本發(fā)明涉及感光性組合物。進(jìn)一步詳細(xì)而言，涉及適于形成液晶顯示裝置、有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置等圖像顯示裝置、觸摸面板、集成電路元件、固體拍攝元件等電子部件的平坦化膜、保護(hù)膜及層間絕緣膜等的感光性組合物。此外，涉及固化膜、液晶顯示裝置、有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置、及觸摸面板的制造方法。
背景技術(shù)：
：：在液晶顯示裝置、及有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置等圖像顯示裝置、及觸摸面板等輸入裝置中，多數(shù)情況下設(shè)置有形成有圖案的層間絕緣膜。在層間絕緣膜的形成中，由于用于得到所需的圖案形狀的工序數(shù)少、并且可以得到充分的平坦性，所以廣泛使用感光性組合物。對(duì)于上述裝置中的層間絕緣膜，正在嘗試使用丙烯酸系樹(shù)脂作為膜形成成分(參照專利文獻(xiàn)1)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2011-215596號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明所要解決的課題感光性組合物中為了提高涂布性，經(jīng)常使用表面活性劑。在專利文獻(xiàn)1中，也為了提高涂布性而使用氟系表面活性劑。然而，氟系表面活性劑有時(shí)在涂布后在涂膜的表面不均衡存在。當(dāng)將使用感光性組合物而制造的固化膜作為永久膜使用時(shí)，經(jīng)常在固化膜上層疊各種層。此時(shí)，若在膜表面中氟系表面活性劑不均衡存在，則有時(shí)層疊于固化膜上的上層與固化膜的密合性降低。因此，有時(shí)對(duì)固化膜的表層進(jìn)行灰化處理等，從而將氟系表面活性劑不均衡存在的膜表層除去。這樣，以往，有時(shí)對(duì)于固化膜需要灰化處理等工序，有時(shí)工序數(shù)增加。近年來(lái)，期望削減工序數(shù)，簡(jiǎn)化工序和抑制制造成本。因而，本發(fā)明的目的在于提供涂布性良好、且能夠制造與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜的感光性組合物。此外，在于提供固化膜、液晶顯示裝置、有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置、及觸摸面板的制造方法。用于解決課題的手段基于所述狀況，本發(fā)明人進(jìn)行了研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，通過(guò)使感光性組合物中含有后述的具有式S1所表示的結(jié)構(gòu)及式S2所表示的結(jié)構(gòu)的化合物S，涂布性良好，并且，能夠不經(jīng)由灰化等工序而制造與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜，從而完成本發(fā)明。即，本發(fā)明提供以下方案。<1>一種感光性組合物，其包含：聚合物成分A，其包含含有具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元a1的聚合物A1；產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑B；溶劑C；和具有式S1所表示的結(jié)構(gòu)及式S2所表示的結(jié)構(gòu)的化合物S，相對(duì)于聚合物成分A的100質(zhì)量份，含有0.001～20質(zhì)量份的化合物S，所述感光性組合物滿足下述的a～c中的至少一個(gè)必要條件；a：聚合物A1進(jìn)一步包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2；b：聚合物成分A包含含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2的聚合物；c：感光性組合物進(jìn)一步包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的分子量為1,000以下的化合物；[化學(xué)式1]式中，波浪線表示與構(gòu)成化合物S的原子團(tuán)的鍵合位置，R1表示烷基，R2表示氫原子或烷基，L1表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，在L1表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R1也可以與L1鍵合而形成環(huán)，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子、羥基或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n為0時(shí)，R100表示羥基，當(dāng)n為1時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n為2～30時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，多個(gè)L100可以相同，也可以不同。<2>根據(jù)<1>所述的感光性組合物，其中，化合物S為具有在側(cè)鏈上具有式S1所表示的結(jié)構(gòu)的構(gòu)成單元S1-1和在側(cè)鏈上具有式S2所表示的結(jié)構(gòu)的構(gòu)成單元S2-1的聚合物。<3>根據(jù)<1>或<2>所述的感光性組合物，其中，化合物S為具有式S1-2所表示的構(gòu)成單元和式S2-2所表示的構(gòu)成單元的聚合物；[化學(xué)式2]式中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，R12表示烷基，R13表示氫原子或烷基，L10表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，在L10表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R12也可以與L10鍵合而形成環(huán)，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基，L101表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n1表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n1為0或1時(shí)，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n1為2～30時(shí)，多個(gè)L101可以相同，也可以不同。<4>根據(jù)<1>～<3>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，化合物S為具有式S1-3所表示的構(gòu)成單元和式S2-3所表示的構(gòu)成單元的聚合物；[化學(xué)式3]式中，R21表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，R22表示碳原子數(shù)為1～3的烷基，R23表示氫原子，L20表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，Rf1表示碳原子數(shù)為3～6的全氟烷基，R22也可以與L20鍵合而形成環(huán)，L201表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R201表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，n2表示1～20的整數(shù)，當(dāng)n2為2～20時(shí)，多個(gè)L201可以相同，也可以不同。<5>根據(jù)<2>～<4>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，化合物S為含有化合物S的全部構(gòu)成單元的70質(zhì)量％以上的構(gòu)成單元S1-1和構(gòu)成單元S2-1的聚合物，并且，構(gòu)成單元S1-1與構(gòu)成單元S2-1的質(zhì)量比為構(gòu)成單元S1-1：構(gòu)成單元S2-1＝5：95～95：5。<6>根據(jù)<1>～<5>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，化合物S的重均分子量為100～100000。<7>根據(jù)<1>～<6>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，構(gòu)成單元a1以式A2’表示；[化學(xué)式4]式中，R1及R2分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，R1及R2中的至少一個(gè)為烷基或芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2與R3也可以連結(jié)而形成環(huán)狀醚，R4表示氫原子或甲基，X表示單鍵或亞芳基。<8>根據(jù)<1>～<7>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物，其中，交聯(lián)性基團(tuán)為選自環(huán)氧基及氧雜環(huán)丁烷基中的至少1種。<9>一種固化膜的制造方法，其包括以下工序：將<1>～<8>中任一項(xiàng)所述的感光性組合物涂布到基板上的工序；從所涂布的感光性組合物中除去溶劑的工序；將除去了溶劑的感光性組合物利用活性光線進(jìn)行曝光的工序；將曝光后的感光性組合物利用顯影液進(jìn)行顯影的工序；以及將顯影后的感光性組合物進(jìn)行熱固化的工序。<10>一種液晶顯示裝置的制造方法，其包含<9>所述的固化膜的制造方法。<11>一種有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置的制造方法，其包含<9>所述的固化膜的制造方法。<12>一種觸摸面板的制造方法，其包含<9>所述的固化膜的制造方法。發(fā)明效果能夠提供涂布性良好、并且能夠不經(jīng)由灰化等工序而制造與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜的感光性組合物。此外，能夠提供固化膜的制造方法、固化膜及裝置。附圖說(shuō)明圖1表示液晶顯示裝置的一個(gè)例子的構(gòu)成概念圖。圖2是液晶顯示裝置的其他例子的構(gòu)成概念圖。圖3表示有機(jī)EL顯示裝置的一個(gè)例子的構(gòu)成概念圖。圖4是表示靜電容量方式的觸摸面板的構(gòu)成例的剖面圖。圖5是表示正面板的一個(gè)例子的說(shuō)明圖。圖6是表示第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一個(gè)例子的說(shuō)明圖。圖7是表示具有觸摸面板的功能的液晶顯示裝置的一個(gè)例子的概略圖。圖8是表示具有觸摸面板的功能的液晶顯示裝置的一個(gè)例子的概略圖。具體實(shí)施方式以下，對(duì)本發(fā)明的內(nèi)容進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。以下記載的構(gòu)成要件的說(shuō)明有時(shí)基于本發(fā)明的代表性實(shí)施方式而進(jìn)行，但是本發(fā)明并不限定于這樣的實(shí)施方式。另外，本說(shuō)明書中“～”以將其前后記載的數(shù)值作為下限值及上限值包含的意思使用。在本說(shuō)明書中的基團(tuán)(原子團(tuán))的表述中，未記載取代及未取代的表述包含不具有取代基的基團(tuán)(原子團(tuán))，同時(shí)也包含具有取代基的基團(tuán)(原子團(tuán))。例如所謂“烷基”，不僅包含不具有取代基的烷基(未取代烷基)，而且也包含具有取代基的烷基(取代烷基)。另外，本說(shuō)明書中，“(甲基)丙烯酸酯”表示“丙烯酸酯”及“甲基丙烯酸酯”，“(甲基)丙烯酸基”表示“丙烯酸基”及“甲基丙烯酸基”，“(甲基)丙烯酰基”表示“丙烯?；奔啊凹谆；?。本說(shuō)明書中，重均分子量(Mw)及數(shù)均分子量(Mn)作為利用凝膠滲透色譜法(GPC)測(cè)定的聚苯乙烯換算值來(lái)定義。本發(fā)明的感光性組合物為一種感光性組合物，其包含后述的聚合物成分A、產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑B、溶劑C和后述的具有式S1所表示的結(jié)構(gòu)及式S2所表示的結(jié)構(gòu)的化合物S，相對(duì)于聚合物成分A100質(zhì)量份，含有0.001～20質(zhì)量份的化合物S，滿足下述的a～c中的至少一個(gè)必要條件。a：聚合物A1進(jìn)一步包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2；b：聚合物成分A包含含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2的聚合物；c：感光性組合物進(jìn)一步包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的分子量為1,000以下的化合物。根據(jù)本發(fā)明，通過(guò)使用上述構(gòu)成的感光性組合物，涂布性良好，并且，能夠不經(jīng)由灰化等工序而制造與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜。本發(fā)明的效果體現(xiàn)的機(jī)制如下述那樣推定。即，后述的式S1所表示的結(jié)構(gòu)由于具有氟烷基，所以疏水性優(yōu)異，式S2所表示的結(jié)構(gòu)由于具有親水性基，所以親水性優(yōu)異。推定兼具兩者的結(jié)構(gòu)的化合物S作為表面活性劑發(fā)揮功能，能夠得到優(yōu)異的涂布性。此外，認(rèn)為化合物S所具有的式S1所表示的結(jié)構(gòu)由于氟烷基介由縮醛鍵而鍵合，所以在加熱時(shí)等情況下縮醛鍵被切斷，氟烷基部分容易脫離而揮發(fā)，氟難以不均衡地存在于固化膜的表層。因此，推定能夠不經(jīng)由灰化等工序而制造與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜。進(jìn)而，化合物S所具有的式S1所表示的結(jié)構(gòu)由于氟烷基介由縮醛鍵而鍵合，所以通過(guò)磺酸等酸的作用而縮醛鍵被切斷，氟烷基部分脫離。因此在暴露于酸中的部分中疏液性降低。因此，本發(fā)明的感光性組合物具有以下優(yōu)異的特性：除了涂布性和上層密合優(yōu)異以外，而且沒(méi)有因堿顯影而產(chǎn)生的顯影殘?jiān)?，顯影圖案的邊緣的粗糙度小。本發(fā)明的感光性組合物可以作為化學(xué)放大型正型感光性組合物優(yōu)選使用。以下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。<聚合物成分A>本發(fā)明的感光性組合物包含含有具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元a1的聚合物A1。其中，本發(fā)明的感光性組合物滿足下述的a～c中的至少一個(gè)必要條件。a：聚合物A1進(jìn)一步包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2。b：聚合物成分A包含含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2的聚合物。c：感光性組合物進(jìn)一步包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的分子量為1,000以下的化合物(交聯(lián)劑)。因此，在感光性組合物不含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的分子量為1,000以下的化合物的情況下，聚合物成分A優(yōu)選滿足下述(1)及(2)中的至少一個(gè)。(1)：包含含有具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元a1和具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2的聚合物Ax1的聚合物成分。(2)：包含含有具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元a1的聚合物Ax2和含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2的聚合物Ax3的聚合物成分。以下，將具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元a1也稱為構(gòu)成單元(a1)。此外，將具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元a2也稱為構(gòu)成單元(a2)。本發(fā)明中，聚合物成分意味著除了包含上述聚合物以外，還包含根據(jù)需要添加的其他的聚合物的聚合物成分。在上述(1)的方式中，是包含至少1種聚合物Ax1，且聚合物Ax1具有構(gòu)成單元(a1)、及構(gòu)成單元(a2)的方式。構(gòu)成單元(a1)、構(gòu)成單元(a2)也可以分別包含2種以上。此外，也可以包含后述的構(gòu)成單元(a3)、構(gòu)成單元(a4)等。在上述(2)的方式中，是包含具有構(gòu)成單元(a1)的聚合物Ax2和具有構(gòu)成單元(a2)的聚合物Ax3的方式。包含構(gòu)成單元(a1)的聚合物Ax2也可以進(jìn)一步包含構(gòu)成單元(a2)。同樣地，包含構(gòu)成單元(a2)的聚合物Ax3也可以包含構(gòu)成單元(a1)。這樣的情況下，成為滿足1和2這兩者的方式。此外，聚合物Ax2及聚合物Ax3也可以包含后述的構(gòu)成單元(a3)、構(gòu)成單元(a4)等。在上述(2)的方式中，聚合物Ax2與聚合物Ax3的質(zhì)量比例優(yōu)選為95：5～5：95，更優(yōu)選為80：20～20：80，進(jìn)一步優(yōu)選為70：30～30：70。本發(fā)明中，聚合物成分A優(yōu)選為加成聚合型的聚合物，更優(yōu)選為包含來(lái)自(甲基)丙烯酸和/或其酯的構(gòu)成單元的聚合物。另外，也可以具有除來(lái)自(甲基)丙烯酸和/或其酯的構(gòu)成單元以外的構(gòu)成單元、例如來(lái)自苯乙烯的構(gòu)成單元、或來(lái)自乙烯基化合物的構(gòu)成單元等。將“來(lái)自(甲基)丙烯酸和/或其酯的構(gòu)成單元”也稱為“丙烯酸系構(gòu)成單元”。<<構(gòu)成單元(a1)>>聚合物成分A至少含有具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元a1(構(gòu)成單元(a1))。聚合物成分A通過(guò)含有構(gòu)成單元(a1)，能夠制成高感度的感光性組合物。本發(fā)明中的“酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)”意味著以酸作為催化劑(或引發(fā)劑)引起脫保護(hù)反應(yīng)、從而產(chǎn)生酸基和被再生的酸分解而成的結(jié)構(gòu)的基團(tuán)。關(guān)于本發(fā)明中的“酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)”，作為酸基及酸分解性基團(tuán)可以使用公知的基團(tuán)，沒(méi)有特別限定。作為酸基，優(yōu)選羧基、及酚性羥基。作為酸分解性基團(tuán)，可列舉出通過(guò)酸比較容易分解的基團(tuán)(例如后述的酯結(jié)構(gòu)、四氫吡喃酯基、或四氫呋喃酯基等縮醛系官能團(tuán))、或通過(guò)酸比較難分解的基團(tuán)(例如叔丁酯基等叔烷基酯基、碳酸叔丁酯基等碳酸叔烷基酯基)等。構(gòu)成單元(a1)優(yōu)選為具有羧基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元(以下，也稱為“具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元”)、或具有酚性羥基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元(以下，也稱為“具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元”)。以下，依次對(duì)具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元(a1-1)、和具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元(a1-2)，分別進(jìn)行說(shuō)明。<<<具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元(a1-1)>>>構(gòu)成單元(a1-1)為含有具有羧基的構(gòu)成單元的羧基被以下說(shuō)明的酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元。作為具有羧基的構(gòu)成單元，可以沒(méi)有特別限制地使用公知的構(gòu)成單元?？闪信e出例如來(lái)自在分子中具有至少一個(gè)羧基的不飽和羧酸等的構(gòu)成單元(a1-1-1)。作為上述不飽和羧酸，也可以是不飽和單羧酸、不飽和多元羧酸、或其酸酐。例如可列舉出日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)的段落0043中記載的化合物。其中，從顯影性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸、或不飽和多元羧酸的酐等，更優(yōu)選丙烯酸、甲基丙烯酸、2-(甲基)丙烯酰氧基乙基六氫鄰苯二甲酸。