個(gè)表面是敞開的以將自動(dòng)聚焦單元110和手抖動(dòng)校正單元160容納在其中。屏蔽罩140可由金屬制成。該金屬可有助于阻擋有害的電磁波。然而，屏蔽罩140的材料不限于金屬。例如,屏蔽罩140可以由能夠阻擋有害的電磁波的任何材料形成。此外，屏蔽罩140可以通過注塑成型來制造。在這種情況下，屏蔽罩140可由塑料形成，并且可防止自動(dòng)聚焦裝置110和手抖動(dòng)校正單元160受外部沖擊影響。同時(shí)，如圖1所示，屏蔽罩140的一個(gè)表面上可設(shè)置有孔142，有效光通過該孔142入射。
[0050]手抖動(dòng)校正單元160可校正自動(dòng)聚焦單元110的抖動(dòng)。例如，手抖動(dòng)校正單元160可以使自動(dòng)聚焦單元110沿大致上垂直于光軸C-C的方向移動(dòng)。為此，手抖動(dòng)校正單元160可包括線162、線圈164和永磁體166。然而，這種配置僅僅是一個(gè)示例。也就是說，如果需要，手抖動(dòng)校正單元160還可包括其它部件。
[0051]線162可將自動(dòng)聚焦單元110和框架120彼此連接。例如，線162可各自沿一個(gè)方向從框架120的角部延伸，并各自連接到自動(dòng)聚焦單元110的角部(角部的彈性構(gòu)件)。線162可由導(dǎo)電材料形成。在這種情況下，線162可將從框架120傳送的電信號(hào)傳送到自動(dòng)聚焦單元110。
[0052]線圈164可形成于自動(dòng)聚焦單元110和框架120中。例如，線圈164可形成在自動(dòng)聚焦單元I1和框架120可彼此面對(duì)的部分處。作為參考，盡管在本示例性實(shí)施例中已描述了線圈164形成在框架120的上表面上的情況，但是如果需要線圈164也可以形成在其他部分處。
[0053]永磁體166可形成于自動(dòng)聚焦單元110和框架120中。例如，永磁體166可形成于自動(dòng)聚焦單元I1和框架120可以彼此面對(duì)的部分處。作為參考，盡管在本示例性實(shí)施例中已描述了永磁體166形成在自動(dòng)聚焦單元110的下表面上的情況，但是如果需要永磁體166也可以形成在其他部分處。
[0054]接下來，將參照圖3至圖6對(duì)位置調(diào)節(jié)部分150進(jìn)行描述。
[0055]位置調(diào)節(jié)部分150可形成于自動(dòng)聚焦單元110中。例如，位置調(diào)節(jié)部分150可形成在自動(dòng)聚焦單元110的下表面上。位置調(diào)節(jié)部分150可以調(diào)節(jié)自動(dòng)聚焦單元110到框架120的相對(duì)位置。例如，位置調(diào)節(jié)部分150可允許自動(dòng)聚焦單元110通過框架120的開口122被容易地抓住或允許自動(dòng)聚焦單元110容易地移動(dòng)。
[0056]作為示例,在本示例性實(shí)施例中，位置調(diào)節(jié)部分150可以是形成于自動(dòng)聚焦單元110的下表面上的孔152、突起154等。作為另一示例，位置調(diào)節(jié)部分150還可以是形成于自動(dòng)聚焦單元110的下表面上的槽156。這里，可形成孔152和槽156，以允許夾具容易地夾住自動(dòng)聚焦單元110。另外，可形成孔152和槽156，以允許自動(dòng)聚焦單元110和框架120彼此容易地對(duì)齊。所述槽156可以是沿一個(gè)方向縱向地延伸的一個(gè)槽或者沿不同的方向縱向地延伸的多個(gè)槽。同時(shí)，可形成突起154,以允許自動(dòng)聚焦單元110相對(duì)于框架120保持在水平狀態(tài)下。此外，可形成突起154，以允許自動(dòng)聚焦單元110的下表面相對(duì)于框架120的上表面保持在預(yù)定的高度。為此，突起154可以從自動(dòng)聚焦單元110朝向框架120在縱向上延伸。此外，可形成突起154，以使自動(dòng)聚焦單元110的光軸Cl和框架120的光軸C2彼此對(duì)齊。為此，至少一個(gè)突起154可在縱向上延伸，以接觸框架120的開口 122的內(nèi)表面。例如，突起154可基于框架120引導(dǎo)半徑R的內(nèi)表面，以使自動(dòng)聚焦單元110的光軸Cl和框架120的光軸C2彼此對(duì)齊。
