一種光配向設(shè)備及方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種光配向設(shè)備，包括照射機(jī)構(gòu)，照射機(jī)構(gòu)包括反射殼體，反射殼體包括橢球反射罩、兩組反射鏡單元，橢球反射罩的相對(duì)兩邊分別與兩組反射鏡單元上下拼接形成倒“V”型；配向光源，配向光源設(shè)置在橢球反射罩的焦點(diǎn)處；偏振機(jī)構(gòu)設(shè)在配向光源下方，偏振機(jī)構(gòu)包括兩組布魯斯特分光鏡單元、兩組二分之一波片單元，兩組布魯斯特分光鏡單元連接呈倒“V”型并位于反射殼體內(nèi)部，兩組反射鏡單元與兩組布魯斯特分光鏡單元一一對(duì)應(yīng)，每組二分之一波片單元水平設(shè)置，連接相互對(duì)應(yīng)的反射鏡單元與布魯斯特分光鏡單元。解決了直接用起偏器濾出自然光中的P偏振光導(dǎo)致大量反射損失的問(wèn)題，有利于提高系統(tǒng)的能量利用率，有更高的照度和產(chǎn)率。
【專利說(shuō)明】
_種光配向設(shè)備及方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及一種液晶技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于液晶基板的光配向設(shè)備及一種使用該光配向設(shè)備的光配向方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在液晶顯示器制造過(guò)程中，液晶配向技術(shù)是決定液晶顯示器品質(zhì)的關(guān)鍵技術(shù)之一。所謂的“光配向技術(shù)”即是使用線偏振光聚合反應(yīng)的液晶定向技術(shù)。
[0003]在中國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)說(shuō)明書(shū)CN103582843A中公開(kāi)的線偏振照射偏光膜的技術(shù)方案中，其用紫外燈管發(fā)出紫外輻射，通過(guò)反射器收集能量，通過(guò)起偏器形成線偏振光照射在基板上。但是，直接用起偏器濾出自然光中的P偏振光，由于將S偏振光吸收或者反射、起偏器的透過(guò)率低導(dǎo)致?lián)p失P偏振光等原因，導(dǎo)致能量大量損失，偏振照射系統(tǒng)的能量利用率十分低下，且系統(tǒng)熱負(fù)擔(dān)大，有嚴(yán)重的散熱問(wèn)題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]為克服上述缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的在于提供一種能顯著提高線偏振系統(tǒng)的光源輻射能量利用率的光配向設(shè)備。
[0005]為了達(dá)到以上目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種光配向設(shè)備，包括照射機(jī)構(gòu)，照射機(jī)構(gòu)包括反射殼體，反射殼體包括橢球反射罩、兩組反射鏡單元，橢球反射罩的相對(duì)兩邊分別與兩組反射鏡單元上下拼接形成倒“V”型；照射機(jī)構(gòu)也包括設(shè)置在橢球反射罩焦點(diǎn)處的配向光源；照射機(jī)構(gòu)還包括設(shè)在配向光源下方的偏振機(jī)構(gòu)，偏振機(jī)構(gòu)包括兩組布魯斯特分光鏡單元、兩組二分之一波片單元，兩組布魯斯特分光鏡單元連接呈倒“V”型并位于反射殼體內(nèi)部，兩組反射鏡單元與兩組布魯斯特分光鏡單元一一對(duì)應(yīng)，每組二分之一波片單元水平設(shè)置，連接相互對(duì)應(yīng)的反射鏡單元與布魯斯特分光鏡單元。通過(guò)兩組布魯斯特分光鏡單元與兩組二分之一波片單元的配合使用，對(duì)被反射的S偏振光進(jìn)行了有效的轉(zhuǎn)換利用，系統(tǒng)有更高的照度和產(chǎn)率。
