測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明是測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，它由平面反射鏡、透鏡組和球面反射鏡組成。平面反射鏡有兩個工作面；透鏡表面均鍍高透過率膜。球面反射鏡球面部分反射。透鏡組和球面反射鏡形成一倍遠心成像系統(tǒng)。高功率激光光束的待測試截面位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)的物面。高功率激光光束經平面反射鏡的工作面部分反射光，經透鏡組和球面反射鏡的球面部分反射，再經過透鏡組和平面反射鏡，抵達位于一倍遠心成像系統(tǒng)像面的光束分析儀的工作面上。經光束分析儀數據處理，便可得知高功率激光光束任一截面的強度分布。
【專利說明】
測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及高功率激光光束測試技術領域，特別是指一種測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置。
【背景技術】
[0002]隨著高功率激光光束和能量的增加，激光技術成功在機械、電子、航空等領域的應用各類控制測量機構成倍增長，但由于其特殊的光束特性和很高的功率密度，許多測量裝置在使用上都有一定的局限性。

【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服現有技術的不足，從而提供一種測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置。
[0004]本發(fā)明通過以下技術方案實現，包括平面反射鏡，透鏡組和球面反射鏡組成一倍遠心成像系統(tǒng)，還包括光束分析儀和高功率激光光束;平面反射鏡包括上工作面和下工作面;高功率激光光束的待測試截面位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)的物面，光束分析儀的工作面位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)的像面。
[0005]所述平面反射鏡的上工作面部分反射，下工作面鍍高透過率膜;透鏡組的透鏡表面均鍍高透過率膜;球面反射鏡的球面部分反射。
[0006]所述平面反射鏡的上工作面的反射率為Rl，下工作面的透過率接近100%;透鏡組的透過率接近100%，球面分射鏡的球面的反射率為R2;所述衰減率可達Rl XR2X (1-R1)。
[0007]所述平面反射鏡的上工作面一般部分反射率為4%;所述球面反射鏡的球面一般部分反射為4%。
[0008]所述透鏡組為多個透鏡或單個透鏡。
[0009]本發(fā)明的優(yōu)點在于，結構簡單易用，提高了光束分析儀的安全性和使用壽命;經光束分析儀數據處理，便可得知高功率激光光束任一截面的強度分布。
【附圖說明】
[0010]圖1為本發(fā)明結構示意圖。
【具體實施方式】
[0011]下面結合附圖1對本發(fā)明的優(yōu)選實施例作進一步說明，包括平面反射鏡10，透鏡組20和球面反射鏡30組成一倍遠心成像系統(tǒng)100，還包括光束分析儀40和高功率激光光束50;平面反射鏡10包括上工作面11和下工作面12;高功率激光光束50的待測試截面51位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)100的物面，光束分析儀40的工作面位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)100的像面。
[0012]所述平面反射鏡10的上工作面11部分反射，下工作面12鍍高透過率膜;透鏡組20的透鏡表面均鍍高透過率膜;球面反射鏡30的球面31部分反射。
[0013]所述平面反射鏡10的上工作面11的反射率為Rl，下工作面12的透過率接近100%;透鏡組20的透過率接近100%，球面分射鏡30的球面31的反射率為R2;入射激光光束的功率P為5000瓦，很顯然，沒有一個商用光束分析儀能夠承受如此高功率，直接應用會燒毀光束分析儀。激光光束經本裝置后進入光束分析儀的功率為P XRl X R2 X (1-Rl )，所述衰減率可達Rl XR2X(1-R1)。如果工作面11和球面31均不鍍膜，所述平面反射鏡10的上工作面11 一般部分反射率為4%;所述球面反射鏡30的球面31 —般部分反射為4%;則衰減率大致為
0.1536%，因此5000瓦的激光光束中僅7.68瓦進入光束分析儀。
[0014]透鏡組20為單個透鏡的一倍遠心成像系統(tǒng)實施例，物距11.389mm;透鏡的曲率半徑分別為-23.509mm和-13.602mm;透鏡厚度為5mm;透鏡材料為石英玻璃;球面曲率半徑-100mm。球面31與透鏡的曲率-13.602mm;面在光軸上的間距為77.806mm;激光波長為1080nm。
[0015]透鏡組20為兩個透鏡的一倍遠心成像系統(tǒng)實施例，物距20mm;第一個透鏡的曲率半徑分別為264.96 Imm和-28.734mm;第二個透鏡的曲率半徑分別為47.51 Imm和36.213mm；兩個透鏡厚度均為5mm;兩透鏡相距0.5mm;透鏡材料為石英玻璃;球面曲率半徑-100mm;球面31與第二個透鏡的曲率36.213mm;面在光軸上的間距為63.699mm;激光波長為1080nm。
[0016]所述透鏡組20為多個透鏡或單個透鏡。
【主權項】
1.測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，其特征是，包括平面反射鏡(10)，透鏡組(20)和球面反射鏡(30)組成一倍遠心成像系統(tǒng)100，還包括光束分析儀(40)和高功率激光光束(50);平面反射鏡(10)包括上工作面(11)和下工作面(12);高功率激光光束(50)的待測試截面(51)位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)(100)的物面，光束分析儀(40)的工作面(41)位于所述的一倍遠心成像系統(tǒng)(100)的像面。2.根據權利要求1所述的測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，其特征是，所述平面反射鏡(10)的上工作面(11)部分反射，下工作面(12)鍍高透過率膜;透鏡組(20)的透鏡表面均鍍高透過率膜;球面反射鏡(30)的球面(31)部分反射。3.根據權利要求2所述的測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，其特征是， 所述平面反射鏡(10)的上工作面(I I)的反射率為Rl，下工作面(12)的透過率接近100%;透鏡組(20 )的透過率接近100%，球面分射鏡(30 )的球面(31)的反射率為R2;所述衰減率可達 R1XR2X(1-R1)。4.根據權利要求2或3所述的測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，其特征是，所述平面反射鏡(10)的上工作面(11) 一般部分反射率為4%;所述球面反射鏡(30)的球面(31)一般部分反射為4%。5.根據權利要求1所述的測量高功率激光聚焦光束分布的衰減裝置，其特征是，所述透鏡組(20)為多個透鏡或單個透鏡。
【文檔編號】G02B17/08GK105842832SQ201610254511
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年4月24日
【發(fā)明人】鄢雨, 吳秀榕, 梁小生
【申請人】湖南戴斯光電有限公司