[0057]位置調(diào)節(jié)部分150可在垂直于光軸C-C的方向上與光軸C-C分開預(yù)定距離。例如，位置調(diào)節(jié)部分150 (具體地講，突起154)可以與光軸C-C分開距離R。這里，距離R可以大于透鏡的有效半徑。該限制可減小由位置調(diào)節(jié)部分150導(dǎo)致的干擾現(xiàn)象。另外，位置調(diào)節(jié)部分150可以基于自動(dòng)聚焦單元110的平分線D-D形成在偏向一側(cè)的點(diǎn)處。例如，位置調(diào)節(jié)部分150可形成在在Y軸方向上與平分線D-D分開距離S的點(diǎn)處。
[0058]在如上所述配置的相機(jī)模塊100中，由于自動(dòng)聚焦單元110的主體的一部分(具體地講，位置調(diào)節(jié)部分150)通過框架120的開口 122被暴露，所以在制造相機(jī)模塊100的過程中，自動(dòng)聚焦單元110的位置被調(diào)節(jié)，從而自動(dòng)聚焦單元110的光軸Cl和框架120的光軸C2可以容易地彼此對(duì)齊。
[0059]接下來，將參照圖7對(duì)根據(jù)本公開的另一示例性實(shí)施例的相機(jī)模塊進(jìn)行描述。作為參考，由于在根據(jù)本示例性實(shí)施例的相機(jī)模塊的描述中除了框架120和位置調(diào)節(jié)部分150 (具體地講，孔152)之外的部件與根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的相機(jī)模塊的部件基本上相同，因此將省略對(duì)其的詳細(xì)描述。
[0060]根據(jù)本示例性實(shí)施例的相機(jī)模塊100可與如上所述的根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例的相機(jī)模塊100在框架120和位置調(diào)節(jié)部分150(具體地講，孔152)方面不同。例如，框架120可以具有暴露槽124，該暴露槽124形成在框架120的邊緣，以露出自動(dòng)聚焦單元110的一部分。暴露槽124可從框架120的邊緣向光軸延伸。此外，位置調(diào)節(jié)部分150 (具體地講，孔152)可以形成在自動(dòng)聚焦單元110的邊緣處。例如，位置調(diào)節(jié)部分150(具體地講，孔152)可形成在對(duì)應(yīng)于暴露槽124的位置。此外，位置調(diào)節(jié)部分150 (具體地講，孔152)可具有槽的形狀，其中，該位置調(diào)節(jié)部分150(具體地講，孔152)從自動(dòng)聚焦單元110的邊緣朝向光軸在縱向上延伸。
[0061]在如上所述形成的相機(jī)模塊100中，所述位置調(diào)節(jié)部分150 (具體地講，孔152)不形成在開口 122 (有效光通過該開口 122入射)附近，這有利于抑制不必要的溢散光入射或反射在圖像傳感器上。
[0062]如上所述，根據(jù)本公開的示例性實(shí)施例，相機(jī)模塊的分辨率可以得到改善。
[0063]雖然上面已示出并描述了示例性實(shí)施例，但是對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員將清楚的是，在不脫離由權(quán)利要求限定的本公開的精神和范圍的情況下，可以進(jìn)行修改和改變。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種相機(jī)模塊,包括: 框架，開口形成在所述框架中； 自動(dòng)聚焦單元，安裝在所述框架上； 位置調(diào)節(jié)部分，形成于所述自動(dòng)聚焦單元中， 其中，光軸到所述位置調(diào)節(jié)部分的距離比光軸到所述開口的距離小。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分形成在所述自動(dòng)聚焦單元的下表面上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分是形成在所述自動(dòng)聚焦單元中的沿一個(gè)方向縱向地延伸的槽。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分是形成在所述自動(dòng)聚焦單元中的沿不同的方向縱向地延伸的多個(gè)槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分是形成在所述自動(dòng)聚焦單元上的突起。