構(gòu)成單元(a1-1-1)可以由1種單獨(dú)構(gòu)成，也可以由2種以上構(gòu)成。作為可以用于構(gòu)成單元(a1-1)的酸分解性基團(tuán)，可列舉出上述的酸分解性基團(tuán)。這些酸分解性基團(tuán)中，優(yōu)選具有酸基以縮醛的形式被保護(hù)的結(jié)構(gòu)的基團(tuán)。例如，羧基為以縮醛的形式被保護(hù)的保護(hù)羧基，這從感光性組合物的基本物性、特別是感度或圖案形狀、接觸孔的形成性、感光性組合物的保存穩(wěn)定性的觀點(diǎn)出發(fā)是優(yōu)選的。進(jìn)而，羧基為下述式(a1-10)所表示的以縮醛的形式被保護(hù)的保護(hù)羧基，這從感度的觀點(diǎn)出發(fā)更優(yōu)選。另外，當(dāng)羧基為下述式(a1-10)所表示的以縮醛的形式被保護(hù)的保護(hù)羧基時(shí)，作為保護(hù)羧基的整體，成為-(C＝O)-O-CR101R102(OR103)的結(jié)構(gòu)。式(a1-10)[化學(xué)式5]式(a1-10)中，R101及R102分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基。其中，將R101與R102均為氫原子的情況除外。R103表示烷基或芳基。R101或R102與R103也可以連結(jié)而形成環(huán)狀醚。R101～R103所表示的烷基可以為直鏈、支鏈、環(huán)狀中的任一種。作為直鏈或支鏈的烷基，優(yōu)選碳原子數(shù)為1～12，更優(yōu)選碳原子數(shù)為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選碳原子數(shù)為1～4。具體而言，可列舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、新戊基、正己基、叔己基(2,3-二甲基丁烷-2-基)、正庚基、正辛基、2-乙基己基、正壬基、正癸基等。作為環(huán)狀的烷基，優(yōu)選碳原子數(shù)為3～12，更優(yōu)選碳原子數(shù)為4～8，進(jìn)一步優(yōu)選碳原子數(shù)為4～6。作為上述環(huán)狀烷基，可列舉出例如環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、環(huán)辛基、降冰片基、異冰片基等。烷基也可以具有取代基，作為取代基，可例示出鹵素原子、芳基、烷氧基。在具有鹵素原子作為取代基時(shí)，R101、R102、R103成為鹵代烷基，在具有芳基作為取代基時(shí)，R101、R102、R103成為芳烷基。作為上述鹵素原子，可例示出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，它們中，優(yōu)選氟原子或氯原子。此外，作為上述芳基，優(yōu)選碳原子數(shù)為6～20的芳基，更優(yōu)選碳原子數(shù)為6～12，具體而言，可例示出苯基、α-甲基苯基、萘基等，作為被芳基取代的烷基整體、即芳烷基，可例示出芐基、α-甲基芐基、苯乙基、萘基甲基等。作為上述烷氧基，優(yōu)選碳原子數(shù)為1～6的烷氧基，更優(yōu)選碳原子數(shù)為1～4的烷氧基，進(jìn)一步優(yōu)選甲氧基或乙氧基。此外，在上述烷基為環(huán)狀的烷基時(shí)，也可以具有碳原子數(shù)為1～10的直鏈或支鏈的烷基作為取代基。此外，在烷基為直鏈或支鏈的烷基的情況下，也可以具有碳原子數(shù)為3～12的環(huán)狀的烷基作為取代基。這些取代基也可以被上述取代基進(jìn)一步取代。R101～R103所表示的芳基優(yōu)選為碳原子數(shù)為6～12的芳基，更優(yōu)選為碳原子數(shù)為6～10的芳基。上述芳基也可以具有取代基，作為上述取代基，可優(yōu)選例示出碳原子數(shù)為1～6的烷基。作為芳基的具體例子，例如可例示出苯基、甲苯基、二甲苯基、枯烯基、1-萘基等。R101、R102及R103可以彼此鍵合并與它們所鍵合的碳原子一起形成環(huán)。作為R101與R102、R101與R103或R102與R103鍵合時(shí)的環(huán)結(jié)構(gòu)，可列舉出例如環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、四氫呋喃基、金剛烷基及四氫吡喃基等。另外，在上述式(a1-10)中，R101及R102中的任一者優(yōu)選為氫原子或甲基。為了形成具有上述式(a1-10)所表示的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元而使用的自由基聚合性單體可以使用市售的自由基聚合性單體，也可以使用通過(guò)公知的方法合成的自由基聚合性單體。上述的自由基聚合性單體例如可以利用日本特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0037～0040中記載的合成方法等來(lái)合成，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。上述構(gòu)成單元(a1-1)的第一優(yōu)選的方式為下述式A2’所表示的構(gòu)成單元。[化學(xué)式6]式中，R1及R2分別獨(dú)立地表示氫原子、烷基或芳基，R1及R2中的至少一個(gè)為烷基或芳基，R3表示烷基或芳基，R1或R2與R3也可以連結(jié)而形成環(huán)狀醚，R4表示氫原子或甲基，X表示單鍵或亞芳基。當(dāng)R1及R2為烷基時(shí)，優(yōu)選為碳原子數(shù)為1～10的烷基。當(dāng)R1及R2為芳基時(shí)，優(yōu)選為苯基。R1及R2分別獨(dú)立地優(yōu)選為氫原子或碳原子數(shù)為1～4的烷基。R3表示烷基或芳基，優(yōu)選碳原子數(shù)為1～10的烷基，更優(yōu)選1～6的烷基。X表示單鍵或亞芳基，優(yōu)選為單鍵。上述構(gòu)成單元(a1-1)的第二優(yōu)選的方式為下述式(1-12)所表示的構(gòu)成單元。式(1-12)[化學(xué)式7](式(1-12)中，R121表示氫原子或碳原子數(shù)為1～4的烷基，L1表示羰基或亞苯基，R122～R128分別獨(dú)立地表示氫原子或碳原子數(shù)為1～4的烷基。)R121優(yōu)選為氫原子或甲基。L1優(yōu)選為羰基。R122～R128優(yōu)選為氫原子。作為上述構(gòu)成單元(a1-1)的優(yōu)選的具體例子，可例示出下述的構(gòu)成單元。另外，R表示氫原子或甲基。[化學(xué)式8]<<<具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元(a1-2)>>>作為具有被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的保護(hù)酚性羥基的構(gòu)成單元(a1-2)，可列舉出羥基苯乙烯系構(gòu)成單元或酚醛清漆系的樹(shù)脂中的構(gòu)成單元。它們中，來(lái)自羥基苯乙烯、或α-甲基羥基苯乙烯的構(gòu)成單元從感度的觀點(diǎn)出發(fā)是優(yōu)選的。此外，作為具有酚性羥基的構(gòu)成單元，日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)的段落0065～0073中記載的構(gòu)成單元從感度的觀點(diǎn)出發(fā)也是優(yōu)選的。(構(gòu)成單元(a1)的優(yōu)選的方式)當(dāng)含有上述構(gòu)成單元(a1)的聚合物實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a2)時(shí)，構(gòu)成單元(a1)的含量?jī)?yōu)選為聚合物的構(gòu)成單元的20～100摩爾％，更優(yōu)選為30～90摩爾％。另外，所謂實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a2)是在聚合物的全部構(gòu)成單元中，構(gòu)成單元(a2)的含量?jī)?yōu)選為0.5摩爾％以下，更優(yōu)選為0.1摩爾％以下，進(jìn)一步優(yōu)選不含有構(gòu)成單元(a2)。當(dāng)含有上述構(gòu)成單元(a1)的聚合物含有構(gòu)成單元(a2)時(shí)，構(gòu)成單元(a1)的含量?jī)?yōu)選為聚合物的構(gòu)成單元的3～70摩爾％，更優(yōu)選為10～60摩爾％。此外，特別是當(dāng)能用于上述構(gòu)成單元(a1)的上述酸分解性基團(tuán)為具有羧基以縮醛的形式被保護(hù)的保護(hù)羧基的構(gòu)成單元時(shí)，優(yōu)選為20～50摩爾％。此外，構(gòu)成單元(a1)的含量?jī)?yōu)選為聚合物成分的構(gòu)成單元的3～70摩爾％，更優(yōu)選為10～60摩爾％，進(jìn)一步優(yōu)選為20～50摩爾％。另外，本發(fā)明中，當(dāng)將“構(gòu)成單元”的含量以摩爾比來(lái)規(guī)定時(shí)，“構(gòu)成單元”與“單體單元”含義相同。此外，本發(fā)明中，“單體單元”也可以通過(guò)高分子反應(yīng)等在聚合后被修飾。以下也同樣。若上述構(gòu)成單元(a1-1)與上述構(gòu)成單元(a1-2)相比，則有顯影較快的特征。因而，在欲快速顯影的情況下，優(yōu)選為構(gòu)成單元(a1-1)。相反地在欲減慢顯影的情況下，優(yōu)選使用構(gòu)成單元(a1-2)。<<具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2)>>聚合物成分A優(yōu)選含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2)。根據(jù)該方式，可以得到耐熱性優(yōu)異的固化膜。交聯(lián)性基團(tuán)只要是一個(gè)大氣壓下的加熱處理時(shí)的交聯(lián)反應(yīng)的引發(fā)溫度為100℃以上的基團(tuán)則沒(méi)有特別限定。交聯(lián)反應(yīng)的引發(fā)溫度可以使用公知的方法進(jìn)行分析，例如可以通過(guò)使用了DSC測(cè)定(Differentialscanningcalorimetry)的方法進(jìn)行分析。作為具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元的方式，可列舉出包含選自由環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、-NH-CH2-O-R(R為氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基)所表示的基團(tuán)及烯屬不飽和基團(tuán)組成的組中的至少一個(gè)的構(gòu)成單元。交聯(lián)性基團(tuán)優(yōu)選為選自由環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、及-NH-CH2-O-R(R為氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基)所表示的基團(tuán)中的至少1種，更優(yōu)選為環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基。<<<具有環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基的構(gòu)成單元(a2-1)>>>聚合物成分A優(yōu)選含有包含具有環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基的構(gòu)成單元(a2-1)的聚合物。另外，3元環(huán)的環(huán)狀醚基也稱為環(huán)氧基，4元環(huán)的環(huán)狀醚基也稱為氧雜環(huán)丁烷基。上述構(gòu)成單元(a2-1)只要在一個(gè)構(gòu)成單元中具有至少一個(gè)環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基即可。雖然沒(méi)有特別限定，但優(yōu)選具有合計(jì)1個(gè)～3個(gè)環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基，更優(yōu)選具有1個(gè)或2個(gè)，進(jìn)一步優(yōu)選具有一個(gè)環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基。作為為了形成具有環(huán)氧基的構(gòu)成單元而使用的自由基聚合性單體的具體例子，可列舉出例如丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、α-乙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丙基丙烯酸縮水甘油酯、α-正丁基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸3,4-環(huán)氧丁酯、甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧丁酯、丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯、甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯、α-乙基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯、鄰乙烯基芐基縮水甘油醚、間乙烯基芐基縮水甘油醚、對(duì)乙烯基芐基縮水甘油醚、日本專利第4168443號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0031～0035中記載的含有脂環(huán)式環(huán)氧骨架的化合物等，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。作為為了形成具有氧雜環(huán)丁烷基的構(gòu)成單元而使用的自由基聚合性單體的具體例子，可列舉出例如日本特開(kāi)2001-330953號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0011～0016中記載的具有氧雜環(huán)丁烷基的(甲基)丙烯酸酯、日本特開(kāi)2012-088459公報(bào)的段落號(hào)0027中記載的化合物等，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。它們中優(yōu)選的單體是甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯、甲基丙烯酸3,4-環(huán)氧環(huán)己基甲酯、鄰乙烯基芐基縮水甘油醚、間乙烯基芐基縮水甘油醚、對(duì)乙烯基芐基縮水甘油醚、丙烯酸(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲酯、及甲基丙烯酸(3-乙基氧雜環(huán)丁烷-3-基)甲酯。這些單體可以單獨(dú)使用一種或?qū)煞N以上組合使用。作為上述構(gòu)成單元(a2-1)的優(yōu)選的具體例子，可例示出下述的構(gòu)成單元。另外，下述的構(gòu)成單元中，R表示氫原子或甲基。[化學(xué)式9]<<<具有烯屬不飽和基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2-2)>>>作為上述具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2)的一種，可列舉出具有烯屬不飽和基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2-2)。構(gòu)成單元(a2-2)優(yōu)選為在側(cè)鏈上具有烯屬不飽和基團(tuán)的構(gòu)成單元，更優(yōu)選為具有碳原子數(shù)為3～16的側(cè)鏈、且在側(cè)鏈末端具有烯屬不飽和基團(tuán)的構(gòu)成單元。此外，關(guān)于構(gòu)成單元(a2-2)，可列舉出日本特開(kāi)2011-215580號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0072～0090的記載及日本特開(kāi)2008-256974的段落號(hào)0013～0031中記載的化合物等作為優(yōu)選的例子，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。<<<具有-NH-CH2-O-R(R為氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基)所表示的基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2-3)>>>構(gòu)成單元(a2)也優(yōu)選為具有-NH-CH2-O-R(R為氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基)所表示的基團(tuán)的構(gòu)成單元(a2-3)。通過(guò)含有構(gòu)成單元(a2-3)，可以通過(guò)緩慢的加熱處理來(lái)引起固化反應(yīng)，可以獲得各種特性優(yōu)異的固化膜。R優(yōu)選為碳原子數(shù)為1～9的烷基，更優(yōu)選為碳原子數(shù)為1～4的烷基。此外，烷基可以為直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基中的任一種，但優(yōu)選為直鏈或支鏈的烷基。構(gòu)成單元(a2-3)更優(yōu)選為下述式(a2-30)所表示的構(gòu)成單元。式(a2-30)[化學(xué)式10]式(a2-30)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基。R2優(yōu)選為碳原子數(shù)為1～9的烷基，進(jìn)一步優(yōu)選為碳原子數(shù)為1～4的烷基。此外，烷基可以為直鏈、支鏈或環(huán)狀的烷基中的任一種，但優(yōu)選為直鏈或支鏈的烷基。作為R2的具體例子，可列舉出甲基、乙基、正丁基、異丁基、環(huán)己基、及正己基。其中，優(yōu)選為異丁基、正丁基、甲基。(構(gòu)成單元(a2)的優(yōu)選的方式)在含有上述構(gòu)成單元(a2)的聚合物實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a1)的情況下，構(gòu)成單元(a2)的含量?jī)?yōu)選為聚合物的全部構(gòu)成單元的5～90摩爾％，更優(yōu)選為20～80摩爾％。另外，所謂實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a1)的聚合物是在聚合物的全部構(gòu)成單元中，構(gòu)成單元(a1)的含量?jī)?yōu)選為0.5摩爾％以下，更優(yōu)選為0.1摩爾％以下，進(jìn)一步優(yōu)選不含有構(gòu)成單元(a1)。在含有上述構(gòu)成單元(a2)的聚合物含有上述構(gòu)成單元(a1)的情況下，構(gòu)成單元(a2)的含量?jī)?yōu)選為聚合物的全部構(gòu)成單元的3～70摩爾％，更優(yōu)選為10～60摩爾％。本發(fā)明中，進(jìn)而，無(wú)論為哪一方式，在聚合物成分A的全部構(gòu)成單元中，構(gòu)成單元(a2)的含量?jī)?yōu)選為3～70摩爾％，更優(yōu)選為10～60摩爾％。通過(guò)設(shè)定為上述的數(shù)值的范圍內(nèi)，可以形成各種特性優(yōu)異的固化膜。此外，本發(fā)明的聚合物成分也可以為實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a2)的方式。所謂實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a2)是例如在聚合物成分A的全部構(gòu)成單元中，構(gòu)成單元(a2)的含量?jī)?yōu)選為1摩爾％以下，更優(yōu)選為0.5摩爾％以下，進(jìn)一步優(yōu)選不含有。<<具有酸基的構(gòu)成單元(a3)>>本發(fā)明中，聚合物成分A也可以含有具有酸基的構(gòu)成單元(a3)。構(gòu)成單元(a3)可以是具有上述構(gòu)成單元(a1)的聚合物所具有，也可以是實(shí)質(zhì)上不含有上述構(gòu)成單元(a1)的聚合物所包含。通過(guò)聚合物成分具有構(gòu)成單元(a3)，變得容易溶解于堿性的顯影液中，顯影性提高。進(jìn)而，感度優(yōu)異。作為酸基，可例示出羧基、磺酰胺基、膦酸基、磺酸基、酚性羥基、磺酰胺基、磺?；鶃啺坊?、以及這些酸基的酸酐基，優(yōu)選為羧基和/或酚性羥基。即，構(gòu)成單元(a3)優(yōu)選為具有羧基的構(gòu)成單元、及具有酚性羥基的構(gòu)成單元。構(gòu)成單元(a3)更優(yōu)選為來(lái)自苯乙烯的構(gòu)成單元、來(lái)自乙烯基化合物的構(gòu)成單元、來(lái)自(甲基)丙烯酸和/或其酯的構(gòu)成單元。例如可以使用日本特開(kāi)2012-88459號(hào)公報(bào)的段落0021～0023及段落0029～0044記載的化合物，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。其中，優(yōu)選為來(lái)自對(duì)羥基苯乙烯、(甲基)丙烯酸、馬來(lái)酸、馬來(lái)酸酐的構(gòu)成單元。作為具有構(gòu)成單元(a3)的聚合物，優(yōu)選為在側(cè)鏈上具有羧基的聚合物?？闪信e出例如在日本特開(kāi)昭59-44615號(hào)、日本特公昭54-34327號(hào)、日本特公昭58-12577號(hào)、日本特公昭54-25957號(hào)、日本特開(kāi)昭59-53836號(hào)、日本特開(kāi)昭59-71048號(hào)的各公報(bào)中記載的那樣的甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來(lái)酸共聚物、部分酯化馬來(lái)酸共聚物等、以及在側(cè)鏈上具有羧基的酸性纖維素衍生物、在具有羥基的聚合物上加成酸酐而成的物質(zhì)等，進(jìn)而還可列舉出在側(cè)鏈上具有(甲基)丙烯?