[0006]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)是，每組布魯斯特分光鏡單元由若干個(gè)布魯斯特分光鏡構(gòu)成，若干個(gè)布魯斯特分光鏡沿前后方向直線拼接，每相鄰的兩個(gè)布魯斯特分光鏡的拼接邊與布魯斯特分光鏡單元的較長(zhǎng)兩邊不垂直；每組二分之一波片單元由若干個(gè)二分之一波片構(gòu)成，若干個(gè)二分之一波片沿前后方向直線拼接，每相鄰的兩個(gè)二分之一波片的拼接邊與二分之一波片單元的較長(zhǎng)兩邊不垂直；每組反射鏡單元由若干個(gè)反射鏡構(gòu)成，若干個(gè)反射鏡沿前后方向直線拼接，每相鄰的兩個(gè)反射鏡的拼接邊與反射鏡單元的較長(zhǎng)兩邊不垂直。這樣的嵌入式拼接能一定程度上改善系統(tǒng)能量積分的一致性差的問(wèn)題。
[0007]優(yōu)選地，每個(gè)布魯斯特分光鏡、反射鏡、二分之一波片呈平行四邊形，若干個(gè)二分之一波片外側(cè)均設(shè)有補(bǔ)償非拼接部分積分能量的均勻性補(bǔ)償片。對(duì)拼接部分互相嵌入后非拼接部分的積分能量進(jìn)行修整補(bǔ)償，達(dá)到更好的整體能量的積分均勻性。
[0008]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)是，每個(gè)布魯斯特分光鏡的內(nèi)外側(cè)面鍍有增透膜。有利于增加透射光的強(qiáng)度，減少反射光的損失；一定程度上修正自然光入射到布魯斯特分光鏡上的入射角。
[0009]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)是，照射機(jī)構(gòu)下方設(shè)置有工件臺(tái)，工件臺(tái)的上方設(shè)有基板，基板位于照射機(jī)構(gòu)的下方。工件臺(tái)搬運(yùn)、承載基板，并搭載基板水平移動(dòng)進(jìn)行掃描曝光。
[0010]優(yōu)選地，照射機(jī)構(gòu)可以設(shè)置不止一個(gè)，多個(gè)照射機(jī)構(gòu)平行設(shè)置在工件臺(tái)的上方。有利于提高系統(tǒng)對(duì)基板進(jìn)行掃描曝光的工作效率。
[0011]本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)是，還包括PLC，其中一個(gè)反射鏡背面設(shè)有能量監(jiān)測(cè)傳感器，工件臺(tái)上端面設(shè)有絕對(duì)能量傳感器，能量監(jiān)測(cè)傳感器與絕對(duì)能量傳感器均與PLC連接。能量監(jiān)測(cè)傳感器設(shè)在反射鏡背面，避免遮擋曝光光路，能量監(jiān)測(cè)傳感器和絕對(duì)能量傳感器的配合使用，能有效監(jiān)測(cè)配向光源的實(shí)際輻射能量。
[0012]本發(fā)明也提供光配向設(shè)備的配向方法，方法步驟包括:在PLC上輸入目標(biāo)劑量；PLC讀取能量監(jiān)測(cè)傳感器信息；PLC根據(jù)目標(biāo)劑量及能量監(jiān)測(cè)傳感器監(jiān)測(cè)到的信息參數(shù)計(jì)算出工件臺(tái)掃描速度；固定放置的照射機(jī)構(gòu)內(nèi)配向光源開(kāi)啟，配向光源發(fā)出的自然光經(jīng)由橢球反射罩收集能量后照射在布魯斯特分光鏡單元上，自然光中P偏振光透過(guò)布魯斯特分光鏡單元照射到基板上，而自然光中的S偏振光反射到反射鏡單元后射入二分之一波片單元上，透過(guò)二分之一波片單元后轉(zhuǎn)變?yōu)镻偏振光照射在基板上；基板搭載在工件臺(tái)上以PLC計(jì)算出的掃描速度進(jìn)行水平移動(dòng)，固定放置的照射機(jī)構(gòu)對(duì)基板開(kāi)始進(jìn)行掃描曝光。
