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偏光膜的制作方法

文檔序號(hào):9756743閱讀:2325來源:國知局
偏光膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種在正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光泄露少的薄型偏光膜及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 具有光透過和遮蔽功能的偏振片與使光的偏光狀態(tài)變化的液晶一起,是液晶顯示 器(LCD)的基本構(gòu)成要素。多數(shù)偏振片具有在偏光膜表面上貼合了三乙酸纖維素(TAC)膜等 保護(hù)膜的構(gòu)造,作為構(gòu)成偏振片的偏光膜,主流是在聚乙烯醇膜(以下聚乙烯醇有時(shí)簡稱為 PVA)單軸拉伸而成的基材(單軸拉伸取向的拉伸膜)中吸附了碘系色素(If或If等)的。這 種偏光膜通過將預(yù)先含有碘系色素的PVA膜進(jìn)行單軸拉伸,或者在PVA膜進(jìn)行單軸拉伸的同 時(shí)使其吸附碘系色素,或者PVA膜單軸拉伸之后使其吸附碘系色素等而制造。
[0003] IXD逐漸應(yīng)用于臺(tái)式機(jī)和手表等小型機(jī)器、筆記本電腦、液晶監(jiān)視器、液晶彩色投 影儀、液晶電視機(jī)、車載導(dǎo)航系統(tǒng)、便攜式電話、屋內(nèi)外使用的計(jì)測機(jī)器等廣泛的用途,近年 來越來越多應(yīng)用于特別是小型筆記本電腦和便攜式電話等個(gè)人用途,強(qiáng)烈要求偏振片的薄 型化。
[0004] 作為使構(gòu)成偏振片的偏光膜薄型化的方法,已知有將在熱塑性樹脂膜的單面上形 成PVA層而成的疊層體進(jìn)行拉伸、染色和干燥之后,根據(jù)需要將拉伸的熱塑性樹脂膜的層剝 離除去的方法(參照專利文獻(xiàn)1和2等)。
[0005] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)1:國際申請(qǐng)公開W02010/100917號(hào) 專利文獻(xiàn)2:日本專利第4691205號(hào)說明書。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006] 但是,根據(jù)以往公知方法制造薄型偏光膜時(shí),存在正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光泄露 多的問題。因此,本發(fā)明的目的在于提供正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光泄露少的薄型偏光膜及 其制造方法。
[0007] 本發(fā)明的發(fā)明人為了實(shí)現(xiàn)前述目的進(jìn)行了深入的研究,結(jié)果發(fā)現(xiàn)在通過染色并拉 伸薄型PVA膜來制造偏光膜時(shí),通過將所使用的含有碘系色素的染色浴的溫度和在染色浴 中的浸漬時(shí)間控制在特定范圍,就能夠容易地獲得通過拉曼光譜法測量截面而獲得的膜的 厚度方向中央位置處與表面附近處各測量結(jié)果滿足特定關(guān)系、且正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光 泄露少的以往所沒有的薄型偏光膜,并基于該發(fā)現(xiàn)進(jìn)行更為深入的研究而完成本發(fā)明。
[0008] SP,本發(fā)明涉及: 【1】一種偏光膜,在含有PVA的基材中吸附了碘系色素,厚度為25微米以下,正交尼克爾 狀態(tài)下波長480nm處吸光度(A)與波長700nm處吸光度(B)的比例(A/B)為1.42以上。以下,將 該偏光膜有時(shí)稱為偏光膜(1)。
[0009] 【2】一種偏光膜,在含有PVA的基材中吸附了碘系色素,厚度為25微米以下,設(shè)拉曼 光譜法測量所述偏光膜截面而獲得的膜厚度方向中央位置處的310CHT 1處信號(hào)強(qiáng)度(Int31()) 與210CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int21())的比例(Int31Vl nt21())為L,從膜的一側(cè)表面開始沿厚度方向 向內(nèi)部相對(duì)于厚度進(jìn)入10%的位置處的310CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int31())與210CHT 1處信號(hào)強(qiáng)度 (Int21,的比例(Int31Vlnt 21())為M,從膜的另一側(cè)表面開始沿厚度方向向內(nèi)部相對(duì)于厚度 進(jìn)入10%的位置處的310CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int 31())與210CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int21())的比例 (Int 31Q/Int21Q)為N時(shí)(其中M < N),2 XL/(M+N)是0.91以下。以下,將該偏光膜有時(shí)稱為偏光 膜(2)。
[0010]【3】前述【2】的偏光膜,正交尼克爾狀態(tài)下波長480nm處吸光度(A)與波長700nm處 吸光度(B)的比例(A/B)為1.42以上。
[0011]【4】前述【1】至【3】任一項(xiàng)的偏光膜,其中設(shè)偏光膜所含的堿金屬的含量為X摩爾/ kg,偏光膜的厚度為Y微米時(shí),式Z=XX log(Y)所示的Z為0.19以下。
[0012]【5】前述【1】至【4】任一項(xiàng)的偏光膜,其中單體透過率為40-45%。