；木酆衔镒鳛閮?yōu)選的例子?？闪信e出例如(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯/(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸共聚物、日本特開(kāi)平7-140654號(hào)公報(bào)中記載的(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物等。除此以外，還可以使用日本特開(kāi)平7-207211號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)平8-259876號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)平10-300922號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)平11-140144號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)平11-174224號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2000-56118號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2003-233179號(hào)公報(bào)、日本特開(kāi)2009-52020號(hào)公報(bào)等中記載的公知的高分子化合物，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。這些聚合物也可以使用市售的SMA1000P、SMA2000P、SMA3000P、SMA1440F、SMA17352P、SMA2625P、SMA3840F(以上為Sartomer公司制)、ARUFONUC-3000、ARUFONUC-3510、ARUFONUC-3900、ARUFONUC-3910、ARUFONUC-3920、ARUFONUC-3080(以上為東亞合成株式會(huì)社制)、Joncryl690、Joncryl678、Joncryl67、Joncryl586(以上為BASF制)等。(構(gòu)成單元(a3)的優(yōu)選的方式)當(dāng)具有上述構(gòu)成單元(a3)的聚合物含有構(gòu)成單元(a1)及構(gòu)成單元(a2)時(shí)，構(gòu)成單元(a3)的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為1～30摩爾％，更優(yōu)選為3～20摩爾％，進(jìn)一步優(yōu)選為5～15摩爾％。當(dāng)具有上述構(gòu)成單元(a3)的聚合物僅含有構(gòu)成單元(a1)及構(gòu)成單元(a2)中的任一者時(shí)，構(gòu)成單元(a3)的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為1～50摩爾％，更優(yōu)選為5～45摩爾％，進(jìn)一步優(yōu)選為10～40摩爾％。當(dāng)含有上述構(gòu)成單元(a3)的聚合物實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a1)及構(gòu)成單元(a2)時(shí)，構(gòu)成單元(a3)的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為1～50摩爾％，更優(yōu)選為2～40摩爾％，進(jìn)一步優(yōu)選為3～30摩爾％。本發(fā)明中，進(jìn)而，無(wú)論為哪一方式，在聚合物成分A的全部構(gòu)成單元中，構(gòu)成單元(a3)的含量?jī)?yōu)選為1～80摩爾％，更優(yōu)選為1～50摩爾％，進(jìn)一步優(yōu)選為5～40摩爾％，特別優(yōu)選為5～30摩爾％，最優(yōu)選為5～25摩爾％。<<(a4)其它構(gòu)成單元>>聚合物成分A除了含有構(gòu)成單元(a1)以外，還可以含有除上述的構(gòu)成單元(a1)～(a3)以外的其它構(gòu)成單元(a4)。構(gòu)成單元(a4)也可以是具有構(gòu)成單元(a1)的聚合物所包含。此外，也可以是實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元(a1)的聚合物所包含。作為成為構(gòu)成單元(a4)的單體，沒(méi)有特別限制，可列舉出例如苯乙烯類、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸環(huán)狀烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不飽和二羧酸二酯、二環(huán)不飽和化合物類、馬來(lái)酰亞胺化合物類、不飽和芳香族化合物、共軛二烯系化合物、不飽和單羧酸、不飽和二羧酸、不飽和二羧酸酐、其它不飽和化合物。具體而言，可列舉出苯乙烯、甲基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙酰氧基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、乙氧基苯乙烯、氯苯乙烯、乙烯基苯甲酸甲酯、乙烯基苯甲酸乙酯、4-羥基苯甲酸(3-甲基丙烯酰氧基丙基)酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酰基嗎啉、N-環(huán)己基馬來(lái)酰亞胺、丙烯腈、乙二醇單乙酰乙酸酯單(甲基)丙烯酸酯等。此外，可列舉出日本特開(kāi)2004-264623號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0021～0024中記載的化合物。構(gòu)成單元(a4)為苯乙烯類或具有脂肪族環(huán)式骨架的構(gòu)成單元從電特性的觀點(diǎn)出發(fā)是優(yōu)選的。具體而言，可列舉出苯乙烯、甲基苯乙烯、羥基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(甲基)丙烯酸二環(huán)戊酯、(甲基)丙烯酸環(huán)己酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸芐酯等。構(gòu)成單元(a4)為(甲基)丙烯酸烷基酯從密合性的觀點(diǎn)出發(fā)是優(yōu)選的。具體而言，可列舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯等，更優(yōu)選為(甲基)丙烯酸甲酯。在構(gòu)成聚合物的全部構(gòu)成單元中，上述的構(gòu)成單元(a4)的含量?jī)?yōu)選為60摩爾％以下，更優(yōu)選為50摩爾％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為40摩爾％以下。作為下限值，也可以為0摩爾％，但例如優(yōu)選設(shè)定為1摩爾％以上，更優(yōu)選設(shè)定為5摩爾％以上。若為上述的數(shù)值的范圍內(nèi)，則固化膜的各種特性變得良好。(聚合物成分A的優(yōu)選的實(shí)施方式)以下，列舉出聚合物成分A的優(yōu)選的實(shí)施方式，但本發(fā)明并不限定于這些。(第1實(shí)施方式)在上述的(1)的方式中，具有構(gòu)成單元(a1)及構(gòu)成單元(a2)的聚合物Ax1進(jìn)一步具有1種或2種以上的構(gòu)成單元(a3)和/或構(gòu)成單元(a4)的方式。(第2實(shí)施方式)在上述的(2)的方式中，具有構(gòu)成單元(a1)的聚合物Ax2進(jìn)一步具有1種或2種以上的構(gòu)成單元(a3)和/或構(gòu)成單元(a4)的方式。(第3實(shí)施方式)在上述的(2)的方式中，具有構(gòu)成單元(a2)的聚合物Ax3進(jìn)一步具有1種或2種以上的構(gòu)成單元(a3)和/或構(gòu)成單元(a4)的方式。(第4實(shí)施方式)在上述第1～第3實(shí)施方式中的任一者中，聚合物包含構(gòu)成單元(a3)的方式。(第5實(shí)施方式)在上述的(1)和/或(2)的方式中，進(jìn)一步包含實(shí)質(zhì)上不包含構(gòu)成單元(a1)及構(gòu)成單元(a2)且具有構(gòu)成單元(a3)和/或構(gòu)成單元(a4)的聚合物Ax4的方式。(第6實(shí)施方式)由上述第1～第5實(shí)施方式中的2個(gè)以上的組合構(gòu)成的方式。在上述第5實(shí)施方式中，具有構(gòu)成單元(a1)和/或構(gòu)成單元(a2)的聚合物的合計(jì)量與上述的聚合物Ax4的質(zhì)量比例優(yōu)選為99：1～5：95，更優(yōu)選為97：3～30：70，進(jìn)一步優(yōu)選為95：5～50：50。本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選以感光性組合物的固體成分的70質(zhì)量％以上的比例包含聚合物成分A，更優(yōu)選為70～99質(zhì)量％。<<聚合物成分A的分子量>>聚合物成分A中包含的聚合物的重均分子量?jī)?yōu)選為1,000～200,000，更優(yōu)選為2,000～50,000。若為上述范圍內(nèi)，則各種特性良好。重均分子量(Mw)與數(shù)均分子量(Mn)的比即分散度(Mw/Mn)優(yōu)選為1.0～5.0，更優(yōu)選為1.5～3.5。<<聚合物成分A的制造方法>>聚合物成分A的制造方法已知有各種方法，但若列舉出一個(gè)例子，則可以通過(guò)將包含為了形成上述的各構(gòu)成單元而使用的自由基聚合性單體的混合物在有機(jī)溶劑中使用自由基聚合引發(fā)劑進(jìn)行聚合來(lái)合成。此外，也可以通過(guò)所謂的高分子反應(yīng)來(lái)進(jìn)行合成。聚合物成分A優(yōu)選相對(duì)于全部構(gòu)成單元含有50摩爾％以上的來(lái)自(甲基)丙烯酸和/或其酯的構(gòu)成單元，更優(yōu)選含有80摩爾％以上。<光酸產(chǎn)生劑B>本發(fā)明的感光性組合物含有產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑B。作為光酸產(chǎn)生劑，優(yōu)選為對(duì)波長(zhǎng)為300nm以上、優(yōu)選波長(zhǎng)為300～450nm的活性光線感應(yīng)而產(chǎn)生酸的化合物，但對(duì)于其化學(xué)結(jié)構(gòu)沒(méi)有限制。此外，關(guān)于對(duì)波長(zhǎng)為300nm以上的活性光線不直接感應(yīng)的光酸產(chǎn)生劑，只要是通過(guò)與敏化劑并用而對(duì)波長(zhǎng)為300nm以上的活性光線感應(yīng)而產(chǎn)生酸的化合物，則也可以與敏化劑組合而優(yōu)選使用。作為本發(fā)明中使用的光酸產(chǎn)生劑，優(yōu)選為產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑，更優(yōu)選為產(chǎn)生pKa為2以下的酸的光酸產(chǎn)生劑。另外，本發(fā)明中，pKa基本是指25℃的水中的pKa。在水中無(wú)法測(cè)定的pKa是指變更為適于測(cè)定的溶劑而測(cè)定得到的pKa。具體而言，可以參考化學(xué)便覽等中記載的pKa。作為pKa為3以下的酸，優(yōu)選為磺酸或膦酸，更優(yōu)選為磺酸。作為光酸產(chǎn)生劑的例子，可列舉出鎓鹽化合物、三氯甲基-s-三嗪類、锍鹽、碘鎓鹽、季銨鹽類、重氮甲烷化合物、酰亞胺磺酸酯化合物、及肟磺酸酯化合物等。它們中，優(yōu)選鎓鹽化合物、酰亞胺磺酸酯化合物、肟磺酸酯化合物，特別優(yōu)選鎓鹽化合物、肟磺酸酯化合物。光酸產(chǎn)生劑可以單獨(dú)使用一種或?qū)煞N以上組合使用。作為三氯甲基-s-三嗪類、二芳基碘鎓鹽類、三芳基锍鹽類、季銨鹽類、及重氮甲烷化合物的具體例子，可例示出日本特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0083～0088中記載的化合物、或日本特開(kāi)2011-105645號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0013～0049中記載的化合物，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。作為酰亞胺磺酸酯化合物的具體例子，可例示出WO2011/087011號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0065～0075中記載的化合物，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。作為鎓鹽，可優(yōu)選例示出二芳基碘鎓鹽類或三芳基锍鹽類。作為二芳基碘鎓鹽類，優(yōu)選可列舉出二苯基碘鎓三氟乙酸鹽、二苯基碘鎓三氟甲烷磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯基碘鎓三氟甲烷磺酸鹽、4-甲氧基苯基苯基碘鎓三氟乙酸鹽、苯基-4-(2’-羥基-1’-十四烷氧基)苯基碘鎓三氟甲烷磺酸鹽、4-(2’-羥基-1’-十四烷氧基)苯基碘鎓六氟銻酸鹽、苯基-4-(2’-羥基-1’-十四烷氧基)苯基碘鎓-對(duì)甲苯磺酸鹽。作為三芳基锍鹽類，優(yōu)選可列舉出三苯基锍三氟甲烷磺酸鹽、三苯基锍三氟乙酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基锍三氟甲烷磺酸鹽、4-甲氧基苯基二苯基锍三氟乙酸鹽、4-苯基硫代苯基二苯基锍三氟甲烷磺酸鹽、或4-苯基硫代苯基二苯基锍三氟乙酸鹽。作為肟磺酸酯化合物、即具有肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物，可優(yōu)選例示出含有下述式(B1-1)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的化合物。式(B1-1)[化學(xué)式11]式(B1-1)中，R21表示烷基或芳基。波浪線表示與其它基團(tuán)的鍵合。式(B1-1)中，R21所表示的烷基及芳基可以被取代。此外，R21所表示的烷基可以是直鏈狀，也可以是支鏈狀，還可以是環(huán)狀。作為R21所表示的烷基，優(yōu)選為碳原子數(shù)為1～10的直鏈或支鏈的烷基。R21的烷基也可以被鹵素原子、碳原子數(shù)為6～11的芳基、碳原子數(shù)為1～10的烷氧基、或環(huán)狀的烷基(包含7,7-二甲基-2-氧代降冰片基等橋聯(lián)式脂環(huán)基，優(yōu)選二環(huán)烷基等)取代。作為R21所表示的芳基，優(yōu)選為碳原子數(shù)為6～11的芳基，更優(yōu)選為苯基或萘基。R21的芳基也可以被低級(jí)烷基、烷氧基或鹵素原子取代。含有上述式(B1-1)所表示的肟磺酸酯結(jié)構(gòu)的上述化合物也優(yōu)選為日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0108～0133中記載的肟磺酸酯化合物。作為酰亞胺磺酸酯系化合物，優(yōu)選萘酰亞胺系化合物，可以參考國(guó)際公開(kāi)WO11/087011號(hào)小冊(cè)子的記載，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。本發(fā)明中，特別優(yōu)選可列舉出三氟甲基磺酰氧基二環(huán)[2.2.1]庚-5-烯二羧基酰亞胺、琥珀酰亞胺三氟甲基磺酸酯、鄰苯二甲酰亞胺三氟甲基磺酸酯、N-羥基萘二甲酰亞胺甲烷磺酸酯、N-羥基-5-降冰片烯-2,3-二羧基酰亞胺丙磺酸酯。本發(fā)明的感光性組合物中，光酸產(chǎn)生劑的含量相對(duì)于感光性組合物的全部固體成分100質(zhì)量份優(yōu)選為0.1～20質(zhì)量份。下限更優(yōu)選為例如0.2質(zhì)量份以上，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5質(zhì)量份以上。上限更優(yōu)選為例如10質(zhì)量份以下，進(jìn)一步優(yōu)選為5質(zhì)量份以下。<溶劑C>本發(fā)明的感光性組合物含有溶劑C。本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選以將本發(fā)明的必須成分和進(jìn)而后述的任選的成分溶解到溶劑中而成的溶液的形式調(diào)制。作為溶劑，優(yōu)選為將必須成分及任選成分溶解、且不與各成分發(fā)生反應(yīng)的溶劑。本發(fā)明中，作為溶劑，可以使用公知的溶劑。可例示出例如乙二醇單烷基醚類、乙二醇二烷基醚類、乙二醇單烷基醚乙酸酯類、丙二醇單烷基醚類、丙二醇二烷基醚類、丙二醇單烷基醚乙酸酯類、二乙二醇二烷基醚類(例如二乙二醇二乙基醚、二乙二醇甲基乙基醚等)、二乙二醇單烷基醚乙酸酯類、二丙二醇單烷基醚類、二丙二醇二烷基醚類、二丙二醇單烷基醚乙酸酯類、酯類、酮類、酰胺類、內(nèi)酯類等。此外，還可列舉出日本特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0174～0178中記載的溶劑、日本特開(kāi)2012-194290公報(bào)的段落號(hào)0167～0168中記載的溶劑，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。此外，也可以在這些溶劑中進(jìn)一步根據(jù)需要添加芐基乙基醚、二己基醚、乙二醇單苯基醚乙酸酯、二乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、異佛爾酮、已酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、芐基醇、茴香醚、醋酸芐酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來(lái)酸二乙酯、碳酸亞乙酯、碳酸亞丙酯等溶劑。這些溶劑可以單獨(dú)使用1種或?qū)?種以上混合使用。溶劑可以為單獨(dú)1種，也可以使用2種以上。當(dāng)使用2種以上時(shí)，進(jìn)一步優(yōu)選例如將丙二醇單烷基醚乙酸酯類與二烷基醚類、二乙酸酯類與二乙二醇二烷基醚類、或酯類與丁二醇烷基醚乙酸酯類并用。溶劑優(yōu)選為沸點(diǎn)為130℃以上且低于160℃的溶劑、沸點(diǎn)為160℃以上的溶劑、或它們的混合物。作為沸點(diǎn)為130℃以上且低于160℃的溶劑，可例示出丙二醇單甲基醚乙酸酯(沸點(diǎn)為146℃)、丙二醇單乙基醚乙酸酯(沸點(diǎn)為158℃)、丙二醇甲基-正丁基醚(沸點(diǎn)為155℃)、丙二醇甲基-正丙基醚(沸點(diǎn)為131℃)。作為沸點(diǎn)為160℃以上的溶劑，可例示出3-乙氧基丙酸乙酯(沸點(diǎn)為170℃)、二乙二醇甲基乙基醚(沸點(diǎn)為176℃)、丙二醇單甲基醚丙酸酯(沸點(diǎn)為160℃)、二丙二醇甲基醚乙酸酯(沸點(diǎn)為213℃)、3-甲氧基丁基醚乙酸酯(沸點(diǎn)為171℃)、二乙二醇二乙基醚(沸點(diǎn)為189℃)、二乙二醇二甲基醚(沸點(diǎn)為162℃)、丙二醇二乙酸酯(沸點(diǎn)為190℃)、二乙二醇單乙基醚乙酸酯(沸點(diǎn)為220℃)、二丙二醇二甲基醚(沸點(diǎn)為175℃)、1,3-丁二醇二乙酸酯(沸點(diǎn)為232℃)。本發(fā)明的感光性組合物中的溶劑的含量相對(duì)于感光性組合物中的全部成分100質(zhì)量份優(yōu)選為50～95質(zhì)量份。下限更優(yōu)選為60質(zhì)量份以上。上限更優(yōu)選為90質(zhì)量份以下。溶劑可以僅使用1種，也可以使用2種以上。當(dāng)使用2種以上時(shí)，優(yōu)選其合計(jì)量成為上述范圍。<化合物S>本發(fā)明的感光性組合物包含具有式S1所表示的結(jié)構(gòu)及式S2所表示的結(jié)構(gòu)的化合物S。以下，將S1所表示的結(jié)構(gòu)也稱為結(jié)構(gòu)S1。此外，將式S2所表示的結(jié)構(gòu)也稱為結(jié)構(gòu)S2。另外，本發(fā)明中，化合物S為與上述的聚合物成分A不同的成分。[化學(xué)式12]式中，波浪線表示與構(gòu)成化合物S的原子團(tuán)的鍵合位置，R1表示烷基，R2表示氫原子或烷基，L1表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，在L1表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R1也可以與L1鍵合而形成環(huán)，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子、羥基或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n為0時(shí)，R100表示羥基，當(dāng)n為1時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n為2～30時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，多個(gè)L100可以相同，也可以不同。首先，對(duì)結(jié)構(gòu)S1進(jìn)行說(shuō)明。式S1中，R1表示烷基。烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～10，更優(yōu)選為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選為1～3，特別優(yōu)選為1或2，最優(yōu)選為1。烷基可以為直鏈、支鏈及環(huán)狀中的任一種，但優(yōu)選為直鏈或支鏈，更優(yōu)選為直鏈。