[0013]本方法的進(jìn)一步改進(jìn)是，PLC定期利用絕對(duì)能量傳感器讀取當(dāng)前照射面強(qiáng)度參數(shù)，更新能量監(jiān)測(cè)傳感器增益值，校正能量監(jiān)測(cè)傳感器示數(shù)，更新工件臺(tái)的掃描速度。保證即使在汞燈生命周期后期時(shí)能量衰減，每塊基板的曝光劑量一致。
【附圖說(shuō)明】
[0014]圖1為本發(fā)明的主視圖；
[0015]圖2為本發(fā)明的俯視圖；
[0016]圖3為本發(fā)明中的每一個(gè)布魯斯特分光鏡的立體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0017]圖4為每個(gè)二分之一波片或每個(gè)布魯斯特分光鏡或每個(gè)反射鏡為平行四邊形時(shí)的拼接圖；
[0018]圖5為本發(fā)明中每組二分之一波片單元或每組布魯斯特分光鏡單元或每組反射鏡單元拼接為平行四邊形后的能量分布圖；
[0019]圖6為本發(fā)明中每個(gè)二分之一波片為平行四邊形時(shí)且設(shè)置有均勻補(bǔ)償片的位置示意圖；
[0020]圖7為本發(fā)明中每組二分之一波片單元拼接為平行四邊形時(shí)設(shè)置均勻補(bǔ)償片補(bǔ)償后的積分能量分布圖；
[0021]圖8為本發(fā)明絕對(duì)能量傳感器定期標(biāo)定和校正能量監(jiān)測(cè)傳感器的流程框圖；
[0022]圖9為本發(fā)明光配向設(shè)備配向過(guò)程中的掃描曝光流程框圖。
【具體實(shí)施方式】
[0023]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0024]參見(jiàn)附圖1及附圖2所示，本實(shí)施例中的一種光配向設(shè)備，包括照射機(jī)構(gòu)8，照射機(jī)構(gòu)8包括反射殼體，反射殼體包括橢球反射罩1、兩組反射鏡單元4，橢球反射罩I的相對(duì)兩邊分別與兩組反射鏡單元4上下拼接形成倒“V”型；光配向設(shè)備也包括設(shè)置在橢球反射罩I的焦點(diǎn)處的配向光源2，配向光源2可選擇汞燈等光源；還包括偏振機(jī)構(gòu)，偏振機(jī)構(gòu)設(shè)在配向光源2下方，包括兩組布魯斯特分光鏡單元3、兩組二分之一波片單元5，兩組布魯斯特分光鏡單元3連接呈倒“V”型并位于反射殼體內(nèi)部，兩組反射鏡單元4與兩組布魯斯特分光鏡單元3 —一對(duì)應(yīng)，每組二分之一波片單元5水平設(shè)置，連接相互對(duì)應(yīng)的反射鏡單元4與布魯斯特分光鏡單元3。
[0025]參見(jiàn)附圖1中虛線所示的光線傳播的大致過(guò)程，照射機(jī)構(gòu)8的結(jié)構(gòu)原理為:配向光源2發(fā)出的自然光經(jīng)由橢球反射罩I收集能量后照射在布魯斯特分光鏡單元3上，配向光源2設(shè)在橢球反射罩I焦點(diǎn)處，兩組布魯斯特分光鏡單元3倒“V”型的角度設(shè)置，需滿足入射到布魯斯特分光鏡單元3上的自然光入射角為布魯斯特角，則自然光中P偏振光將會(huì)透過(guò)布魯斯特分光鏡單元3繼續(xù)照射到基板6上，同時(shí)S偏振光將會(huì)被反射到反射鏡單元4上，經(jīng)反射鏡單元4反射到二分之一波片單元5上，由于二分之一波片單元5的特性，S偏振光在穿過(guò)二分之一波片單元5后會(huì)被轉(zhuǎn)變?yōu)镻偏振光繼續(xù)照射在基板6上。此照射機(jī)構(gòu)8的設(shè)置將S偏振光回收再利用，使得在使用同樣功率的配向光源2時(shí)本發(fā)明較現(xiàn)有技術(shù)有更高的照度。
