使用在光纖點(diǎn)衍射干涉儀波面參考源中的偏振控制方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于點(diǎn)衍射干涉儀波面參考源偏振控制領(lǐng)域，具體涉及一種使用在光纖點(diǎn) 衍射干涉儀波面參考源中的偏振控制方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 極紫外光刻（EUVL)技術(shù)被認(rèn)為是最有潛力的下一代光刻技術(shù)之一，它是使用 13. 5nm的極紫外光將掩膜上的圖形成像在涂敷有光刻膠的硅片上，為了實(shí)現(xiàn)投影光學(xué)系統(tǒng) 衍射極限的分辨率，根據(jù)Marachel判據(jù)，要求系統(tǒng)波像差小于A/14,即lnmRMS，因此投影 系統(tǒng)波像差檢測裝置要達(dá)到亞納米級的精度，傳統(tǒng)的干涉檢測方法已經(jīng)不能實(shí)現(xiàn)極紫外光 刻系統(tǒng)物鏡波像差的高精度檢測。自從1972年RaymondN.Smart和J.Strong將點(diǎn)衍射的 思想用于干涉儀中標(biāo)準(zhǔn)球面波的產(chǎn)生以來，先后有微孔點(diǎn)衍射、光纖點(diǎn)衍射和光纖錐點(diǎn)衍 射思想的提出，光纖點(diǎn)衍射有制造技術(shù)成熟、小孔對準(zhǔn)容易、光路可折疊等優(yōu)點(diǎn)，但光纖衍 射球面波的NA小于0. 2,不能實(shí)現(xiàn)對大數(shù)值孔徑極紫外投影物鏡波像差的檢測，因此常將 光纖衍射球面波準(zhǔn)直、聚焦后再經(jīng)微孔衍射產(chǎn)生大NA球面波，即構(gòu)造成波面參考源。為了 提高干涉圖樣對比度和減少衍射球面波的像散誤差，波面參考源的光束偏振態(tài)應(yīng)該為圓偏 振態(tài)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明要解決現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)問題，滿足極紫外光刻光學(xué)檢測使用的點(diǎn)衍射干 涉儀對于衍射波前圓偏振態(tài)的需求，即在不能引入額外誤差的情況下快速實(shí)現(xiàn)圓偏振態(tài)的 調(diào)控，提供一種使用在光纖點(diǎn)衍射干涉儀波面參考源中的偏振控制方法。
[0004] 為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案具體如下：
[0005] 使用在光纖點(diǎn)衍射干涉儀波面參考源中的偏振控制方法，包括以下步驟：
[0006] 將旋轉(zhuǎn)偏振片放入光路中，雙層密度盤轉(zhuǎn)到通孔；將五棱鏡放入光路中以實(shí)現(xiàn)光 束偏折；用旋轉(zhuǎn)偏振片法測初始光的偏振態(tài)后，用單軸位移臺移出旋轉(zhuǎn)偏振片；
[0007] 根據(jù)初始光偏振態(tài)計算出只調(diào)整CH1、CH2電壓時得到右旋圓偏振光的相位延遲 和電壓值；
[0008] 將CH1、CH2控制電壓調(diào)到理論計算的電壓值，并將雙層密度盤轉(zhuǎn)到右旋圓偏振光 檢測的位置，觀察功率計示數(shù)；
[0009] 微調(diào)CH3、CH4控制電壓直至完全消光，則光纖衍射光束為右旋圓偏振態(tài)，移出五 棱鏡并將雙層密度盤恢復(fù)至通孔狀態(tài)。
[0010] 上述技術(shù)方案中，所述CH1、CH2控制電壓的理論計算的電壓值是根據(jù)公式：
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 使用在光纖點(diǎn)衍射干涉儀波面參考源中的偏振控制方法，其特征在于，包括以下步 驟： 將旋轉(zhuǎn)偏振片放入光路中，雙層密度盤轉(zhuǎn)到通孔；將五棱鏡放入光路中以實(shí)現(xiàn)光束偏 折；用旋轉(zhuǎn)偏振片法測初始光的偏振態(tài)后，用單軸位移臺移出旋轉(zhuǎn)偏振片； 根據(jù)初始光偏振態(tài)計算出只調(diào)整CH1、CH2電壓時得到右旋圓偏振光的相位延遲和電 壓值； 將CH1、CH2控制電壓調(diào)到理論計算的電壓值，并將雙層密度盤轉(zhuǎn)到右旋圓偏振光檢測 的位置，觀察功率計示數(shù)； 微調(diào)CH3、CH4控制電壓直至完全消光，則光纖衍射光束為右旋圓偏振態(tài)，移出五棱鏡 并將雙層密度盤恢復(fù)至通孔狀態(tài)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振控制方法，其特征在于， 所述CHl、CH2控制電壓的理論計算的電壓值是根據(jù)公式：
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種使用在光纖點(diǎn)衍射干涉儀波面參考源中的偏振控制方法，光纖衍射球面波經(jīng)高質(zhì)量準(zhǔn)直鏡頭準(zhǔn)直后經(jīng)過放在單軸位移臺上的可旋轉(zhuǎn)偏振片、處于通孔的雙層密度盤、放在單軸位移臺上的五棱鏡以及光功率計，使用可旋轉(zhuǎn)偏振片通過理論計算可以確定初始光束的偏振態(tài)；然后用單軸位移臺將可旋轉(zhuǎn)偏振片移出光路，將雙層密度盤轉(zhuǎn)到圓偏振光檢測狀態(tài)即1/4波片+偏振片，用上一步得到的初始光束偏振態(tài)計算出偏振控制器兩個控制通道的控制電壓，再經(jīng)過微調(diào)，觀察光功率計示數(shù)到消光即可得到圓偏振態(tài)。此系統(tǒng)可以在不給波面參考源引入額外誤差的前提下，實(shí)現(xiàn)圓偏振態(tài)的快速調(diào)節(jié)，能夠有效提高干涉條紋的對比度以及檢測精度。
【IPC分類】G03F7-20, G02B27-28
【公開號】CN104536146
【申請?zhí)枴緾N201410787519
【發(fā)明人】金春水, 代曉珂
【申請人】中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2014年12月17日