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，所述相機(jī)模塊還包括將所述自動(dòng)聚焦單元和所述框架彼此連接的多條線。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，所述相機(jī)模塊還包括調(diào)節(jié)所述自動(dòng)聚焦單元的位置的手抖動(dòng)校正單元。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的相機(jī)模塊，其中，所述手抖動(dòng)校正單元包括: 永磁體，形成于所述自動(dòng)聚焦裝置和所述框架中的一個(gè)上； 線圈，形成于所述框架和所述自動(dòng)聚焦裝置中的另一個(gè)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的相機(jī)模塊，所述相機(jī)模塊還包括:輔助框架，結(jié)合到所述框架并且紅外截止濾波器安裝在所述輔助框架中。
10.一種相機(jī)模塊，包括: 框架，開口形成在所述框架中； 自動(dòng)聚焦單元，安裝在所述框架上； 位置調(diào)節(jié)部分，形成于所述自動(dòng)聚焦單元中，其中，暴露槽形成在所述框架上，以在向上的方向上暴露所述位置調(diào)節(jié)部分的至少一部分。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分形成在自動(dòng)聚焦單元的下表面上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分是形成在所述自動(dòng)聚焦單元中的沿一個(gè)方向縱向地延伸的槽。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分是形成在所述自動(dòng)聚焦單元中的沿不同的方向縱向地延伸的多個(gè)槽。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分是形成在所述自動(dòng)聚焦單元上的突起。
15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，所述相機(jī)模塊還包括將所述自動(dòng)聚焦單元和所述框架相互連接的多條線。
16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，所述相機(jī)模塊還包括調(diào)節(jié)所述自動(dòng)聚焦單元位置的手抖動(dòng)校正單元。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的相機(jī)模塊，其中，所述手抖動(dòng)校正單元包括: 永磁體，形成在所述自動(dòng)聚焦單元和所述框架中的一個(gè)上； 線圈，形成在所述框架和所述自動(dòng)聚焦單元中的另一個(gè)上。
18.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，其中，所述相機(jī)模塊還包括:輔助框架，結(jié)合到所述框架并且紅外截止濾波器安裝在所述輔助框架中。
19.根據(jù)權(quán)利要求10所述的相機(jī)模塊，其中，所述暴露槽從框架的邊緣向光軸延伸。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的相機(jī)模塊，其中，所述位置調(diào)節(jié)部分包括形成在對(duì)應(yīng)于暴露槽的位置的孔，所述孔從所述自動(dòng)聚焦單元的邊緣朝向光軸在縱向上延伸。
【專利摘要】本發(fā)明提供一種相機(jī)模塊，該相機(jī)模塊可以包括：框架，開口形成在所述框架中；自動(dòng)聚焦單元，安裝在所述框架上；位置調(diào)節(jié)部分，形成于自動(dòng)聚焦單元中。光軸到所述位置調(diào)節(jié)部分的距離可以小于光軸到所述開口的距離。
【IPC分類】G03B17-12, G03B5-00
【公開號(hào)】CN104793446
【申請?zhí)枴緾N201410234533
【發(fā)明人】白機(jī)汶, 李載赫, 權(quán)五柄
【申請人】三星電機(jī)株式會(huì)社
【公開日】2015年7月22日
【申請日】2014年5月29日
【公告號(hào)】US20150201112