[0026]由于現(xiàn)有技術(shù)中基板6的尺寸很大，而本發(fā)明中的布魯斯特分光鏡單元3、反射鏡單元4及二分之一單元5 —次性加工到這么大的尺寸很有難度，需要進(jìn)行拼接。若兩鏡片拼接邊與單元較長(zhǎng)邊垂直，在每?jī)善g拼接的接縫處會(huì)存在明顯的能量一致性差的問(wèn)題，影響曝光后的積分能量均勻性。所以，設(shè)置每組布魯斯特分光鏡單元3由若干個(gè)沿前后方向直線拼接的布魯斯特分光鏡3a構(gòu)成，每相鄰的兩個(gè)布魯斯特分光鏡3a的拼接邊與布魯斯特分光鏡單元3的較長(zhǎng)兩邊不垂直；每組二分之一波片單元5由若干個(gè)沿前后方向直線拼接的二分之一波片5a構(gòu)成，每相鄰的兩個(gè)二分之一波片5a的拼接邊與二分之一波片單元5的較長(zhǎng)兩邊不垂直；每組反射鏡單元4由若干個(gè)沿前后方向直線拼接的反射鏡4a構(gòu)成，每相鄰的兩個(gè)反射鏡4a的拼接邊與反射鏡單元4的較長(zhǎng)兩邊不垂直。每組二分之一波片單元5或每組布魯斯特分光鏡單元3或每組反射鏡4單元可以拼接為實(shí)施例中的平行四邊形，也可以拼接為梯形、三角形等。
[0027]優(yōu)選地，如圖4所示，每個(gè)布魯斯特分光鏡3a、反射鏡4a、二分之一波片5a呈平行四邊形。但是，如圖5所示，互相嵌入的拼接部分積分能量與非拼接部分積分能量的差異會(huì)導(dǎo)致整體的積分均勻性大幅降低。為了解決這一情況，如圖6所示，在若干個(gè)二分之一波片5a外側(cè)均設(shè)有補(bǔ)償非拼接部分積分能量的均勻性補(bǔ)償片9，對(duì)拼接部分互相嵌入后的積分能量分布進(jìn)行修正補(bǔ)償，如圖7所示，顯而易見(jiàn)，設(shè)置均勻性補(bǔ)償片9后系統(tǒng)的積分能量均勻分布達(dá)到了更好的積分均勻性。
[0028]如圖3所示，每個(gè)布魯斯特分光鏡3a的內(nèi)外側(cè)面鍍有增透膜3al，增透膜3al的設(shè)置可大大增加透射光的強(qiáng)度，減少反射光的強(qiáng)度，而改變?cè)鐾改?al的厚度，可以定向改變完全增透的單色光的波長(zhǎng)，使系統(tǒng)增透光波長(zhǎng)有可選擇性，也可一定程度上提高增透的單色光入射到布魯斯特分光鏡單元3上的入射角為布魯斯特角的準(zhǔn)確性，而避免調(diào)整兩組布魯斯特分光鏡單元3形成的“V”形的角度帶來(lái)的工藝繁雜問(wèn)題。
[0029]如圖2所示，固定設(shè)置的照射機(jī)構(gòu)8下方設(shè)置有工件臺(tái)7，工件臺(tái)7上設(shè)有基板6，基板6位于照射機(jī)構(gòu)8的上方。工件臺(tái)搬運(yùn)、承載基板6，搭載基板6進(jìn)行掃描曝光。照射機(jī)構(gòu)8也可以設(shè)置不止一個(gè)，多個(gè)照射機(jī)構(gòu)8平行設(shè)置在工件臺(tái)7上方，有利于提高系統(tǒng)對(duì)基板6進(jìn)行掃描曝光的工作效率。
[0030]光配向設(shè)備還包括PLC，如圖1所示，其中一個(gè)反射鏡4a的背面設(shè)有能量監(jiān)測(cè)傳感器10，工件臺(tái)7上端面設(shè)有絕對(duì)能量傳感器11，能量監(jiān)測(cè)傳感器10、絕對(duì)能量傳感器11均與PLC連接。其中，能量監(jiān)測(cè)傳感器10設(shè)在反射鏡4a的背面，避免了遮擋曝光光路?，F(xiàn)有技術(shù)中，配向光源2有一定的生命周期，在這周期內(nèi)其輻射能量會(huì)持續(xù)衰減，能量監(jiān)測(cè)傳感器10可以從反射鏡4a背面泄露的能量監(jiān)測(cè)到輻射能量的衰減情況。