在L1表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R1也可以與L1鍵合而形成環(huán)。作為R1與L1鍵合而形成的環(huán)，可列舉出例如四氫呋喃基及四氫吡喃基。式S1中，R2表示氫原子或烷基。烷基可列舉出好R1中說(shuō)明的烷基，優(yōu)選的范圍也同樣。R2優(yōu)選為氫原子。式S1中，L1表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)。作為2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，可列舉出亞烷基、亞芳基及將它們組合而成的基團(tuán)。亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～10，進(jìn)一步優(yōu)選為1～6，特別優(yōu)選為1～4。亞烷基優(yōu)選為直鏈或環(huán)狀，更優(yōu)選為直鏈。亞烷基也可以介由選自醚鍵、酯鍵及酰胺鍵中的1種以上的鍵而連結(jié)，也可以不具有這些鍵。亞烷基優(yōu)選不具有上述的鍵。此外，亞烷基可以為未取代，也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。作為取代基，可例示出鹵素原子。作為鹵素原子，可例示出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，優(yōu)選氟原子。亞芳基的碳原子數(shù)優(yōu)選為6～20，更優(yōu)選為6～12。亞芳基可以為未取代，也可以具有取代基。優(yōu)選為未取代。作為取代基，可例示出鹵素原子。作為鹵素原子，可例示出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子，優(yōu)選為氟原子。L1優(yōu)選為單鍵或亞烷基，更優(yōu)選為亞烷基。式S1中，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基。氟烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12。下限優(yōu)選為3以上，更優(yōu)選為4以上。上限優(yōu)選為10以下，更優(yōu)選為8以下，進(jìn)一步優(yōu)選為6以下。Rf所表示的氟烷基可以為直鏈、支鏈及環(huán)狀中的任一種，但優(yōu)選為直鏈或環(huán)狀，更優(yōu)選為直鏈。根據(jù)該方式，能夠使涂布性良好。進(jìn)而，能夠進(jìn)一步提高與層疊于固化膜上的上層的密合性。本發(fā)明中，Rf優(yōu)選為全氟烷基。全氟烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為3～6，進(jìn)一步優(yōu)選為4～6。根據(jù)該方式，能夠使涂布性良好。進(jìn)而，能夠進(jìn)一步提高與層疊于固化膜上的上層的密合性。另外，本發(fā)明中，所謂氟烷基是指烷基的氫原子的至少一部分被氟原子取代而得到的烷基。即，所謂氟烷基是具有氟原子作為取代基的烷基。此外，所謂全氟烷基是氟烷基的一種、且烷基的氫原子的全部被氟原子取代而得到的烷基。式S1中，作為L(zhǎng)1與Rf的組合的優(yōu)選的具體例子，可列舉出以下組合?？闪信e出CF3CH2CH2-、CF3CF2CH2CH2-、CF3(CF2)2CH2CH2-、CF3(CF2)3CH2CH2-、CF3(CF2)4CH2CH2-、CF3(CF2)5CH2CH2-、CF3(CF2)6CH2CH2-、CF3(CF2)7CH2CH2-、(CF3)3CCH2CH2-等。其中，優(yōu)選CF3(CF2)3CH2CH2-、CF3(CF2)4CH2CH2-、CF3(CF2)5CH2CH2-、(CF3)3CCH2CH2-，特別優(yōu)選CF3(CF2)5CH2CH2-。接著，對(duì)結(jié)構(gòu)S2進(jìn)行說(shuō)明。式S2中，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子、羥基或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n表示0～30的整數(shù)。式S2中，L100所表示的亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選為2～4。L100所表示的亞烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為支鏈。L100所表示的亞烷基的支鏈數(shù)優(yōu)選為1～2，更優(yōu)選為1。L100所表示的亞烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。式S2中，R100所表示的烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選為1～3。R100所表示的烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為直鏈。R100所表示的烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。式S2中，n表示0～30的整數(shù)。下限優(yōu)選為1以上，更優(yōu)選為2以上，進(jìn)一步優(yōu)選為3以上。上限優(yōu)選為20以下，更優(yōu)選為15以下。另外，n表示0～30的整數(shù)，但本發(fā)明的感光性組合物也可以包含多種化合物S中的n不同的化合物。因此，本發(fā)明的感光性組合物中包含的化合物S的n的平均值有時(shí)不成為整數(shù)。本發(fā)明中，一個(gè)化合物S中的n優(yōu)選表示0～30的整數(shù)。式S2中，當(dāng)n為0時(shí)，R100表示羥基，當(dāng)n為1時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n為2～30時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，多個(gè)L100可以相同，也可以不同。根據(jù)該方式，容易得到優(yōu)異的親水性。特別是從親水性提高的觀點(diǎn)出發(fā)，式S2優(yōu)選為以下的(1)～(3)的方式，更優(yōu)選為(2)或(3)的方式，進(jìn)一步優(yōu)選為(3)的方式。(1)n為0、且R100表示羥基的結(jié)構(gòu)。(2)n為1、且L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基、R100表示氫原子的結(jié)構(gòu)(3)n為2～30、且L100為碳原子數(shù)為1～12的亞烷基、R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基的結(jié)構(gòu)?；衔颯可以僅具有一個(gè)結(jié)構(gòu)S1，也可以具有2個(gè)以上。此外，當(dāng)具有2個(gè)以上結(jié)構(gòu)S1時(shí)，可以是相同的結(jié)構(gòu)，也可以是不同的結(jié)構(gòu)。此外，化合物S可以僅具有一個(gè)結(jié)構(gòu)S2，也可以具有2個(gè)以上。此外，當(dāng)具有2個(gè)以上結(jié)構(gòu)S2時(shí)，可以是相同的結(jié)構(gòu)，也可以是不同的結(jié)構(gòu)。本發(fā)明的感光性組合物優(yōu)選相對(duì)于聚合物成分A的100質(zhì)量份，含有0.001～20質(zhì)量份的化合物S。下限優(yōu)選為0.005質(zhì)量份以上，更優(yōu)選為0.01質(zhì)量份以上。上限優(yōu)選為15質(zhì)量份以下，更優(yōu)選為10質(zhì)量份以下，進(jìn)一步優(yōu)選為5質(zhì)量份以下，特別優(yōu)選為2質(zhì)量份以下。本發(fā)明中，化合物S可以為低分子化合物，也可以為聚合物。從涂布性的觀點(diǎn)出發(fā)，化合物S優(yōu)選為聚合物。(化合物S為低分子化合物的情況)在化合物S為低分子化合物的情況下，化合物S優(yōu)選為下述式S-100所表示的化合物。[化學(xué)式13]R1表示烷基，R2表示氫原子或烷基，L1表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，在L1表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R1也可以與L1鍵合而形成環(huán)，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子、羥基或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n為0時(shí)，R100表示羥基，當(dāng)n為1時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n為2～30時(shí)，L100表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R100表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，多個(gè)L100可以相同，也可以不同，A表示單鍵或(p+q)價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，p及q分別獨(dú)立地表示1以上的整數(shù)，當(dāng)A為單鍵時(shí)，p及q分別表示1。式S-100中，R1、R2、L1、Rf、L100、R100及n與上述的式S1及S2中說(shuō)明的范圍含義相同。式S-100中，A表示單鍵或(p+q)價(jià)的連結(jié)基團(tuán)。作為(p+q)價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，包含由1個(gè)至100個(gè)的碳原子、0個(gè)至10個(gè)的氮原子、0個(gè)至50個(gè)的氧原子、1個(gè)至200個(gè)的氫原子、及0個(gè)至20個(gè)的硫原子構(gòu)成的基團(tuán)。關(guān)于(p+q)價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，作為具體的例子，可列舉出下述的結(jié)構(gòu)單元或以下的結(jié)構(gòu)單元2個(gè)以上組合而構(gòu)成的基團(tuán)(也可以形成環(huán)結(jié)構(gòu))。[化學(xué)式14]式S-100中，p及q分別獨(dú)立地表示1以上的整數(shù)。p與q的合計(jì)數(shù)的上限沒(méi)有特別限定，但可以設(shè)定為10以下，也可以設(shè)定為6以下。下限為2以上。當(dāng)化合物S為低分子化合物時(shí)，化合物S的分子量?jī)?yōu)選為100～1000。下限優(yōu)選為120以上，更優(yōu)選為150以上。上限優(yōu)選為500以下，更優(yōu)選為400以下。另外，當(dāng)?shù)头肿踊衔锏姆肿恿靠梢杂山Y(jié)構(gòu)式計(jì)算時(shí)，為由結(jié)構(gòu)式求出的理論值，當(dāng)無(wú)法由結(jié)構(gòu)式計(jì)算時(shí)，為依據(jù)后述的實(shí)施例中記載的方法的利用GPC測(cè)定的基于聚苯乙烯換算值的重均分子量。作為低分子化合物的具體例子，可列舉出下述化合物。另外，以下，Rfa表示碳原子數(shù)為3～8的直鏈或支鏈的全氟烷基。Rfa優(yōu)選為碳原子數(shù)為4～6的直鏈的全氟烷基。[化學(xué)式15](化合物S為聚合物的情況)在化合物S為聚合物的情況下，化合物S優(yōu)選為具有在側(cè)鏈上具有結(jié)構(gòu)S1的構(gòu)成單元S1-1和在側(cè)鏈上具有結(jié)構(gòu)S1的構(gòu)成單元S2-1的聚合物。構(gòu)成單元S1-1及構(gòu)成單元S2-1的主鏈結(jié)構(gòu)可列舉出丙烯酸系、苯乙烯系、環(huán)烯烴系等，優(yōu)選丙烯酸系。作為丙烯酸系的主鏈結(jié)構(gòu)，可列舉出例如下述P1所表示的結(jié)構(gòu)。作為苯乙烯系的主鏈結(jié)構(gòu)，可列舉出例如下述P2所表示的結(jié)構(gòu)。作為環(huán)烯烴系的主鏈結(jié)構(gòu)，可列舉出例如下述P3所表示的結(jié)構(gòu)。式中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，*表示與側(cè)鏈的鍵合位置。[化學(xué)式16]作為構(gòu)成單元S1-1為丙烯酸系的主鏈結(jié)構(gòu)的具體例子，可列舉出例如下述S1-2所表示的結(jié)構(gòu)。作為構(gòu)成單元S1-1為苯乙烯系的主鏈結(jié)構(gòu)的具體例子，可列舉出例如下述S1-100所表示的結(jié)構(gòu)。作為構(gòu)成單元S1-1為環(huán)烯烴系的主鏈結(jié)構(gòu)的具體例子，可列舉出例如下述S1-200所表示的結(jié)構(gòu)。此外，作為構(gòu)成單元S2-1為丙烯酸系的主鏈結(jié)構(gòu)的具體例子，可列舉出例如下述S2-2所表示的結(jié)構(gòu)。作為構(gòu)成單元S2-1為苯乙烯系的主鏈結(jié)構(gòu)的具體例子，可列舉出例如下述S2-100所表示的結(jié)構(gòu)。作為構(gòu)成單元S2-1為環(huán)烯烴系的主鏈結(jié)構(gòu)的具體例子，可列舉出例如下述S2-200所表示的結(jié)構(gòu)。[化學(xué)式17]式S1-2、S1-100及S1-200中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，R12表示烷基，R13表示氫原子或烷基，L10表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，在L10表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R12也可以與L10鍵合而形成環(huán)，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基。式S2-2中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，L101表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n1表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n1為0或1時(shí)，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n1為2～30時(shí)，多個(gè)L101可以相同，也可以不同。式S2-2、S2-100及S2-200中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，L110表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R110表示氫原子、羥基或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n10表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n10為0時(shí)，R110表示羥基，當(dāng)n10為1時(shí)，L110表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基或羰基，R110表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n10為2～30時(shí)，L110表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R110表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，多個(gè)L110可以相同，也可以不同。本發(fā)明中，化合物S也可以進(jìn)一步具有除構(gòu)成單元S1-1、構(gòu)成單元S2-1以外的構(gòu)成單元(其它構(gòu)成單元)。作為其它構(gòu)成單元，可列舉出例如具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元等。作為具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元的方式，可列舉出包含選自由環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、-NH-CH2-O-R(R為氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基)所表示的基團(tuán)及烯屬不飽和基團(tuán)組成的組中的至少一個(gè)的構(gòu)成單元。交聯(lián)性基團(tuán)優(yōu)選為選自環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁烷基、及-NH-CH2-O-R(R為氫原子或碳原子數(shù)為1～20的烷基)所表示的基團(tuán)中的至少1種，更優(yōu)選為環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基。其它構(gòu)成單元的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為20質(zhì)量％以下。下限也可以設(shè)定為例如1質(zhì)量％。此外，也可以實(shí)質(zhì)上不含有其它構(gòu)成單元。所謂實(shí)質(zhì)上不含有其它構(gòu)成單元是指相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，其它構(gòu)成單元的含量?jī)?yōu)選為0.5質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選不含有其它構(gòu)成單元。本發(fā)明中，化合物S優(yōu)選為具有式S1-2所表示的構(gòu)成單元(以下也稱為構(gòu)成單元S1-2)和式S2-2所表示的構(gòu)成單元(以下也稱為構(gòu)成單元S2-2)的聚合物。[化學(xué)式18]式中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，R12表示烷基，R13表示氫原子或烷基，L10表示單鍵或2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)，在L10表示2價(jià)的連結(jié)基團(tuán)的情況下，R12也可以與L10鍵合而形成環(huán)，Rf表示具有3個(gè)以上氟原子的氟烷基，L101表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，n1表示0～30的整數(shù)，當(dāng)n1為0或1時(shí)，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n1為2～30時(shí)，多個(gè)L101可以相同，也可以不同。式S1-2中，R12、R13、L10及Rf與上述的式S1中說(shuō)明的R1、R2、L1及Rf含義相同。式S1-2及式S2-2中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，優(yōu)選為氫原子或甲基。式S2-2中，L101表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基。亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選為2～4。亞烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為支鏈。亞烷基的支鏈數(shù)優(yōu)選為1～2，更優(yōu)選為1。亞烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。式S2-2中，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基。R101所表示的烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選為1～3。R101所表示的烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為直鏈。R101所表示的烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。R101優(yōu)選為氫原子。n1表示0～30的整數(shù)。下限優(yōu)選為1以上。上限優(yōu)選為20以下，更優(yōu)選為15以下。當(dāng)n1為0或1時(shí)，R101表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n1為2～30時(shí)，多個(gè)L101也可以相同。另外，n1表示0～30的整數(shù)，但本發(fā)明的感光性組合物也可以包含多種化合物S中的n1不同的化合物。因此，本發(fā)明的感光性組合物中包含的化合物S的n1的平均值有時(shí)不成為整數(shù)。本發(fā)明中，化合物S優(yōu)選構(gòu)成單元S1-1與構(gòu)成單元S2-1的含量的合計(jì)為化合物S的全部構(gòu)成單元的70質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為75質(zhì)量％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為80質(zhì)量％以上。若為上述范圍，則涂布性良好，且容易形成與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜。此外，構(gòu)成單元S1-1與構(gòu)成單元S2-1的質(zhì)量比優(yōu)選為構(gòu)成單元S1-1：構(gòu)成單元S2-1＝5：95～95：5，更優(yōu)選為10：90～90：10，進(jìn)一步優(yōu)選為15：85～85：15。本發(fā)明中，化合物S優(yōu)選含有化合物S的全部構(gòu)成單元的60摩爾％以上的構(gòu)成單元S1-1和構(gòu)成單元S2-1，更優(yōu)選含有70摩爾％以上，進(jìn)一步優(yōu)選含有80摩爾％以上。若為上述范圍，則涂布性良好，且容易形成與層疊于固化膜上的上層的密合性優(yōu)異的固化膜。此外，構(gòu)成單元S1-1與構(gòu)成單元S2-1的摩爾比優(yōu)選為構(gòu)成單元S1-1：構(gòu)成單元S2-1＝95：5～5：95，更優(yōu)選為80：20～10：90，進(jìn)一步優(yōu)選為70：30～10：90。本發(fā)明中，化合物S也可以分別含有1種以上的n1以0表示的結(jié)構(gòu)和n1以1以上表示的結(jié)構(gòu)作為構(gòu)成單元S2-2。即，化合物S也可以為含有上述構(gòu)成單元S1-2和選自下述式S2-2-1所表示的構(gòu)成單元(也稱為構(gòu)成單元S2-2-1)、下述式S2-2-2所表示的構(gòu)成單元(也稱為構(gòu)成單元S2-2-2)、及下述式S2-2-3所表示的構(gòu)成單元(也稱為構(gòu)成單元S2-2-3)中的至少一種的構(gòu)成單元的聚合物。其中，優(yōu)選為具有構(gòu)成單元S1-2和構(gòu)成單元S2-2-1和/或構(gòu)成單元S2-2-2的聚合物。聚合物的全部構(gòu)成單元中的構(gòu)成單元S2-2-1與構(gòu)成單元S2-2-2的合計(jì)含量?jī)?yōu)選為5質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為10質(zhì)量％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為20質(zhì)量％以上，特別優(yōu)選為40質(zhì)量％以上。上限例如優(yōu)選為95質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為90質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為85質(zhì)量％以下。此外，聚合物的全部構(gòu)成單元中的構(gòu)成單元S2-2-1的含量?jī)?yōu)選為1質(zhì)量％以上，更優(yōu)選為10質(zhì)量％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為20質(zhì)量％以上，特別優(yōu)選為40質(zhì)量％以上。上限優(yōu)選為例如95質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為90質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為85質(zhì)量％以下。此外，聚合物的全部構(gòu)成單元中的構(gòu)成單元S2-2-2的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為1～20質(zhì)量％，更優(yōu)選為1～15質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為1～10質(zhì)量％，特別優(yōu)選為1～5質(zhì)量％。此外，聚合物的全部構(gòu)成單元中的構(gòu)成單元S2-2-3的含量?jī)?yōu)選為30質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為20質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為10質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選為1質(zhì)量％以下。此外，也優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元S2-2-3。所謂實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元S2-2-3是指相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，構(gòu)成單元S2-2-3的含量?jī)?yōu)選為0.5質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選不含有構(gòu)成單元S2-2-3。根據(jù)該方式，可以得到優(yōu)異的涂布性。[化學(xué)式19]式中，R11表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，L101表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R102表示氫原子或碳原子數(shù)為1～12的烷基，R103表示碳原子數(shù)為1～6的烷基，n1a表示1～30的整數(shù)，當(dāng)n1a為1時(shí)，R102表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，當(dāng)n1a為2～30時(shí)，多個(gè)L101可以相同，也可以不同。R11、L101及R102與S2-2的R11、L101及R101含義相同。R103所表示的烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～6，更優(yōu)選為1～3。烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為直鏈。烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。本發(fā)明中，化合物S優(yōu)選為具有式S1-3所表示的構(gòu)成單元(以下也稱為構(gòu)成單元S1-3)和式S2-3所表示的構(gòu)成單元(以下也稱為構(gòu)成單元S2-3)的聚合物。[化學(xué)式20]式中，R21表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，R22表示碳原子數(shù)為1～3的烷基，R23表示氫原子，L20表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，Rf1表示碳原子數(shù)為3～6的全氟烷基，R22也可以與L20鍵合而形成環(huán)，L201表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基，R201表示氫原子或碳原子數(shù)為1～6的烷基，n2表示1～20的整數(shù)，當(dāng)n2為2～20時(shí)，多個(gè)L201可以相同，也可以不同。式S1-3及式S2-3中，R21表示氫原子或碳原子數(shù)為1～3的烷基，優(yōu)選為氫原子或甲基。式S1-3中，R22表示碳原子數(shù)為1～3的烷基，R23表示氫原子。R22所表示的烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1或2，更優(yōu)選為1。R22也可以與L20鍵合而形成環(huán)。作為R22與L20鍵合而形成的環(huán)，可列舉出例如環(huán)丁基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)庚基、四氫呋喃基、金剛烷基及四氫吡喃基等。式S1-3中，L20表示碳原子數(shù)為1～12的亞烷基。亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～10，進(jìn)一步優(yōu)選為1～6。亞烷基優(yōu)選為直鏈或環(huán)狀，更優(yōu)選為直鏈。亞烷基也可以具有選自醚鍵、酯鍵及酰胺鍵中的1種以上的鍵，但也可以不具有這些鍵。亞烷基優(yōu)選不具有上述的鍵。此外，亞烷基可以為未取代，也可以具有取代基。優(yōu)選為未取代。式S1-3中，Rf1表示碳原子數(shù)為3～6的全氟烷基。全氟烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為3～6，進(jìn)一步優(yōu)選為4～6。全氟烷基可以為直鏈、支鏈、環(huán)狀中的任一種，但優(yōu)選為直鏈或環(huán)狀，更優(yōu)選為直鏈。式S2-3中，L201所表示的亞烷基的碳原子數(shù)優(yōu)選為1～12，更優(yōu)選為1～6。L201所表示的亞烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為支鏈。L201所表示的亞烷基的支鏈數(shù)優(yōu)選為1～2，更優(yōu)選為1。L201所表示的亞烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。式S2-3中，R201所表示的烷基的碳原子數(shù)更優(yōu)選為1～6，進(jìn)一步優(yōu)選為1～3。R201所表示的烷基優(yōu)選為直鏈、支鏈，更優(yōu)選為直鏈。R201所表示的烷基也可以具有取代基，但優(yōu)選為未取代。R201優(yōu)選為氫原子。式S2-3中，n2表示1～20的整數(shù)。下限優(yōu)選為2以上，進(jìn)一步優(yōu)選為3以上。上限優(yōu)選為15以下。另外，n2表示1～20的整數(shù)，但本發(fā)明的感光性組合物也可以包含多種化合物S中的n2不同的化合物。因此，本發(fā)明的感光性組合物中包含的化合物S的n2的平均值有時(shí)不成為整數(shù)。本發(fā)明中，一個(gè)化合物S中的n2優(yōu)選表示1～20的整數(shù)。本發(fā)明中，化合物S也可以除了具有構(gòu)成單元S1-3及構(gòu)成單元S2-3以外，進(jìn)一步具有上述結(jié)構(gòu)S2-2-2和/或上述結(jié)構(gòu)S2-2-3。其它構(gòu)成單元優(yōu)選為構(gòu)成單元S2-2-2。根據(jù)該方式，能夠使涂布性及與層疊于固化膜上的上層的密合性更加良好。構(gòu)成單元S2-2-2的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為1～20質(zhì)量％，更優(yōu)選為1～15質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為1～10質(zhì)量％，特別優(yōu)選為1～5質(zhì)量％。構(gòu)成單元S2-2-3的含量相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，優(yōu)選為30質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為20質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選為10質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選為1質(zhì)量％以下。此外，聚合物也優(yōu)選實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元S2-2-3。所謂實(shí)質(zhì)上不含有構(gòu)成單元S2-2-3是指相對(duì)于聚合物的全部構(gòu)成單元，構(gòu)成單元S2-2-3的含量?jī)?yōu)選為0.5質(zhì)量％以下，更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以下，進(jìn)一步優(yōu)選不含有構(gòu)成單元S2-2-3。根據(jù)該方式，容易得到優(yōu)異的涂布性。本發(fā)明中，在化合物S為聚合物的情況下，化合物S的重均分子量?jī)?yōu)選為100～100000。下限優(yōu)選為300以上，更優(yōu)選為1000以上。上限優(yōu)選為30000以下，更優(yōu)選為10000以下，特別優(yōu)選為5000以下。若化合物S的分子量為上述范圍，則涂布性良好。化合物S的分子量分布(Mw/Mn)優(yōu)選為1.0～5.0，更優(yōu)選為1.2～3.0。作為化合物S的具體例子，可列舉出例如以下所示的結(jié)構(gòu)及后述的實(shí)施例中所示的結(jié)構(gòu)。以下，R表示氫原子或甲基，n100表示1～20的整數(shù)，Rfb表示碳原子數(shù)為3～8的直鏈或支鏈的全氟烷基。n100優(yōu)選為2～20的整數(shù)。Rfb優(yōu)選為碳原子數(shù)為4～6的直鏈的全氟烷基。[化學(xué)式21]<烷氧基硅烷化合物>本發(fā)明的感光性組合物也可以進(jìn)一步含有烷氧基硅烷化合物。烷氧基硅烷化合物優(yōu)選為具有選自由環(huán)氧基、烯屬不飽和基團(tuán)、被氯基取代的烷基及巰基組成的組中的至少1種基團(tuán)和烷氧基硅烷結(jié)構(gòu)的化合物。通過(guò)配合這樣的化合物，能夠使感度進(jìn)一步提高，同時(shí)能夠使感光性組合物的固化時(shí)的與基底基板的密合性進(jìn)一步提高。烷氧基硅烷化合物可以包含1種，也可以包含2種以上。烷氧基硅烷化合物的分子量沒(méi)有特別規(guī)定，但優(yōu)選為低于1000，更優(yōu)選為500以下。關(guān)于烷氧基硅烷化合物的分量子的下限值，沒(méi)有特別規(guī)定，但優(yōu)選為100以上，更優(yōu)選為200以上。作為烷氧基硅烷化合物的具體例子，可列舉出γ-氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-環(huán)氧丙氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基二烷氧基硅烷、γ-氯丙基三烷氧基硅烷、γ-巰基丙基三烷氧基硅烷、β-(3,4-環(huán)氧環(huán)己基)乙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷。作為市售品，可例示出Shin-EtsuSilicone株式會(huì)社制的KBM-403、KBM-5103、KBM-303、KBM-803。在本發(fā)明的感光性組合物含有烷氧基硅烷化合物的情況下，烷氧基硅烷化合物的含量?jī)?yōu)選為感光性組合物的全部固體成分中的0.05～10質(zhì)量％。下限更優(yōu)選為0.1質(zhì)量％以上，特別優(yōu)選為0.5質(zhì)量％以上。上限更優(yōu)選為8質(zhì)量％以下，特別優(yōu)選為6質(zhì)量％以下。<具有交聯(lián)性基團(tuán)的分子量為1,000以下的化合物>本發(fā)明的感光性組合物也可以含有具有交聯(lián)性基團(tuán)的分子量為1,000以下的化合物(以下也稱為“交聯(lián)劑”)。通過(guò)含有交聯(lián)劑，可以得到更強(qiáng)硬的固化膜。特別是在上述聚合物成分A不含有包含具有交聯(lián)性基團(tuán)的構(gòu)成單元的聚合物的情況下、或者含量少的情況下，進(jìn)一步優(yōu)選含有交聯(lián)劑。作為交聯(lián)劑，只要是通過(guò)熱引起交聯(lián)反應(yīng)的物質(zhì)則沒(méi)有限制?？闪信e出例如分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基的化合物、封端異氰酸酯化合物、含有烷氧基甲基的化合物、具有烯屬不飽和基團(tuán)的化合物等。優(yōu)選為分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基的化合物、封端異氰酸酯化合物及含有烷氧基甲基的化合物，更優(yōu)選為分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基的化合物及含有烷氧基甲基的化合物，進(jìn)一步優(yōu)選為分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基的化合物。若配合分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基和/或氧雜環(huán)丁烷基的化合物，則特別容易得到耐熱性優(yōu)異的固化膜。作為分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基或氧雜環(huán)丁烷基的化合物，可列舉出雙酚A型環(huán)氧樹(shù)脂、雙酚F型環(huán)氧樹(shù)脂、線型酚醛清漆型環(huán)氧樹(shù)脂、甲酚線型酚醛型環(huán)氧樹(shù)脂、脂肪族環(huán)氧樹(shù)脂等。它們可以作為市售品獲得。例如作為分子內(nèi)具有2個(gè)以上的環(huán)氧基的化合物，可列舉出JER152、JER157S70、JER157S65、JER806、JER828、JER1007(三菱化學(xué)株式會(huì)社制)等、日本特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0189中記載的市售品等，此外，可列舉出DenacolEX-611、EX-612、EX-614、EX-614B、EX-622、EX-512、EX-521、EX-411、EX-421、EX-313、EX-314、EX-321、EX-211、EX-212、EX-810、EX-811、EX-850、EX-851、EX-821、EX-830、EX-832、EX-841、EX-911、EX-941、EX-920、EX-931、EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L、DLC-201、DLC-203、DLC-204、DLC-205、DLC-206、DLC-301、DLC-402(以上NagaseChemtexCorporation制)、YH-300、YH-301、YH-302、YH-315、YH-324、YH-325(新日鐵化學(xué)株式會(huì)社制)、CELLOXIDE2021P、2081、3000、EHPE3150、EpoleadGT400、CELVENUSB0134、B0177(DaicelCorporation制)、EpicronHP-720(DIC株式會(huì)社制)等。作為分子內(nèi)具有2個(gè)以上的氧雜環(huán)丁烷基的化合物，可以使用ARONOXETANEOXT-121、OXT-221、OX-SQ、PNOX(以上、東亞合成株式會(huì)社制)。此外，包含氧雜環(huán)丁烷基的化合物優(yōu)選單獨(dú)使用或與包含環(huán)氧基的化合物混合使用。封端異氰酸酯化合物沒(méi)有特別限制，但從固化性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為1分子內(nèi)具有2個(gè)以上的封端異氰酸酯基的化合物。另外，本發(fā)明中的封端異氰酸酯基為可通過(guò)熱生成異氰酸酯基的基團(tuán)，可優(yōu)選例示出例如使封端劑與異氰酸酯基反應(yīng)而將異氰酸酯基保護(hù)的基團(tuán)。此外，上述封端異氰酸酯基優(yōu)選為可通過(guò)90℃～250℃的熱而生成異氰酸酯基的基團(tuán)。作為封端異氰酸酯化合物，其骨架并沒(méi)有特別限定，只要是在1分子中具有兩個(gè)異氰酸酯基，則可以是任意的化合物，可以是脂肪族、脂環(huán)族或芳香族的多異氰酸酯。關(guān)于骨架的具體例子，可以參考日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)的段落0144的記載，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。作為封端異氰酸酯化合物的母結(jié)構(gòu)，可列舉出縮二脲型、異氰脲酸酯型、加合物型、2官能預(yù)聚物型等。作為形成上述封端異氰酸酯化合物的封端結(jié)構(gòu)的封端劑，可列舉出肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物、硫醇化合物、咪唑系化合物、酰亞胺系化合物等。它們中，特別優(yōu)選為選自肟化合物、內(nèi)酰胺化合物、酚化合物、醇化合物、胺化合物、活性亞甲基化合物、吡唑化合物中的封端劑。作為封端劑的具體例子，可以參考日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0146的記載，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。封端異氰酸酯化合物可以作為市售品獲得，可以優(yōu)選使用例如CoronateAPstableM、Coronate2503、2515、2507、2513、2555、MillionateMS-50(以上為NipponPolyurethaneIndustryCO.,LTD.制)、TakenateB-830、B-815N、B-820NSU、B-842N、B-846N、B-870N、B-874N、B-882N(以上為三井化學(xué)株式會(huì)社制)、Duranate17B-60PX、17B-60P、TPA-B80X、TPA-B80E、MF-B60X、MF-B60B、MF-K60X、MF-K60B、E402-B80B、SBN-70D、SBB-70P、K6000(以上為AsahiKaseiChemicalsCorporation制)、DesmoduleBL1100、BL1265MPA/X、BL3575/1、BL3272MPA、BL3370MPA、BL3475BA/SN、BL5375MPA、VPLS2078/2、BL4265SN、PL340、PL350、SumiduleBL3175(以上為SumikaBayerUrethaneCo.,Ltd.制)等。作為含有烷氧基甲基的化合物，優(yōu)選烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲及烷氧基甲基化尿素等。它們分別通過(guò)將羥甲基化三聚氰胺、羥甲基化苯并胍胺、羥甲基化甘脲、或羥甲基化尿素的羥甲基轉(zhuǎn)換成烷氧基甲基來(lái)得到。