[0013]【6】一種制造方法,是偏光膜的制造方法,包含染色和拉伸厚度為50微米以下的 PVA膜的步驟,其中染色通過將PVA膜浸漬在含有碘系色素的染色浴中來進(jìn)行,染色浴的溫 度為25°C以下,浸漬時(shí)間為1.5分鐘以下。
[0014]發(fā)明效果 根據(jù)本發(fā)明,提供了正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光泄露少的薄型偏光膜。另外,根據(jù)本發(fā) 明,提供了能夠容易制造該偏光膜的偏光膜的制造方法。
【具體實(shí)施方式】
[0015] 以下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)的說明。
[0016] (偏光膜) 本發(fā)明的偏光膜在含有PVA的基材中吸附了碘系色素。這種偏光膜可以通過將預(yù)先含 有碘系色素的PVA膜進(jìn)行單軸拉伸,或者在PVA膜拉伸的同時(shí)使其吸附碘系色素,或者PVA膜 拉伸形成基材之后使其吸附碘系色素等而制造。
[0017] 本發(fā)明的偏光膜的厚度為25微米以下。通過使厚度為25微米以下,容易獲得近些 年來要求的薄型偏振片。從該角度出發(fā),偏光膜的厚度優(yōu)選23微米以下,更優(yōu)選20微米以 下,進(jìn)一步優(yōu)選10微米以下,特別優(yōu)選5微米以下。并且,厚度過薄的偏光膜其制造困難,因 此偏光膜的厚度比如是1微米以上(比如2.5微米以上)。
[0018] 就構(gòu)成本發(fā)明的一個(gè)方面的偏光膜(1)而言,其正交尼克爾狀態(tài)下波長480nm處吸 光度(A)與波長700nm處吸光度(B)的比例(A/B)為1.42以上。通過使該比例(A/B)為1.42以 上,成為藍(lán)色光泄露少的偏光膜。從該角度出發(fā),該比例(A/B )優(yōu)選1.43以上,更優(yōu)選1.44以 上。另一方面,該比例(A/B)太過高時(shí),紅色光的泄露有增多的傾向,因此該比例(A/B)優(yōu)選 為2以下,更優(yōu)選為1.8以下,進(jìn)一步優(yōu)選1.6以下。并且,所述吸光度(A)和吸光度(B)可以使 用分光光度計(jì)求得,具體可以通過在實(shí)施例中后述的方法求得。
[0019] 另外,就構(gòu)成本發(fā)明的另一個(gè)方面的偏光膜(2)而言,設(shè)拉曼光譜法測量所述偏光 膜截面而獲得的膜厚度方向中央位置處的310CHT 1處信號(hào)強(qiáng)度(Int31())與210CHT1處信號(hào)強(qiáng) 度(Int 21())的比例(Int31Vlnt21())為L,從膜的一側(cè)表面開始沿厚度方向向內(nèi)部相對(duì)于厚度 進(jìn)入10%的位置處的310CHT 1處信號(hào)強(qiáng)度(Int31())與210CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int21())的比例 (Int 31()/Int21())為M,從膜的另一側(cè)表面開始沿厚度方向向內(nèi)部相對(duì)于厚度進(jìn)入10%的位置 處的310CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int31Q)與210CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int 21Q)的比例(Int31Q/Int21Q)為N時(shí) (其中]\^~),2\17(]\?^)是0.91以下。
[0020] 在拉曼光譜法測量偏光膜的截面時(shí),比如使用將目標(biāo)偏光膜沿其厚度方向切割而 獲得的試樣,通過拉曼分光光度計(jì)進(jìn)行拉曼光譜測量即可,具體而言,使用堀場制作所制造 的顯微激光拉曼光譜測量裝置(LabRAM ARAMIS VIS)等激光拉曼光譜測量裝置,向前述試 樣的目標(biāo)測量位置照射波長532nm的激光進(jìn)行拉曼光譜測量即可。然后,從如此獲得的各目 標(biāo)測量位置各處的310CHT 1處信號(hào)強(qiáng)度(Int31())與210CHT1處信號(hào)強(qiáng)度(Int21()),計(jì)算該位置 處的比例(Int 31()/Int21())。作為求出膜各位置處的比例(Int31()/Int 21())時(shí)更為具體的各種測 量方法乃至條件,可以分別采用實(shí)施例中后述的那些。并且,就偏光膜(2)規(guī)定的從膜的各 面沿厚度方向向內(nèi)部相對(duì)于厚度進(jìn)入10%的位置而言,比如在厚度為10微米的偏光膜的情 況下,該位置相當(dāng)于從偏光膜的各面沿厚度方向向內(nèi)部進(jìn)入1微米(10微米X 1〇%=1微米)的 位置。雖然對(duì)本發(fā)明不構(gòu)成任何限定,但認(rèn)為膜各位置處的比例(Int31()/Int 21())仰賴于該位 置處15_存在量相對(duì)于13_存在量的比例。
[0021] 偏光膜(2)中,前述的2XL/(M+N)是0.91以下。通過使2XL/(M+N)是0.91以下,成 為正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光泄露少的偏光膜。從可以獲得正交尼克爾狀態(tài)下藍(lán)色光泄露更 少的偏光膜的角度出發(fā),2XL/(M+N)優(yōu)選0.88以下,更優(yōu)選0.85以下。并且,從降低正交尼 克爾狀態(tài)下紅色光泄露的角度出發(fā),2 XL/(M+N)優(yōu)選為0.01以上,更優(yōu)選0.1以上,進(jìn)一步 優(yōu)選0.5以上。
[0022]偏光膜(2)從降低藍(lán)色光泄露
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