定期使用設(shè)在工件臺(tái)7端面上的絕對(duì)能量傳感器11能檢測(cè)到下方基板6被照射的實(shí)際輻射能量情況，絕對(duì)能量傳感器11根據(jù)監(jiān)測(cè)到的實(shí)際示數(shù)計(jì)算能量監(jiān)測(cè)傳感器10的增益值，增益值為絕對(duì)能量傳感器11讀數(shù)/能量傳感器10讀數(shù)，從而對(duì)能量監(jiān)測(cè)傳感器10的示數(shù)進(jìn)行標(biāo)定與校正，有效監(jiān)測(cè)配向光源2的實(shí)際輻射能量，修正每一次的工件臺(tái)7的掃描速度，進(jìn)一步保證即使在配向光源2的壽命后期，系統(tǒng)依然能夠保證每一片基板6的曝光劑量是一致的。
[0031]如圖8所示的本發(fā)明絕對(duì)能量傳感器11定期標(biāo)定和校正能量監(jiān)測(cè)傳感器10的流程框圖，及圖9所示的本發(fā)明光配向設(shè)備的配向過(guò)程中的曝光流程框圖，本發(fā)明也提供一種光配向設(shè)備的光配向方法，包括如下步驟:在PLC上輸入目標(biāo)劑量，然后PLC讀取能量監(jiān)測(cè)傳感器10信息，PLC根據(jù)目標(biāo)劑量及能量監(jiān)測(cè)傳感器10監(jiān)測(cè)到的信息參數(shù)計(jì)算出工件臺(tái)7的掃描速度，固定放置的照射機(jī)構(gòu)8內(nèi)配向光源2開(kāi)啟，配向光源2發(fā)出的自然光經(jīng)由橢球反射罩I收集能量后照射在布魯斯特分光鏡單元3上，自然光中P偏振光透過(guò)布魯斯特分光鏡單元3照射到基板6上，而自然光中的S偏振光反射到反射鏡單元4后射入二分之一波片單元5上，S偏振光透過(guò)二分之一波片單元5后轉(zhuǎn)變?yōu)镻偏振光照射在基板6上。基板6搭載在工件臺(tái)7上以PLC計(jì)算出的掃描速度進(jìn)行水平移動(dòng)，固定放置的照射機(jī)構(gòu)8開(kāi)始對(duì)基板6進(jìn)行掃描曝光。PLC定期利用絕對(duì)能量傳感器11校正能量監(jiān)測(cè)傳感器10示數(shù)，更新工件臺(tái)7掃描速度。
[0032]以上實(shí)施方式只為說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光配向設(shè)備，包括照射機(jī)構(gòu)(8)，其特征在于:所述照射機(jī)構(gòu)(8)包括 反射殼體，所述反射殼體包括橢球反射罩(I)、兩組反射鏡單元(4)，所述橢球反射罩(I)的相對(duì)兩邊分別與兩組反射鏡單元(4)上下拼接形成倒“V”型； 配向光源(2)，所述配向光源(2)設(shè)置在橢球反射罩(I)的焦點(diǎn)處； 偏振機(jī)構(gòu)，所述偏振機(jī)構(gòu)設(shè)在配向光源(2)下方，所述偏振機(jī)構(gòu)包括兩組布魯斯特分光鏡單元(3)、兩組二分之一波片單元(5)，所述兩組布魯斯特分光鏡單元(3)連接呈倒“V”型并位于反射殼體內(nèi)部，所述兩組反射鏡單元(4)與兩組布魯斯特分光鏡單元(3) —一對(duì)應(yīng)，每組二分之一波片單元(5)水平設(shè)置，連接相互對(duì)應(yīng)的反射鏡單元(4)與布魯斯特分光鏡單兀⑶。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述每組布魯斯特分光鏡單元(3)由若干個(gè)布魯斯特分光鏡(3a)構(gòu)成，若干個(gè)所述布魯斯特分光鏡(3a)沿前后方向直線拼接，所述每相鄰的兩個(gè)布魯斯特分光鏡(3a)的拼接邊與布魯斯特分光鏡單元(3)的較長(zhǎng)兩邊不垂直； 所述每組二分之一波片單元(5)由若干個(gè)二分之一波片(5a)構(gòu)成，若干個(gè)所述二分之一波片(5a)沿前后方向直線拼接，所述每相鄰的兩個(gè)二分之一波片(5a)的拼接邊與二分之一波片單元(5)的較長(zhǎng)兩邊不垂直； 所述每組反射鏡單元(4)由若干個(gè)反射鏡(4a)構(gòu)成，若干個(gè)所述反射鏡(4a)沿前后方向直線拼接，所述每相鄰的兩個(gè)反射鏡(4a)的拼接邊與反射鏡單元(4)的較長(zhǎng)兩邊不垂直。