對(duì)于該烷氧基甲基的種類，沒(méi)有特別限定，可列舉出例如甲氧基甲基、乙氧基甲基、丙氧基甲基、丁氧基甲基等，但從排氣的產(chǎn)生量的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選為甲氧基甲基。這些化合物中，烷氧基甲基化三聚氰胺、烷氧基甲基化苯并胍胺、烷氧基甲基化甘脲可作為優(yōu)選的化合物列舉出，從透明性的觀點(diǎn)出發(fā)，特別優(yōu)選為烷氧基甲基化甘脲。含有烷氧基甲基的化合物可以作為市售品獲得，可以優(yōu)選使用例如CYMEL300、301、303、370、325、327、701、266、267、238、1141、272、202、1156、1158、1123、1170、1174、UFR65、300(以上為MitsuiCyanamidCo.,Ltd.制)、NIKALACMX-750、MX-032、MX-706、MX-708、MX-40、MX-31、MX-270、MX-280、MX-290、NIKALACMS-11、NIKALACMW-30HM、MW-100LM、MW-390、(以上為SANWAChemicalCo.,Ltd.制)等。作為具有烯屬不飽和基團(tuán)的化合物，優(yōu)選為包含(甲基)丙烯?；幕衔?。包含(甲基)丙烯?；幕衔锟闪信e出選自由丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯組成的組中的化合物。具有烯屬不飽和基團(tuán)的化合物優(yōu)選為1分子中具有2個(gè)以上(甲基)丙烯?；幕衔?2官能(甲基)丙烯酸酯)，更優(yōu)選為具有3個(gè)以上(甲基)丙烯?；幕衔?3官能以上的(甲基)丙烯酸酯)。作為2官能(甲基)丙烯酸酯，可列舉出例如乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙苯氧基乙醇芴二(甲基)丙烯酸酯等。作為3官能以上的(甲基)丙烯酸酯，可列舉出例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三((甲基)丙烯酰氧基乙基)磷酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。作為優(yōu)選的市售品，可列舉出日本化藥株式會(huì)社制KAYARADDPHA、新中村化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制NKester系列、二官能的A-200、A-400、A-600、A-1000、ABE-300、A-BPE-4、A-BPE-10、A-BPE-20、A-BPE-30、A-BPP-3、A-DOD、A-DCP、A-IBD-2E、A-NPG、701A、A-B1206PE、A-HD-N、A-NOD-N、APG-100、APG-200、APG-400、APG-700、1G、2G、3G、4G、9G、14G、23G、BG、BD、HD-N、NOD、IND、BPE-100、BPE-200、BPE-300、BPE-500、BPE-900、BPE-1300N、NPG、DCP、1206PE、701、3PG、9PG、3官能的A-9300、AT-30E、A-TMPT-3EO、A-TMPT-9EO、A-TMPT-3PO、A-TMM-3、A-TMM-3L、A-TMM-3LM-N、TMPT、TMPT-9EO、4官能以上的ATM-35E、ATM-4E、AD-TMP、AD-TMP-L、ATM-4P、A-TMMT、A-DPH等。本發(fā)明中，交聯(lián)劑的分子量?jī)?yōu)選為200～1,000。當(dāng)本發(fā)明的感光性組合物含有交聯(lián)劑時(shí)，交聯(lián)劑的含量相對(duì)于聚合物成分A的100質(zhì)量份，優(yōu)選為0.01～50質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.1～30質(zhì)量份，進(jìn)一步優(yōu)選為0.5～25質(zhì)量份。通過(guò)在該范圍內(nèi)添加，可以得到機(jī)械強(qiáng)度及耐溶劑性優(yōu)異的固化膜。交聯(lián)劑可以僅包含1種，也可以包含2種以上。當(dāng)包含2種以上時(shí)，優(yōu)選合計(jì)量成為上述范圍。<堿性化合物>本發(fā)明的感光性組合物也可以含有堿性化合物。作為堿性化合物，可列舉出例如脂肪族胺、芳香族胺、雜環(huán)式胺、氫氧化季銨、羧酸的季銨鹽等。作為它們的具體例子，可列舉出日本特開(kāi)2011-221494號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0204～0207中記載的化合物，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。具體而言，作為脂肪族胺，可列舉出例如三甲基胺、二乙基胺、三乙基胺、二正丙基胺、三正丙基胺、二正戊基胺、三正戊基胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二環(huán)己基胺、二環(huán)己基甲基胺等。作為芳香族胺，可列舉出例如苯胺、芐基胺、N,N-二甲基苯胺、二苯基胺等。作為雜環(huán)式胺，可列舉出例如吡啶、2-甲基吡啶、4-甲基吡啶、2-乙基吡啶、4-乙基吡啶、2-苯基吡啶、4-苯基吡啶、N-甲基-4-苯基吡啶、4-二甲基氨基吡啶、咪唑、苯并咪唑、4-甲基咪唑、2-苯基苯并咪唑、三苯基咪唑、煙堿、煙酸、煙酰胺、喹啉、8-羥基喹啉、吡嗪、吡唑、噠嗪、嘌啉、吡咯烷、哌啶、哌嗪、嗎啉、4-甲基嗎啉、N-環(huán)己基-N’-[2-(4-嗎啉基)乙基]硫脲、1,5-二氮雜二環(huán)[4.3.0]-5-壬烯、1,8-二氮雜二環(huán)[5.3.0]-7-十一碳烯、1,8-二氮雜二環(huán)[5.4.0]-7-十一碳烯等。作為氫氧化季銨，可列舉出例如四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四正丁基氫氧化銨、四正己基氫氧化銨等。作為羧酸的季銨鹽，可列舉出例如乙酸四甲基銨、苯甲酸四甲基銨、乙酸四正丁基銨、苯甲酸四正丁基銨等。本發(fā)明中可以使用的堿性化合物可以單獨(dú)使用1種，也可以將2種以上并用。當(dāng)本發(fā)明的感光性組合物含有堿性化合物時(shí)，堿性化合物的含量相對(duì)于感光性組合物中的全部固體成分100質(zhì)量份，優(yōu)選為0.001～3質(zhì)量份，更優(yōu)選為0.005～1質(zhì)量份。堿性化合物可以單獨(dú)使用1種，也可以將2種以上并用。當(dāng)使用2種以上時(shí)，優(yōu)選其合計(jì)量成為上述范圍。<無(wú)機(jī)粒子>本發(fā)明的感光性組合物從調(diào)整折射率等觀點(diǎn)出發(fā)，可以含有無(wú)機(jī)粒子。作為無(wú)機(jī)粒子，由于透明性高且具有透光性，所以優(yōu)選無(wú)機(jī)氧化物粒子，更優(yōu)選金屬氧化物粒子。作為透光性且折射率高的無(wú)機(jī)氧化物粒子，優(yōu)選包含Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Bi、Te等原子的氧化物粒子，更優(yōu)選氧化鈦、氧化鋅、氧化鋯、銦/錫氧化物、或銻/錫氧化物，進(jìn)一步優(yōu)選為氧化鈦粒子、或氧化鋯，特別優(yōu)選為氧化鈦，最優(yōu)選為二氧化鈦。作為二氧化鈦，特別優(yōu)選折射率高的金紅石型。這些無(wú)機(jī)粒子為了賦予分散穩(wěn)定性，也可以將表面用有機(jī)材料進(jìn)行處理。另外，本發(fā)明中的金屬氧化物粒子的金屬中，也可以包含B、Si、Ge、As、Sb、Te等半金屬。無(wú)機(jī)粒子的平均一次粒徑優(yōu)選為1～200nm，更優(yōu)選為2～100nm，進(jìn)一步優(yōu)選為1～60nm，特別優(yōu)選為5～50nm。若為上述范圍，則粒子的分散性優(yōu)異，此外，可以得到為高折射率、且透明性更優(yōu)異的固化物。無(wú)機(jī)粒子的平均一次粒徑可以利用透射型電子顯微鏡觀察無(wú)機(jī)粒子，由得到的照片求出。具體而言，求出無(wú)機(jī)粒子的投影面積，將與其對(duì)應(yīng)的當(dāng)量圓直徑作為無(wú)機(jī)粒子的平均一次粒徑。另外，本發(fā)明中的平均一次粒徑設(shè)定為對(duì)300個(gè)無(wú)機(jī)粒子求出的當(dāng)量圓直徑的算術(shù)平均值。對(duì)于無(wú)機(jī)粒子的形狀，沒(méi)有特別限制。例如可以為米粒狀、球形狀、立方體狀、紡錘形狀或不定形狀。無(wú)機(jī)粒子的平均長(zhǎng)寬比(長(zhǎng)邊/短邊)優(yōu)選為1～5，更優(yōu)選為1～4.5，進(jìn)一步優(yōu)選為1～4，特別優(yōu)選為1～3。無(wú)機(jī)粒子的平均長(zhǎng)寬比通過(guò)以下的方法來(lái)測(cè)定。即，將測(cè)定300個(gè)利用透射型電子顯微鏡(TEM)拍攝的粒子圖像的長(zhǎng)寬比(長(zhǎng)邊/短邊)而得到的平均值作為平均長(zhǎng)寬比。作為無(wú)機(jī)粒子的折射率，沒(méi)有特別限制，但從得到高折射率的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為1.70～2.70，進(jìn)一步優(yōu)選為1.90～2.70。無(wú)機(jī)粒子的比表面積優(yōu)選為10～400m2/g，進(jìn)一步優(yōu)選為20～200m2/g，最優(yōu)選為30～150m2/g。無(wú)機(jī)粒子也可以是利用有機(jī)化合物進(jìn)行了表面處理的無(wú)機(jī)粒子。用于表面處理的有機(jī)化合物的例子中，包含多元醇、鏈烷醇胺、硬脂酸、硅烷偶聯(lián)劑及鈦酸酯偶聯(lián)劑。其中，優(yōu)選硬脂酸。表面處理可以是1種單獨(dú)的表面處理劑，也可以將2種以上的表面處理劑組合而實(shí)施。此外，無(wú)機(jī)粒子的表面還優(yōu)選利用鋁、硅、氧化鋯等氧化物覆蓋。由此，耐氣候性更加提高。作為本發(fā)明中的無(wú)機(jī)粒子，可以優(yōu)選使用市售品。具體而言，可列舉出例如作為氧化鈦粒子的石原產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制TTO系列(TTO-51(A)、TTO-51(C)等)、TTO-S、V系列(TTO-S-1、TTO-S-2、TTO-V-3等)、TAYCA株式會(huì)社制MT系列(MT-01、MT-05等)、作為氧化錫-氧化鈦復(fù)合粒子的optLakeTR-502、optLakeTR-504、作為氧化硅-氧化鈦復(fù)合粒子的optLakeTR-503、optLakeTR-513、optLakeTR-520、optLakeTR-521、optLakeTR-527、氧化鋯粒子(株式會(huì)社高純度化學(xué)研究所制)、氧化錫-氧化鋯復(fù)合粒子(日揮催化劑化成工業(yè)株式會(huì)社制)、作為氧化鈮粒子的BairaruNb-X10(多木化學(xué)株式會(huì)社制)等。無(wú)機(jī)粒子優(yōu)選以在樹(shù)脂(分散劑)及溶劑的存在下分散而成的分散液的狀態(tài)，與感光性組合物的其它成分混合使用。作為用于調(diào)制分散液的樹(shù)脂，可以參考日本特開(kāi)2014-108986號(hào)公報(bào)的段落0038～0118的記載，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。例如可列舉出DISPERBYK-111(BYK-ChemieJapan株式會(huì)社制)等。此外，作為溶劑，可列舉出上述的本發(fā)明的感光性組合物的成分中說(shuō)明的溶劑。本發(fā)明的感光性組合物中的無(wú)機(jī)粒子的含量相對(duì)于感光性組合物的全部固體成分，優(yōu)選為10～80質(zhì)量。下限更優(yōu)選為20質(zhì)量％以上，進(jìn)一步優(yōu)選為30質(zhì)量％以上。上限更優(yōu)選為70質(zhì)量％以下。<抗氧化劑>本發(fā)明的感光性組合物也可以含有抗氧化劑。作為抗氧化劑，可以含有公知的抗氧化劑。通過(guò)添加抗氧化劑，具有能夠防止固化膜的著色、或能夠減少由分解引起的膜厚減少、此外耐熱透明性優(yōu)異這樣的優(yōu)點(diǎn)。作為抗氧化劑，可列舉出例如磷系抗氧化劑、酰胺類、酰肼類、受阻胺系抗氧化劑、硫系抗氧化劑、酚系抗氧化劑、抗壞血酸類、硫酸鋅、糖類、亞硝酸鹽、亞硫酸鹽、硫代硫酸鹽、羥基胺衍生物等。它們中，從固化膜的著色、膜厚減少的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選酚系抗氧化劑、受阻胺系抗氧化劑、磷系抗氧化劑、酰胺系抗氧化劑、酰肼系抗氧化劑、硫系抗氧化劑，最優(yōu)選為酚系抗氧化劑。它們可以單獨(dú)使用1種，也可以將2種以上混合。作為具體例子，可列舉出日本特開(kāi)2005-29515號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0026～0031中記載的化合物、日本特開(kāi)2011-227106號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0106～0116中記載的化合物，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。作為優(yōu)選的市售品，可列舉出AdekastabAO-20、AdekastabAO-60、AdekastabAO-80、AdekastabLA-52、AdekastabLA-81、AdekastabAO-412S、AdekastabPEP-36(以上為株式會(huì)社ADEKA制)、Irganox1035、Irganox1098、Tinuvin144(以上為BASF制)。抗氧化劑的含量相對(duì)于感光性組合物的全部固體成分，優(yōu)選為0.1～10質(zhì)量％，更優(yōu)選為0.2～5質(zhì)量％，特別優(yōu)選為0.5～4質(zhì)量％。通過(guò)設(shè)定為該范圍，容易形成透明性優(yōu)異的膜。進(jìn)而，圖案形成時(shí)的感度也變得良好。<其它成分>本發(fā)明的感光性組合物可以根據(jù)需要分別獨(dú)立地加入1種或2種以上的敏化劑(例如9，10-二丁氧基蒽等)、熱自由基產(chǎn)生劑、熱酸產(chǎn)生劑、酸增殖劑、顯影促進(jìn)劑、紫外線吸收劑、增粘劑、有機(jī)或無(wú)機(jī)的沉淀防止劑等公知的添加劑。此外，作為添加劑，也可以使用偏苯三酸。此外，可以進(jìn)一步包含除上述化合物S以外的表面活性劑。作為這些化合物，可以使用例如日本特開(kāi)2012-88459號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0201～0224中記載的化合物、日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)中記載的化合物，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。此外，還可以使用日本特開(kāi)2012-8223號(hào)公報(bào)的段落號(hào)0120～0121中記載的熱自由基產(chǎn)生劑、WO2011/136074A1中記載的含氮化合物及熱酸產(chǎn)生劑，這些內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。<感光性組合物的調(diào)制方法>本發(fā)明的感光性組合物可以將各成分以規(guī)定的比例且通過(guò)任意的方法混合，攪拌溶解而調(diào)制。例如，也可以將各成分分別預(yù)先溶解于溶劑中制成溶液后，將它們以規(guī)定的比例混合而調(diào)制本發(fā)明的感光性組合物。像以上那樣調(diào)制的組合物溶液也可以使用例如孔徑為0.2μm的過(guò)濾器等過(guò)濾后使用。<固化膜的制造方法>本發(fā)明的固化膜的制造方法優(yōu)選包括以下的(1)～(5)的工序。(1)將本發(fā)明的感光性組合物涂布到基板上的工序；(2)從涂布的感光性組合物中除去溶劑的工序；(3)將除去了溶劑的感光性組合物利用活性光線進(jìn)行曝光的工序；(4)將曝光后的感光性組合物利用顯影液進(jìn)行顯影的工序、(5)將顯影后的感光性組合物進(jìn)行熱固化(后烘烤)的工序。以下依次對(duì)各工序進(jìn)行說(shuō)明。在(1)的工序中，優(yōu)選將本發(fā)明的感光性組合物涂布到基板上而形成包含溶劑的濕潤(rùn)膜(感光性組合物層)。在(1)的工序中，在基板上涂布感光性組合物之前，也可以對(duì)基板進(jìn)行堿洗滌或等離子體洗滌等洗滌。此外，也可以對(duì)洗滌后的基板以六甲基二硅氮烷等對(duì)基板表面進(jìn)行處理。作為以六甲基二硅氮烷對(duì)基板表面進(jìn)行處理的方法，沒(méi)有特別限定，但可列舉出例如將基板暴露在六甲基二硅氮烷蒸氣中的方法等。作為基板，可列舉出無(wú)機(jī)基板、樹(shù)脂基板、樹(shù)脂復(fù)合材料基板等。作為無(wú)機(jī)基板，可列舉出例如玻璃基板、石英基板、硅基板、氮化硅基板(SiNx基板，其中，x為1～1.3)、及在這些基板上蒸鍍有鉬、鈦、鋁、銅等的復(fù)合基板、鉬基板、鈦基板、鋁基板、銅基板等金屬基板。作為樹(shù)脂基板，可以使用日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0192中記載的樹(shù)脂基板。感光性組合物向基板上的涂布方法沒(méi)有特別限定，可以使用例如狹縫涂布法、噴霧法、輥涂法、旋轉(zhuǎn)涂布法、流延涂布法、狹縫及旋轉(zhuǎn)法等方法。將感光性組合物涂布時(shí)的膜厚沒(méi)有特別限定，可以以與用途相對(duì)應(yīng)的膜厚來(lái)進(jìn)行涂布。例如優(yōu)選為0.5～10μm。也可以在基板上涂布本發(fā)明的感光性組合物之前，應(yīng)用日本特開(kāi)2009-145395號(hào)公報(bào)中記載的那樣的所謂預(yù)濕法。在(2)的工序中，從涂布感光性組合物而形成的上述的濕潤(rùn)膜中，通過(guò)減壓(真空)和/或加熱等將溶劑除去而在基板上形成干燥膜。加熱條件優(yōu)選為在70～130℃下進(jìn)行30～300秒鐘左右。溫度和時(shí)間為上述范圍時(shí)，存在圖案的密合性更良好、且也可以進(jìn)一步減少殘?jiān)膬A向。在(3)的工序中，對(duì)除去了溶劑的感光性組合物(干燥膜)照射規(guī)定的圖案的活性光線。在該工序中，在曝光部中，生成羧基或酚性羥基等酸基，曝光部在顯影液中的溶解性提高。即，在包含含有具有酸基被酸分解性基團(tuán)保護(hù)的基團(tuán)的構(gòu)成單元的聚合物成分和光酸產(chǎn)生劑的方式中，通過(guò)活性光線的照射，光酸產(chǎn)生劑分解而產(chǎn)生酸。進(jìn)而，通過(guò)產(chǎn)生的酸的催化作用，涂膜成分中包含的酸分解性基團(tuán)被水解，生成羧基或酚性羥基等酸基。作為活性光線的光源，可以使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學(xué)燈、發(fā)光二極管(LED)光源、準(zhǔn)分子激光產(chǎn)生裝置等，可優(yōu)選使用i射線(365nm)、h射線(405nm)、g射線(436nm)等具有波長(zhǎng)為300nm以上且450nm以下的波長(zhǎng)的活性光線。此外，根據(jù)需要也可以通過(guò)長(zhǎng)波長(zhǎng)截止濾波器、短波長(zhǎng)截止濾波器、帶通濾波器那樣的分光濾波器來(lái)調(diào)整照射光。曝光量?jī)?yōu)選為1～500mJ/cm2。作為曝光裝置，可以使用鏡面投影對(duì)準(zhǔn)曝光器、步進(jìn)機(jī)、掃描器、近接式、接觸式、微透鏡陣列、透鏡掃描器、激光曝光等各種方式的曝光機(jī)。此外，也可以進(jìn)行使用了所謂的超分辨技術(shù)的曝光。作為超分辨技術(shù)，可列舉出進(jìn)行多次曝光的多重曝光、或使用相位轉(zhuǎn)移掩模的方法、環(huán)帶照明法等。通過(guò)使用這些超分辨技術(shù)能夠形成更高精細(xì)的圖案，從而優(yōu)選。在(4)的工序中，使用顯影液對(duì)具有游離的羧基或酚性羥基的共聚物進(jìn)行顯影。通過(guò)將具有容易溶解于顯影液中的羧基和/或酚性羥基的曝光部區(qū)域除去，形成正型圖像。在顯影工序中使用的顯影液中，優(yōu)選包含堿性化合物的水溶液。作為堿性化合物，可以使用日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)的段落200中記載的化合物。它們中，優(yōu)選氫氧化鈉、氫氧化鉀、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、膽堿(2-羥基乙基三甲基氫氧化銨)。此外，也可以將在上述堿類的水溶液中添加適量甲醇或乙醇等水溶性有機(jī)溶劑或表面活性劑而得到的水溶液作為顯影液使用。顯影液的pH優(yōu)選為10.0～14.0。顯影時(shí)間優(yōu)選為30～500秒鐘，此外，顯影的方法可以為水坑法(旋覆浸沒(méi)法)、噴淋法、浸漬法等中的任一種。在顯影后，也可以進(jìn)行淋洗工序。在淋洗工序中，通過(guò)將顯影后的基板用純水等清洗，進(jìn)行所附著的顯影液的除去、顯影殘?jiān)某ァＡ芟捶椒梢允褂霉姆椒?。可列舉出例如噴淋淋洗或浸漬淋洗等。在(5)的工序中，通過(guò)將所得到的正型圖像進(jìn)行加熱，使酸分解性基團(tuán)熱分解而生成羧基或酚性羥基，與交聯(lián)性基團(tuán)、交聯(lián)劑等交聯(lián)，由此可以形成固化膜。該加熱優(yōu)選使用熱板或烘箱等加熱裝置，在規(guī)定的溫度、例如180～250℃下，進(jìn)行規(guī)定時(shí)間的加熱處理，例如若為熱板則5～90分鐘，若為烘箱則30～120分鐘。通過(guò)像這樣進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)，能夠形成耐熱性、硬度等更優(yōu)異的保護(hù)膜或?qū)娱g絕緣膜。