸漬I分鐘后，進行水洗。然后，將該透鏡罩91在25°C的Techno clear H)溶液中浸漬I分鐘，從而如圖9的(B)所示，在透鏡罩91表面上致密且密接性良好地形成由Pd與Ag構成的催化劑層93。
[0110]然后，對在表面形成有催化劑層93的透鏡罩91進一步進行水洗，將其在80°C的ZnO非電解鍍敷液(Techno clear ZN-M-V2與Techno clear ZN-R-V2的混合溶液，濃度比換算為Techno clear ZN-M-V2:Techno clear ZN-R-V2 = 50mL/L:20mL/L)中浸漬40分鐘。由此，如圖9的(C)所示，得到在催化劑層93的表面致密地排列有ZnO的六棱柱單晶的突起的微細凹凸構造95。若維持該狀態(tài)不變則無法成為防反射構造，因此進一步將該狀態(tài)的玻璃基板浸漬于0.2M的磷酸溶液中，通過濕式蝕刻溶解ZnO的六棱柱單晶的突起的前端部分直至成為尖細形狀。這樣，可以得到圖9的(D)所示的鐘形狀的由ZnO構成的凸部94的光學構件。
[0111]圖10示出了該狀態(tài)下的表面SEM照片。圖1O的(A)是比例尺為IOym的SEM照片，圖1O的(B)是比例尺為Ιμπι的SEM照片。根據(jù)圖1O，ZnO的鐘形狀的單晶以致密且?guī)缀踉谕哥R罩91整面不存在平坦部的方式形成，成為排列有鐘形狀的凸構造的構造。
[0112]綜上可知，即使是透鏡罩那樣的極難在表面形成微細凹凸構造的構件，并且即使是耐熱性比玻璃等弱的聚碳酸酯，也能夠容易地形成SWS。
[0113]工業(yè)實用性
[0114]如以上說明的那樣，本發(fā)明公開的技術有利于在光學構件的表面形成微細凹凸構造。
[0115]附圖標記說明
[0116]10透鏡(光學構件)
[0117]11透鏡主體
[0118]Ilaaib 表面
[0119]12防反射層
[0120]13、43、73、93 催化劑層
[0121]14、14，、44、94 凸部
[0122]15、45、75、95 SWS(微細凹凸構造)
[0123]41,71玻璃基板
[0124]91透鏡罩
[0125]100攝像頭
[0126]HO攝像頭主體
[0127]120更換鏡頭
[0128]130攝像元件
[0129]140成像光學系統(tǒng)
[0130]150、160折射型透鏡
[0131]L 基面
[0132]X 光軸
【主權項】
1.一種光學構件，包括: 催化劑層，其形成于光學功能面;和 氧化鋅，其由微細凹凸構造形成，所述微細凹凸構造通過在所述催化劑層的表面大致周期性地排列有沿C軸取向而成的鐘形狀或錐形狀的突起構造而成。2.根據(jù)權利要求1所述的光學構件，其中， 所述催化劑層含有以從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素作為主成分的催化劑材料。3.根據(jù)權利要求1所述的光學構件，其中， 所述微細凹凸構造對550nm的波長的反射率為I %以下。4.根據(jù)權利要求1所述的光學構件，其中， 所述突起構造的高度為500nm以上。5.根據(jù)權利要求1所述的光學構件，其中， 在所述微細凹凸構造中，多個所述突起構造之間以無間隙的狀態(tài)排列在所述主體部的表面。6.一種光學構件的制造方法，包括: 第一步驟，將光學構件的光學功能面投入含有從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素的水溶液中，從而在所述光學功能面上生成以所述至少一種元素作為主成分的催化劑層； 第二步驟，將表面生成有所述催化劑層的光學構件的光學功能面投入含有氧化鋅的水溶液中，從而在所述催化劑層的表面生成沿C軸取向的六棱柱突起構造的氧化鋅；以及第三步驟，通過干式蝕刻或濕式蝕刻，將所述六棱柱突起構造的氧化鋅成形為鐘形狀或錐形狀的突起構造。7.一種光學構件的制造方法，包括: 第一步驟，將光學構件的光學功能面投入含有從鈀、鉑、金、銀、釕、銠中選出的至少一種元素的水溶液中，從而在所述光學功能面上生成以所述至少一種元素作為主成分的催化劑層;和 第二步驟，將表面生成有所述催化劑層光學構件的光學功能面投入含有氧化鋅的水溶液中，從而在所述催化劑層的表面生成沿C軸取向的六棱錐形狀或鐘形狀的突起構造的氧化鋅。8.—種攝像裝置，包括: 攝像部，其具有攝像元件;和 光學構件，其安裝于所述攝像部， 所述光學構件包括: 催化劑層，其形成于光學功能面;和 氧化鋅，其由微細凹凸構造形成，所述微細凹凸構造通過在所述催化劑層的表面大致周期性地排列有沿C軸取向而成的鐘形狀或錐形狀的突起構造而成。
【文檔編號】G02B1/118GK106062585SQ201580011345
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2015年8月25日 公開號201580011345.X, CN 106062585 A, CN 106062585A, CN 201580011345, CN-A-106062585, CN106062585 A, CN106062585A, CN201580011345, CN201580011345.X, PCT/2015/4239, PCT/JP/15/004239, PCT/JP/15/04239, PCT/JP/2015/004239, PCT/JP/2015/04239, PCT/JP15/004239, PCT/JP15/04239, PCT/JP15004239, PCT/JP1504239, PCT/JP2015/004239, PCT/JP2015/04239, PCT/JP2015004239, PCT/JP201504239
【發(fā)明人】梅谷誠, 上野巖
【申請人】松下知識產(chǎn)權經(jīng)營株式會社