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述每個(gè)布魯斯特分光鏡(3a)、反射鏡(4a)、二分之一波片(5a)呈平行四邊形，若干個(gè)所述二分之一波片(5a)外側(cè)均設(shè)有補(bǔ)償非拼接部分積分能量的均勻性補(bǔ)償片(9)。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光配向設(shè)備，其特征在于:每個(gè)所述布魯斯特分光鏡(3a)的內(nèi)外側(cè)面鍍有增透膜(3al)。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述照射機(jī)構(gòu)(8)下方設(shè)置有工件臺(tái)(7)，所述工件臺(tái)(7)的上方設(shè)有基板￠)，所述基板(6)位于照射機(jī)構(gòu)(8)的下方。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光配向設(shè)備，其特征在于:所述照射機(jī)構(gòu)(8)設(shè)置至少兩個(gè)，并平行設(shè)置在工件臺(tái)(7)的上方。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光配向設(shè)備，其特征在于:還包括PLC，其中一個(gè)所述反射鏡(4a)的背面設(shè)有能量監(jiān)測(cè)傳感器(10)，所述工件臺(tái)(7)上端面設(shè)有絕對(duì)能量傳感器(11)，所述能量監(jiān)測(cè)傳感器(10)、絕對(duì)能量傳感器(11)均與PLC連接。8.一種光配向方法，其特征在于:包括如下步驟: a.在PLC上輸入目標(biāo)劑量； b.PLC讀取能量監(jiān)測(cè)傳感器(10)信息； c.PLC根據(jù)目標(biāo)劑量及能量監(jiān)測(cè)傳感器(10)監(jiān)測(cè)到的信息參數(shù)計(jì)算出工件臺(tái)(7)掃描速度； d.固定放置的照射機(jī)構(gòu)(8)內(nèi)配向光源(2)開(kāi)啟，配向光源(2)發(fā)出的自然光經(jīng)由橢球反射罩(I)收集能量后照射在布魯斯特分光鏡單元(3)上，自然光中P偏振光透過(guò)布魯斯特分光鏡單元(3)照射到基板(6)上；而自然光中的S偏振光反射到反射單元(4)后射入二分之一波片單元(5)上，透過(guò)二分之一波片單元(5)后轉(zhuǎn)變?yōu)镻偏振光照射在基板(6)上; e.基板(6)搭載在工件臺(tái)(7)上以PLC計(jì)算出的掃描速度進(jìn)行水平移動(dòng)，固定放置的照射機(jī)構(gòu)(8)開(kāi)始對(duì)基板(6)進(jìn)行掃描曝光。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光配向方法，其特征在于:所述PLC定期利用絕對(duì)能量傳感器(11)讀取當(dāng)前照射面強(qiáng)度參數(shù)，更新能量監(jiān)測(cè)傳感器(10)增益值，校正能量監(jiān)測(cè)傳感器(10)示數(shù)，更新工件臺(tái)(7)掃描速度。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK106033161SQ201510067422
【公開(kāi)日】2016年10月19日
【申請(qǐng)日】2015年2月9日
【發(fā)明人】曹昌智
【申請(qǐng)人】蘇州優(yōu)維畢光電科技有限公司