此外，在進(jìn)行加熱處理時(shí)，也可以通過(guò)在氮?dú)夥障逻M(jìn)行來(lái)進(jìn)一步提高透明性。在后烘烤前，也可以在較低溫度下進(jìn)行烘烤后進(jìn)行后烘烤(追加中間烘烤工序)。此外，在后烘烤之前，對(duì)形成有圖案的基板通過(guò)活性光線進(jìn)行全面再曝光(后曝光)后，進(jìn)行后烘烤，由此可以從存在于未曝光部分中的光酸產(chǎn)生劑產(chǎn)生酸，作為促進(jìn)交聯(lián)的催化劑發(fā)揮功能。作為進(jìn)行中間烘烤工序及后曝光工序時(shí)的條件，可以采用日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落201中記載的條件。由本發(fā)明的感光性組合物得到的固化膜也可以作為干式蝕刻抗蝕劑使用。在將通過(guò)后烘烤工序進(jìn)行熱固化所得到的固化膜作為干式蝕刻抗蝕劑使用時(shí)，作為蝕刻處理，可以進(jìn)行灰化、等離子體蝕刻、臭氧蝕刻等干式蝕刻處理。<固化膜>本發(fā)明的固化膜為將上述的本發(fā)明的感光性組合物固化而得到的固化膜。本發(fā)明的固化膜可以作為層間絕緣膜適當(dāng)使用。本發(fā)明的固化膜與上層的密合性優(yōu)異。因此，適于在基板上通過(guò)上述的(1)～(5)的方法形成規(guī)定的圖案的固化膜后，在該固化膜上進(jìn)一步涂布本發(fā)明的感光性組合物，通過(guò)上述的(1)～(5)的方法重疊形成規(guī)定的圖案的固化膜。通過(guò)像這樣將本發(fā)明的感光性組合物層疊而形成圖案，能夠形成更復(fù)雜的圖案(例如有凹凸的圖案)。另外，也可以將(1)～(5)的工序反復(fù)進(jìn)行3次以上而形成進(jìn)一步復(fù)雜的圖案。通過(guò)將層間絕緣膜制成這樣的層疊結(jié)構(gòu)體，能夠達(dá)成開(kāi)口率提高、各種功能復(fù)合化等。本發(fā)明的固化膜對(duì)于液晶顯示裝置、有機(jī)EL顯示裝置等圖像顯示裝置、或觸摸面板等輸入裝置等用途是有用的。可列舉出例如日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0207～0208中記載的液晶顯示裝置、日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0209中記載的有機(jī)EL顯示裝置、日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落0212～0223中記載的觸摸面板顯示裝置、日本特開(kāi)2014-238438號(hào)公報(bào)段落210中記載的用途等。本發(fā)明的感光性組合物也可以用于形成例如日本特開(kāi)2011-107476號(hào)公報(bào)的圖2中記載的堤岸層(16)及平坦化膜(57)、日本特開(kāi)2010-9793號(hào)公報(bào)的圖4(a)中記載的隔斷壁(12)及平坦化膜(102)、日本特開(kāi)2010-27591號(hào)公報(bào)的圖10中記載的堤岸層(221)及第3層間絕緣膜(216b)、日本特開(kāi)2009-128577號(hào)公報(bào)的圖4(a)中記載的第2層間絕緣膜(125)及第3層間絕緣膜(126)、日本特開(kāi)2010-182638號(hào)公報(bào)的圖3中記載的平坦化膜(12)及像素分離絕緣膜(14)、日本特開(kāi)2012-203121號(hào)公報(bào)的圖1中記載的像素分離膜(19)或平坦化膜(17)、日本特開(kāi)2013-196919號(hào)公報(bào)的圖1中記載的高電阻層(18)、像素間絕緣膜(16)、層間絕緣膜(14)、層間絕緣膜(12c)等。此外，也可以適當(dāng)用于液晶顯示裝置中的用于將液晶層的厚度保持恒定的間隔物、或者傳真機(jī)、電子復(fù)印機(jī)、固體拍攝元件等的片上濾色器的成像光學(xué)系統(tǒng)或光纖連接器的微透鏡。<液晶顯示裝置及其制造方法>本發(fā)明的液晶顯示裝置具有本發(fā)明的固化膜。此外，本發(fā)明的液晶顯示裝置的制造方法包含本發(fā)明的固化膜的制造方法。作為本發(fā)明的液晶顯示裝置，除了具有使用本發(fā)明的感光性組合物而形成的平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，沒(méi)有特別限制，可列舉出采取各種結(jié)構(gòu)的公知的液晶顯示裝置。例如，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置所具備的TFT(thinfilmtransistor)的具體例子，可列舉出非晶硅、低溫多晶硅、氧化物半導(dǎo)體等。作為氧化物半導(dǎo)體，可例示出所謂IGZO(由銦、鎵、鋅、氧構(gòu)成的半導(dǎo)體)。本發(fā)明的固化膜由于電特性優(yōu)異，所以可以與這些TFT組合而優(yōu)選使用。此外，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置可采取的液晶驅(qū)動(dòng)方式，可列舉出TN(TwistedNematic，扭曲向列)方式、VA(VerticalAlignment，垂直取向)方式、IPS(In-Plane-Switching，面內(nèi)切換)方式、FFS(FringeFieldSwitching，邊緣場(chǎng)切換)方式、OCB(OpticalCompensatedBend，光學(xué)補(bǔ)償彎曲)方式等。在面板構(gòu)成中，在COA(ColorFilteronArray，彩色濾光陣列)方式的液晶顯示裝置中也可以使用本發(fā)明的固化膜，例如可用作日本特開(kāi)2005-284291的有機(jī)絕緣膜(115)、或日本特開(kāi)2005-346054的有機(jī)絕緣膜(212)。此外，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置可采取的液晶取向膜的具體的取向方式，可列舉出摩擦取向法、光取向法等。此外，也可以通過(guò)日本特開(kāi)2003-149647號(hào)公報(bào)或日本特開(kāi)2011-257734號(hào)公報(bào)中記載的PSA(PolymerSustainedAlignment，聚合物穩(wěn)定取向)技術(shù)來(lái)進(jìn)行聚合物取向支持。此外，本發(fā)明的感光性組合物及本發(fā)明的固化膜并不限定于上述用途，可以用于各種用途中。例如，除了平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，也可以適當(dāng)用于濾色器的保護(hù)膜、或液晶顯示裝置中的用于將液晶層的厚度保持恒定的間隔物或在固體拍攝元件中設(shè)置于濾色器上的微透鏡等。圖1是表示有源矩陣方式的液晶顯示裝置10的一個(gè)例子的概念性剖面圖。該液晶顯示裝置10是在背面具有背光源單元12的液晶面板，液晶面板配置有與在貼附有偏振膜的兩塊玻璃基板14、15之間配置的全部的像素對(duì)應(yīng)的TFT16的元件。在形成于玻璃基板上的各元件上，通過(guò)固化膜17中形成的接觸孔18，布線有形成像素電極的ITO(IndiumTinOxide)透明電極19。在ITO透明電極19上，設(shè)置有液晶20的層和配置有黑色矩陣的濾色器22。作為背光源的光源，沒(méi)有特別限定，可以使用公知的光源。例如，可列舉出白色發(fā)光二極管(LED)、藍(lán)色·紅色·綠色等多色LED、熒光燈(冷陰極管)、有機(jī)電致發(fā)光(有機(jī)EL)等。此外，液晶顯示裝置可以制成3D(立體視)型的液晶顯示裝置、或者觸摸面板型的液晶顯示裝置。進(jìn)而也可以制成柔性型，可以作為日本特開(kāi)2011-145686號(hào)公報(bào)中記載的第2層間絕緣膜(48)、或日本特開(kāi)2009-258758號(hào)公報(bào)中記載的層間絕緣膜(520)、日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的有機(jī)絕緣膜(PAS)使用。進(jìn)而，即使是靜態(tài)驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置，通過(guò)適用本發(fā)明也能夠顯示設(shè)計(jì)性高的圖案。作為例子，作為日本特開(kāi)2001-125086號(hào)公報(bào)中記載的那樣的聚合物網(wǎng)絡(luò)型液晶的絕緣膜可以適用本發(fā)明。對(duì)于日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的液晶顯示裝置，使用圖2進(jìn)行說(shuō)明。圖2中，符號(hào)SUB1為玻璃基板，具有多個(gè)掃描信號(hào)線和與多個(gè)掃描信號(hào)線交叉的多個(gè)影像信號(hào)線。在各交點(diǎn)附近，具有TFT。在玻璃基板SUB1上，從下方起依次形成基底膜UC、半導(dǎo)體膜PS、門絕緣膜GI、TFT的門電極GT、第1層間絕緣膜IN1。在第1層間絕緣膜IN1上，形成有TFT的漏電極SD1和TFT的源電極SD2。漏電極SD1介由形成于門絕緣膜GI及第1層間絕緣膜IN1中的接觸孔與TFT的漏極區(qū)域連接。源電極SD2介由形成于門絕緣膜GI及第1層間絕緣膜IN1中的接觸孔與TFT的源區(qū)域連接。在漏電極SD1及源電極SD2上，形成有第2層間絕緣膜IN2。在第2層間絕緣膜IN2上，形成有有機(jī)絕緣膜PAS。有機(jī)絕緣膜PAS可以使用本發(fā)明的感光性組合物而形成。在有機(jī)絕緣膜PAS上，形成有對(duì)置電極CT及反射膜RAL。在對(duì)置電極CT及反射膜RAL上，形成有第3層間絕緣膜IN3。在第3層間絕緣膜IN3上，形成有像素電極PX。像素電極PX介由形成于第2層間絕緣膜IN2及第3層間絕緣膜IN3中的接觸孔與TFT的源電極SD2連接。另外，第1層間絕緣膜IN1、第2層間絕緣膜IN2、第3層間絕緣膜IN3也可以使用本發(fā)明的感光性組合物而形成。關(guān)于圖2中所示的液晶顯示裝置的詳細(xì)情況，可以參考日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的記載，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。<有機(jī)電致發(fā)光顯示裝置及其制造方法>本發(fā)明的有機(jī)電致發(fā)光(有機(jī)EL)顯示裝置具有本發(fā)明的固化膜。此外，本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置的制造方法包含本發(fā)明的固化膜的制造方法。作為本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置，除了具有使用本發(fā)明的感光性組合物而形成的平坦化膜或?qū)娱g絕緣膜以外，沒(méi)有特別限制，可列舉出采取各種結(jié)構(gòu)的公知的各種有機(jī)EL顯示裝置或液晶顯示裝置。例如，作為本發(fā)明的有機(jī)EL顯示裝置所具備的TFT的具體例子，可列舉出由非晶硅、低溫多晶硅、氧化物半導(dǎo)體等構(gòu)成的TFT。圖3是有機(jī)EL顯示裝置的一個(gè)例子的構(gòu)成概念圖。表示底部發(fā)光型的有機(jī)EL顯示裝置中的基板的示意性剖面圖，具有平坦化膜4。在玻璃基板6上形成底柵型的TFT1，以覆蓋TFT1的狀態(tài)形成有由Si3N4構(gòu)成的絕緣膜3。在絕緣膜3中形成這里省略了圖示的接觸孔后，在絕緣膜3上形成介由該接觸孔與TFT1連接的布線2(高度為1.0μm)。布線2是用于將TFT1間、或通過(guò)后面的工序形成的有機(jī)EL元件與TFT1連接的布線。進(jìn)而，為了將因布線2的形成而產(chǎn)生的凹凸平坦化，以將因布線2而產(chǎn)生的凹凸填埋的狀態(tài)在絕緣膜3上形成平坦化膜4。在平坦化膜4上形成有底部發(fā)光型的有機(jī)EL元件。即，在平坦化膜4上，由ITO構(gòu)成的第一電極5介由接觸孔7與布線2連接而形成。此外，第一電極5相當(dāng)于有機(jī)EL元件的陽(yáng)極。形成有將第一電極5的周緣覆蓋的形狀的絕緣膜8，通過(guò)設(shè)置該絕緣膜8，能夠防止第一電極5與通過(guò)其后的工序形成的第二電極之間的短路。進(jìn)而，雖然在圖3中沒(méi)有圖示，但介由所期望的圖案掩模，依次蒸鍍而設(shè)置空穴輸送層、有機(jī)發(fā)光層、電子輸送層，接著，在基板上方的整面上形成由Al構(gòu)成的第二電極，通過(guò)使用密封用玻璃板和紫外線固化型環(huán)氧樹(shù)脂進(jìn)行貼合而密封，可得到在各有機(jī)EL元件上連接有用于驅(qū)動(dòng)其的TFT1而成的有源矩陣型的有機(jī)EL顯示裝置。作為有機(jī)EL顯示裝置的其它方式，可以將日本特開(kāi)2012-203121號(hào)公報(bào)的圖1中記載的像素分離膜(19)或平坦化膜(17)使用本發(fā)明的感光性組合物來(lái)形成。此外，可以將日本特開(kāi)2013-196919號(hào)公報(bào)的圖1中記載的高電阻層(18)或像素間絕緣膜(16)或?qū)娱g絕緣膜(14)或?qū)娱g絕緣膜(12c)使用本發(fā)明的感光性組合物來(lái)形成。本發(fā)明的感光性組合物也可以用于MEMS(MicroElectroMechanicalSystems，微機(jī)電系統(tǒng))設(shè)備的隔斷壁的形成。作為MEMS設(shè)備，可列舉出例如SAW(SurfaceAcousticWave、表面聲波)濾波器、BAW(BulkAcousticWave、聲體波)濾波器、陀螺儀傳感器、顯示器用微快門、圖像傳感器、電子紙、噴墨頭、生物芯片、密封劑等部件。更具體的例子例示于日本特表2007-522531、日本特開(kāi)2008-250200、日本特開(kāi)2009-263544等中。本發(fā)明的感光性組合物也可以用于形成例如日本特開(kāi)2011-107476號(hào)公報(bào)的圖2中記載的堤岸層(16)及平坦化膜(57)、日本特開(kāi)2010-9793號(hào)公報(bào)的圖4(a)中記載的隔斷壁(12)及平坦化膜(102)、日本特開(kāi)2010-27591號(hào)公報(bào)的圖10中記載的堤岸層(221)及第3層間絕緣膜(216b)、日本特開(kāi)2009-128577號(hào)公報(bào)的圖4(a)中記載的第2層間絕緣膜(125)及第3層間絕緣膜(126)、日本特開(kāi)2010-182638號(hào)公報(bào)的圖3中記載的平坦化膜(12)及像素分離絕緣膜(14)等。此外，也可以適當(dāng)用于液晶顯示裝置中的用于將液晶層的厚度保持恒定的間隔物、或者傳真機(jī)、電子復(fù)印機(jī)、固體拍攝元件等的片上濾色器的成像光學(xué)系統(tǒng)或光纖連接器的微透鏡。<觸摸面板、觸摸面板顯示裝置及其制造方法>本發(fā)明的觸摸面板為絕緣層和/或保護(hù)層的全部或一部分由本發(fā)明的感光性組合物的固化物構(gòu)成的觸摸面板。此外，本發(fā)明的觸摸面板優(yōu)選至少具有透明基板、電極及絕緣層和/或保護(hù)層。此外，本發(fā)明的觸摸面板及觸摸面板顯示裝置的制造方法包含本發(fā)明的固化膜的制造方法。本發(fā)明的觸摸面板顯示裝置優(yōu)選為具有本發(fā)明的觸摸面板的觸摸面板顯示裝置。作為本發(fā)明的觸摸面板，可以是電阻膜方式、靜電容量方式、超聲波方式、電磁感應(yīng)方式等公知的方式均可。其中，優(yōu)選靜電容量方式。此外，本發(fā)明的觸摸面板顯示裝置也可以是觸摸面板或顯示裝置的絕緣層和/或保護(hù)層的全部或一部分由本發(fā)明的感光性組合物的固化物構(gòu)成的觸摸面板顯示裝置。作為靜電容量方式的觸摸面板，可列舉出日本特開(kāi)2010-28115號(hào)公報(bào)中公開(kāi)的觸摸面板、或國(guó)際公開(kāi)第2012/057165號(hào)中公開(kāi)的觸摸面板。作為觸摸面板顯示裝置，可列舉出所謂的內(nèi)嵌型(例如日本特表2012-517051號(hào)公報(bào)的圖5、圖6、圖7、圖8)、所謂的外嵌型(例如國(guó)際公開(kāi)第2012/141148號(hào)的圖2(b)、日本特開(kāi)2013-168125號(hào)公報(bào)的圖19)、OGS(OneGlassSolution)型、TOL(TouchonLens)型、其它構(gòu)成(例如日本特開(kāi)2013-164871號(hào)公報(bào)的圖6、WO2013/141056號(hào)公報(bào)的圖1、日本專利5673782號(hào)公報(bào)的圖2)、各種外掛型(所謂的GG方式、G1方式·G2方式、GFF方式、GF2方式、GF1方式、G1F方式等)。靜電容量方式的觸摸面板具有正面板和位于正面板的非接觸側(cè)的至少下述(1)～(5)的要素，(4)的絕緣層優(yōu)選為使用了本發(fā)明的感光性組合物的固化膜。(1)框架層(2)多個(gè)焊盤(パッド)部分介由連接部分沿第一方向延伸而形成的多個(gè)第一透明電極圖案(3)與第一透明電極圖案電絕緣、且由沿與第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)焊盤部分構(gòu)成的多個(gè)第二透明電極圖案(4)將第一透明電極圖案與第二透明電極圖案電絕緣的絕緣層(5)與第一透明電極圖案及第二透明電極圖案中的至少一個(gè)電連接、且不同于第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的其它導(dǎo)電性要素本發(fā)明的觸摸面板優(yōu)選進(jìn)一步按照覆蓋上述(1)～(5)的要素的全部或一部分的方式設(shè)置透明保護(hù)層，透明保護(hù)層更優(yōu)選為本發(fā)明的固化膜。首先，對(duì)靜電容量方式的觸摸面板的構(gòu)成進(jìn)行說(shuō)明。圖4是表示靜電容量方式的觸摸面板的構(gòu)成例的剖面圖。圖4中靜電容量方式的觸摸面板30由正面板31、框架層32、第一透明電極圖案33、第二透明電極圖案34、絕緣層35、導(dǎo)電性要素36、和透明保護(hù)層37構(gòu)成。正面板31由玻璃基板等透明基板構(gòu)成，可以使用以Corning公司的Gorilla玻璃為代表的強(qiáng)化玻璃等。另外，作為透明基板，優(yōu)選可列舉出玻璃基板、石英基板、透明樹(shù)脂基板等。此外，圖4中，將正面板31的設(shè)置有各要素的一側(cè)稱為非接觸面。在靜電容量方式的觸摸面板30中，在正面板31的接觸面(非接觸面的相反的面)上接觸手指等而進(jìn)行輸入。以下，有時(shí)將正面板稱為“基材”。此外，在正面板31的非接觸面上設(shè)置有框架層32?？蚣軐?2是形成于觸摸面板正面板的非接觸側(cè)的顯示區(qū)域周圍的框架狀的圖案，是為了看不見(jiàn)引回布線等而形成的。在靜電容量方式的觸摸面板上，可以如圖5中所示的那樣，按照覆蓋正面板31的一部分區(qū)域(圖5中為除輸入面以外的區(qū)域)的方式設(shè)置框架層32。進(jìn)而，在正面板31上，可以如圖5中所示的那樣在一部分中設(shè)置開(kāi)口部38。在開(kāi)口部38中，可以設(shè)置利用按壓的機(jī)械性的開(kāi)關(guān)。如圖6中所示的那樣，在正面板31的接觸面上，形成有多個(gè)焊盤部分介由連接部分沿第一方向延伸而形成的多個(gè)第一透明電極圖案33、與第一透明電極圖案33電絕緣且由沿與第一方向交叉的方向延伸而形成的多個(gè)焊盤部分構(gòu)成的多個(gè)第二透明電極圖案34、和將第一透明電極圖案33與第二透明電極圖案34電絕緣的絕緣層35。第一透明電極圖案33、第二透明電極圖案34、后述的導(dǎo)電性要素36可以由例如金屬膜制作。作為這樣的金屬膜，可列舉出ITO(IndiumTinOxide)膜；IZO(IndiumZincOxide)膜；Al、Cu、Ag、Ti、Mo、它們的合金等金屬膜；SiO2等金屬氧化膜等。此時(shí)，各要素的膜厚可以設(shè)定為10～200nm。此外，也可以通過(guò)燒成使非晶的ITO膜向多晶的ITO膜進(jìn)行結(jié)晶化，降低電阻。此外，第一透明電極圖案33、第二透明電極圖案34和后述的導(dǎo)電性要素36也可以使用含有使用了導(dǎo)電性纖維的感光性組合物的感光性轉(zhuǎn)印材料來(lái)制造。此外，在通過(guò)ITO等來(lái)形成第一導(dǎo)電性圖案等的情況下，可以參考日本專利第4506785號(hào)公報(bào)的段落0014～0016等，其內(nèi)容被納入本說(shuō)明書中。此外，第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34中的至少一個(gè)可以跨越正面板31的非接觸面及框架層32的與正面板31相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置。圖4中，示出第二透明電極圖案34跨越正面板31的非接觸面及框架層32的與正面板31相反側(cè)的面的兩個(gè)區(qū)域而設(shè)置的圖。使用圖6對(duì)第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34進(jìn)行說(shuō)明。圖6是表示第一透明電極圖案及第二透明電極圖案的一個(gè)例子的說(shuō)明圖。如圖6中所示的那樣，第一透明電極圖案33是焊盤部分33a介由連接部分33b沿第一方向延伸而形成的。此外，第二透明電極圖案34與第一透明電極圖案33通過(guò)絕緣層35而電絕緣，且通過(guò)沿與第一方向交叉的方向(圖6中的第二方向)延伸而形成的多個(gè)焊盤部分而構(gòu)成。其中，在形成第一透明電極圖案33時(shí)，可以將焊盤部分33a與連接部分33b作為一體而制作，也可以僅制作連接部分33b，并將焊盤部分33a與第二透明電極圖案34作為一體而制作(圖案化)。將焊盤部分33a與第二透明電極圖案34作為一體而制作(圖案化)時(shí)，如圖6中所示的那樣按照連接部分33b的一部分與焊盤部分33a的一部分連結(jié)、并且通過(guò)絕緣層35將第一透明電極圖案33與第二透明電極圖案34電絕緣的方式形成各層。圖4中，在框架層32的與正面板31相反側(cè)的面?zhèn)仍O(shè)置有導(dǎo)電性要素36。導(dǎo)電性要素36與第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34中的至少一個(gè)電連接，并且，是不同于第一透明電極圖案33及第二透明電極圖案34的其它要素。圖4中，示出導(dǎo)電性要素36與第二透明電極圖案34連接的圖。此外，圖4中，按照覆蓋各構(gòu)成要素的全部的方式設(shè)置透明保護(hù)層37。透明保護(hù)層37也可以按照僅覆蓋各構(gòu)成要素的一部分的方式構(gòu)成。絕緣層35與透明保護(hù)層37可以為同一材料，也可以為不同的材料。靜電容量方式的觸摸面板及具備靜電容量方式的觸摸面板作為構(gòu)成要素的觸摸面板顯示裝置可以適用“最新觸摸面板技術(shù)”(2009年7月6日發(fā)行TechnoTimesCo.,Ltd.)、三谷雄二監(jiān)修、“觸摸面板的技術(shù)和開(kāi)發(fā)”CMC出版(2004，12)、“FPDInternational2009ForumT-11講演教科書”、“CypressSemiconductorCorporationApplicationNoteAN2292”等中公開(kāi)的構(gòu)成。本發(fā)明的觸摸面板例如可以如下來(lái)制造。即，可以經(jīng)由以下工序來(lái)制造：按照與ITO電極相接的方式，通過(guò)噴墨涂布方式等各種方法涂布本發(fā)明的感光性組合物的工序1；在涂布于上述ITO電極上的感光性組合物上載置具有規(guī)定形狀的開(kāi)口圖案的掩模，進(jìn)行活性能量射線照射而進(jìn)行曝光的工序2；將曝光后的感光性組合物進(jìn)行顯影的工序3；及將顯影后的感光性組合物進(jìn)行加熱的工序4。工序1中，在按照與ITO電極相接的方式涂布感光性組合物時(shí)，只要涂布的本發(fā)明的感光性組合物的至少一部分與ITO電極相接即可。工序2可以與上述的曝光工序同樣地進(jìn)行，優(yōu)選的方式也相同。工序3可以與上述的顯影工序同樣地進(jìn)行，優(yōu)選的方式也相同。工序4可以與上述的后烘烤工序同樣地進(jìn)行，優(yōu)選的方式也相同。此外，作為本發(fā)明的觸摸面板中的ITO電極圖案的一個(gè)例子，優(yōu)選可列舉出上述的圖6中所示的圖案。此外，圖7表示具有觸摸面板的功能的液晶顯示裝置的一個(gè)例子的構(gòu)成概念圖。例如，本發(fā)明的固化膜適宜適用于圖7中的各層之間的保護(hù)膜，此外，還適宜適用于將觸摸面板的檢測(cè)電極間分隔開(kāi)的層間絕緣膜。另外，作為觸摸面板的檢測(cè)電極，優(yōu)選為透明電極(ITO(IndiumTinOxide)及IZO(IndiumZincOxide)等)及金屬電極(銀、銅、鉬、鈦、鋁等、以及它們的層疊體及合金等)、或它們的層疊體。圖7中，110表示像素基板，140表示液晶層，120表示對(duì)置基板，130表示傳感器部。像素基板110從圖7的下側(cè)起依次具有偏振片111、透明基板112、共同電極113、絕緣層114、像素電極115、取向膜116。對(duì)置基板120從圖7的下側(cè)起依次具有取向膜121、濾色器122、透明基板123。傳感器部130分別具有相位差膜124、粘接層126、偏振片127。此外，圖7中，125為傳感器用檢測(cè)電極。本發(fā)明的固化膜可以用于像素基板部分的絕緣層(114)(也稱為層間絕緣膜)、各種保護(hù)膜(未圖示)、像素基板部分的各種保護(hù)膜(未圖示)、對(duì)置基板部分的各種保護(hù)膜(未圖示)、傳感器部分的各種保護(hù)膜(未圖示)等。在粘接層126、偏振片127中，可以使用公知的粘接層組合物。作為偏振片、粘接層的具體例子，可列舉出日本特開(kāi)2014-152319號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例7、實(shí)施例13中記載的帶粘接層的偏振片、日本特開(kāi)2014-191005號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例3及實(shí)施例6中記載的帶粘接層的偏振片、日本特開(kāi)2013-100386號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例3、實(shí)施例6、實(shí)施例11及實(shí)施例14中記載的帶粘接層的偏振片、以及日本特開(kāi)2013-163783號(hào)公報(bào)的實(shí)施例1、實(shí)施例2、實(shí)施例3及實(shí)施例4中記載的粘接層。進(jìn)而，即使是靜態(tài)驅(qū)動(dòng)方式的液晶顯示裝置，通過(guò)適用本發(fā)明也能夠顯示設(shè)計(jì)性高的圖案。作為例子，作為日本特開(kāi)2001-125086號(hào)公報(bào)中記載的那樣的聚合物網(wǎng)絡(luò)型液晶的絕緣膜可以適用本發(fā)明。此外，圖8是具有觸摸面板的功能的液晶顯示裝置的另一個(gè)例子的構(gòu)成概念圖。包含具備薄膜晶體管(TFT)440的相當(dāng)于薄膜晶體管顯示板的下部顯示板200、與下部顯示板200對(duì)置且在與下部顯示板200對(duì)置的面上具備多個(gè)濾色器330的相當(dāng)于濾色器顯示板的上部顯示板300、及形成于下部顯示板200與上部顯示板300之間的液晶層400。液晶層400包含液晶分子(未圖示)。下部顯示板200包含第1絕緣基板210、配置于第1絕緣基板210上的薄膜晶體管(TFT)、形成于薄膜晶體管(TFT)的上表面的絕緣膜280、及配置于絕緣膜280上的像素電極290。薄膜晶體管(TFT)可以包含門電極220、覆蓋門電極220的門絕緣膜240、半導(dǎo)體層250、歐姆接觸層260、262、源電極270、及漏電極272。在絕緣膜280中按照薄膜晶體管(TFT)的漏電極272露出的方式形成有接觸孔282。上部顯示板300包含配置于第2絕緣基板310的一面上且以矩陣狀排列的遮光部件320、配置于第2絕緣基板310上的濾色器330、及配置于遮光部件320及濾色器330上的取向膜350、及配置于取向膜350上且與下部顯示板200的像素電極290對(duì)應(yīng)地對(duì)液晶層400施加電壓的共同電極370。在圖8中所示的液晶顯示裝置中，在第2絕緣基板310的另一面上配置有觸摸傳感電極410、絕緣膜420、觸摸驅(qū)動(dòng)電極430、及保護(hù)膜600。這樣，在圖4中所示的液晶顯示裝置的制造中，在形成上部顯示板300時(shí)，可以一起形成作為觸摸屏的構(gòu)成要素的傳感電極410、絕緣膜420、及觸摸驅(qū)動(dòng)電極430等。特別是將本發(fā)明的感光性組合物固化而得到的固化膜可以適宜用于下部顯示板200的絕緣膜280、上部顯示板300的絕緣膜420、保護(hù)膜600。實(shí)施例以下列舉出實(shí)施例對(duì)本發(fā)明更具體地進(jìn)行說(shuō)明。以下的實(shí)施例中所示的材料、使用量、比例、處理內(nèi)容、處理步驟等只要不脫離本發(fā)明的主旨，可以進(jìn)行適當(dāng)變更。因此，本發(fā)明的范圍并不限定于以下所示的具體例子。另外，只要沒(méi)有特別說(shuō)明，“份”、“％”為質(zhì)量基準(zhǔn)。<重均分子量(Mw)及數(shù)均分子量(Mn)的測(cè)定>Mw及Mn在以下的條件下通過(guò)GPC而測(cè)定。柱的種類：TSKgelSuper(TOSOH)展開(kāi)溶劑：四氫呋喃柱溫度：40℃流量(樣品注入量)：10μl裝置名：HLC-8220GPC(TOSOH)標(biāo)準(zhǔn)曲線基體樹(shù)脂：聚苯乙烯<聚合物的合成例>以下的合成例中，以下的符號(hào)分別表示以下的化合物。MATHF：甲基丙烯酸2-四氫呋喃酯(合成品)MAEVE：甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)PHS-EVE：對(duì)羥基苯乙烯的1-乙氧基乙基保護(hù)體(合成品)OXE-30：甲基丙烯酸3-乙基-3-氧雜環(huán)丁烷基甲酯(大阪有機(jī)化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制)GMA：甲基丙烯酸縮水甘油酯(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)HEMA：甲基丙烯酸羥基乙酯(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)MAA：甲基丙烯酸(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)St：苯乙烯(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)MMA：甲基丙烯酸甲酯(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)NBMA：正丁氧基甲基丙烯酰胺(東京化成株式會(huì)社制)DCPMA：甲基丙烯酸二環(huán)戊酯(日立化成株式會(huì)社制)V-601：2,2’-偶氮雙(2-甲基丙酸)二甲酯(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)V-65：2,2‘-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制)HS-EDM：二乙二醇乙基甲基醚(東邦化學(xué)工業(yè)株式會(huì)社制、HisolveEDM)AICA：衣康酸酐(MATHF的合成)將甲基丙烯酸(86g、1mol)冷卻至15℃，添加樟腦磺酸(4.6g、0.02mol)。在該溶液中滴加2-二氫呋喃(71g、1mol、1.0當(dāng)量)。攪拌1小時(shí)后，加入飽和碳酸氫鈉(500mL)，用醋酸乙酯(500mL)萃取，用硫酸鎂干燥后，將不溶物過(guò)濾后在40℃以下減壓濃縮，將殘?jiān)狞S色油狀物進(jìn)行減壓蒸餾，得到沸點(diǎn)為54～56℃/3.5mmHg餾分的甲基丙烯酸四氫-2H-呋喃-2-酯(MATHF)125g作為無(wú)色油狀物(收率為80％)。(PHS-EVE的合成)作為原料使用對(duì)羥基苯乙烯及乙基乙烯基醚，通過(guò)與MATHF同樣的方法合成PHS-EVE。(聚合物A-1的合成例)將HS-EDM的74g在氮?dú)饬飨?，加熱?0℃并攪拌。將MATHF的70g(0.45mol)、GMA的64g(0.45mol)、MAA的8.6g(0.10mol)、自由基聚合引發(fā)劑V-65(商品名、和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制、相對(duì)于全部單體的合計(jì)100摩爾，相當(dāng)于4摩爾的量)及丙二醇單甲基醚乙酸酯(PGMEA)的105g的混合溶液用2小時(shí)滴加到HS-EDM中，通過(guò)進(jìn)一步在70℃下反應(yīng)2小時(shí)，得到聚合物A-1的溶液(固體成分濃度為45質(zhì)量％)。所得到的聚合物A-1的通過(guò)凝膠滲透色譜法(GPC)測(cè)定的重均分子量為15,000，分散度(Mw/Mn＝1.9)。(聚合物A-2～A-20的合成例)將單體、聚合引發(fā)劑及聚合溫度如下述表中所示的那樣變更，通過(guò)與聚合物A-1同樣的方法合成各聚合物。上述表中，表中的沒(méi)有特別標(biāo)注單位的數(shù)值以mol％作為單位。聚合引發(fā)劑及添加劑的數(shù)值為設(shè)單體成分為100mol％時(shí)的mol％。固體成分濃度以[單體質(zhì)量/(單體質(zhì)量+溶劑質(zhì)量)]×100(單位：質(zhì)量％)的形式表示。<化合物S的合成例>(S-1的合成)在具備攪拌機(jī)、溫度計(jì)、氮?dú)鈱?dǎo)入口的四口燒瓶中，加入甲基丙烯酸56.0g(0.65mol)、硫酸0.13g、甲苯111g。在氮?dú)夥障?，將液溫保持?3℃，一邊進(jìn)行攪拌，一邊用2小時(shí)添加2-(全氟己基)乙基乙烯基醚(CHEMINOXFAVE-6、UnimatecCo.,Ltd.制、下述結(jié)構(gòu)(A))50.7g(0.13mol)，添加結(jié)束后，進(jìn)一步攪拌4.5小時(shí)。將反應(yīng)液添加到10質(zhì)量％碳酸鈉水溶液345g中，并攪拌。將有機(jī)層分離，用10質(zhì)量％碳酸鈉水溶液110g洗滌3次，用純水112g洗滌2次后，進(jìn)行減壓濃縮。通過(guò)將濃縮液進(jìn)一步減壓蒸餾而進(jìn)行純化，得到甲基丙烯酸2-(全氟己基)乙酯(下述結(jié)構(gòu)(B))。接著，在具備攪拌機(jī)、溫度計(jì)、滴液漏斗及氮?dú)鈱?dǎo)入管的可分離式燒瓶中，導(dǎo)入33g二乙二醇乙基甲基醚(MEDG)，升溫至65℃。接著，將甲基丙烯酸2-(全氟己基)乙酯(下述結(jié)構(gòu)(B))的2.0g、六丁二醇甲基丙烯酸酯(下述結(jié)構(gòu)(C))的8.0g、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)(和光純藥工業(yè)株式會(huì)社制、商品名“V-65”)0.40g與MEDG的68g混合而得到的溶液用6小時(shí)滴加到上述的升溫至65℃的可分離式燒瓶?jī)?nèi)。滴加后熟化2小時(shí)。將所得到的反應(yīng)液滴加到庚烷700g中，將沉淀的聚合物利用吸濾器回收。將所得到的聚合物在減壓下干燥，得到作為目標(biāo)的S-1。S-1的重均分子量(Mw)為1900，分散度(Mw/Mn)為1.74。[化學(xué)式22](S-2～S-33的合成)除了將原料適當(dāng)變更以能夠形成下述表中記載的聚合物以外，與S-1同樣地操作而合成S-2～S-33。<感光性組合物的調(diào)制>將下述表中所示的材料混合、攪拌、溶解而制成溶液，用孔徑為0.4μm的聚乙烯制過(guò)濾器過(guò)濾，進(jìn)一步用孔徑為0.1μm的聚四氟乙烯制過(guò)濾器過(guò)濾，得到感光性組合物。表中的沒(méi)有特別標(biāo)注單位的數(shù)值為質(zhì)量份。另外，聚合物成分按照固體成分成為表記載的量的方式添加。即，以固體得到時(shí)，添加表記載的量的該固體成分，以溶液得到時(shí)，按照固體成分成為表記載的量的方式添加該溶液。表示實(shí)施例及比較例中使用的各化合物的縮寫的詳細(xì)情況如下。(聚合物成分)使用上述表1中所示的A-1～A-20。(化合物S)使用上述表2中所示的S-1～S-33。(光酸產(chǎn)生劑)B-1：下述所示的結(jié)構(gòu)(PAG-103、BASF制、產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑)[化學(xué)式23]B-2：下述所示的結(jié)構(gòu)(PAI-101、MidoriKagakuCo.,Ltd.制、產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑)、Me表示甲基。[化學(xué)式24]B-3：下述所示的結(jié)構(gòu)(產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑)[化學(xué)式25]B-4：下述所示的結(jié)構(gòu)(Ts表示甲苯磺?；a(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑)[化學(xué)式26]B-5：下述所示的結(jié)構(gòu)(產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑)[化學(xué)式27]B-6：下述所示的結(jié)構(gòu)(GSID-26-1、三芳基锍鹽(BASF制)、產(chǎn)生pKa為3以下的酸的光酸產(chǎn)生劑)[化學(xué)式28](溶劑)C-1：二乙二醇乙基甲基醚C-2：丙二醇單甲基醚乙酸酯C-3：N-甲基吡咯烷酮C-4：γ-丁內(nèi)酯(堿性化合物)DBU：1,8-二氮雜二環(huán)[5.4.0]十一碳-7-烯TPI：三苯基咪唑(烷氧基硅烷化合物)KBM-403：KBM-403、Shin-EtsuSilicone株式會(huì)社制KBM-303：KBM-303、Shin-EtsuSilicone株式會(huì)社制KBE-403：KBE-403、Shin-EtsuSilicone株式會(huì)社制KBM-5103：KBM-5103、Shin-EtsuSilicone株式會(huì)社制(其它成分)D-1：JER157S65(三菱化學(xué)株式會(huì)社制、交聯(lián)劑)D-2：EpicronHP-7200(DIC株式會(huì)社制、交聯(lián)劑)D-3：EX-321L(NagaseChemtexCorporation制、交聯(lián)劑)D-4：MW-100LM(SANWAChemicalCo.,Ltd.制、交聯(lián)劑)D-5：KAYARADDPHA(日本化藥株式會(huì)社制、交聯(lián)劑)D-6：JER157S60(三菱化學(xué)株式會(huì)社制、交聯(lián)劑)AO-60：AdekastabAO-60(株式會(huì)社ADEKA制)TA：偏苯三酸DBA：9,10-二丁氧基蒽氧化鈦分散液：制造方法在后面敘述。S’-1：下述結(jié)構(gòu)(構(gòu)成單元S’-1-1：構(gòu)成單元S’-1-2＝20：80(質(zhì)量比)、Mw＝2600)[化學(xué)式29]S’-2：下述結(jié)構(gòu)(構(gòu)成單元S’-2-1：構(gòu)成單元S’-2-2＝20：80(質(zhì)量比)、Mw＝2600)[化學(xué)式30](氧化鈦分散液的制造方法)將氧化鈦(石原產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社制TTO-51(C))的25質(zhì)量份、分散劑(DISPERBYK-111、BYK-ChemieJapan株式會(huì)社制)的8質(zhì)量份和丙二醇單甲基醚乙酸酯的67質(zhì)量份利用壽工業(yè)株式會(huì)社制UltraApexMill，以0.05mm氧化鋯珠填充率為75％、周速為12m/sec、循環(huán)流量為180g/min循環(huán)150分鐘而進(jìn)行分散，得到氧化鈦分散液。<評(píng)價(jià)>(涂布性)在實(shí)施了HMDS(六甲基二硅氮烷)處理的1,500mm×1,800mm的Cr蒸鍍玻璃基板(玻璃為EAGLEXG、Corning公司)上，通過(guò)狹縫模在涂布速度為100mm/sec、涂布間隙為100μm的條件下一邊調(diào)整涂布流速一邊按照干燥膜厚成為4μm的方式涂布各感光性組合物，利用減壓干燥腔室按照極限真空度成為0.05kPa(0.4Torr)的方式進(jìn)行真空干燥。將該干燥后的基板利用熱板在90℃下干燥120秒后，在暗處使用Na燈、白色燈及綠色燈進(jìn)行觀察，按照以下的基準(zhǔn)評(píng)價(jià)涂布條紋、干燥不均。1～4為實(shí)用范圍。1：沒(méi)有涂布條紋及涂布不均。2：沒(méi)有涂布條紋，但略微有涂布不均。3：僅在基板周邊部略微有涂布條紋，并且，略微有涂布不均。4：在基板中央部略微有涂布條紋，并且，略微有涂布不均。5：在基板整面有涂布條紋及或涂布不均。(與上層的密合性)將與涂布性評(píng)價(jià)同樣地制作的基板利用FHD-5(FUJIFILMElectronicMaterialsCo.,Ltd.制)的21％水溶液覆蓋并靜置60秒。靜置后以噴淋狀散布純水而將顯影液沖掉后，自然干燥。進(jìn)而將干燥后的基板在230℃下加熱30分鐘后，切割成100mm×100mm尺寸。將上述成為小片的基板使用ULVAC,Inc.制ITO(IndiumTinOxide)濺射裝置SME-200E，按照濺射溫度為23℃、膜厚成為50nm的方式將ITO成膜，進(jìn)行200℃且30分鐘加熱。在所得到的帶ITO的基板上，按照J(rèn)ISK5600-5-6：1999，以1mm間隔劃上切割線而進(jìn)行劃格試驗(yàn)，評(píng)價(jià)ITO的密合性。1～4為實(shí)用范圍。1：從固化膜表面剝離的ITO膜的合計(jì)面積低于1％2：從固化膜表面剝離的ITO膜的合計(jì)面積為1％以上且低于5％3：從固化膜表面剝離的ITO膜的合計(jì)面積為5％以上且低于10％4：從固化膜表面剝離的ITO膜的合計(jì)面積為10％以上且低于15％5：從固化膜表面剝離的ITO膜的合計(jì)面積為15％以上<顯影性>對(duì)于各感光性組合物，將與涂布性評(píng)價(jià)同樣地制作的基板使用MPA-7800+(佳能株式會(huì)社制)對(duì)5μm的孔圖案進(jìn)行曝光。接著利用FHD-5(FUJIFILMElectronicMaterialsCo.,Ltd.制)的21％水溶液覆蓋，進(jìn)行23℃/60秒靜置。靜置后，以噴淋狀散布純水而沖掉顯影液，自然干燥。進(jìn)而將干燥后的基板在230℃下加熱30分鐘后，利用光學(xué)顯微鏡(倍率為300倍)、掃描型電子顯微鏡(SEM)(倍率為5000倍)觀察孔圖案的形狀。在任一觀察中，確認(rèn)沒(méi)有殘?jiān)揖哂辛己玫奈鱿裥裕瑸槠恋目讏D案形狀。另外，對(duì)于各感光性組合物的曝光量通過(guò)下述的方法求出。對(duì)于各感光性組合物，將與涂布性評(píng)價(jià)同樣地制作的基板使用佳能株式會(huì)社制MPA5500CF(高壓汞燈)，介由5μm的孔圖案掩模進(jìn)行曝光。進(jìn)而，將曝光后的感光性組合物利用FHD-5(FUJIFILMElectronicMaterialsCo.,Ltd.制)的21％水溶液進(jìn)行23℃/60秒鐘顯影后，用超純水淋洗20秒。求出通過(guò)這些操作使5μm的孔析像時(shí)的最佳i射線曝光量(Eopt)，作為曝光量。<耐熱變形>對(duì)于各感光性組合物，將與顯影性評(píng)價(jià)同樣地制作的基板用烘箱進(jìn)行250℃且120分鐘追加燒成。利用SEM(倍率為5000倍)觀察進(jìn)行追加燒成前后的圖案形狀，將孔形狀的變化小者設(shè)定為耐熱性良好。1～4為實(shí)用范圍。1：沒(méi)有錐角變動(dòng)。2：錐角變動(dòng)低于2°3：錐角變動(dòng)為2°以上且低于5°4：錐角變動(dòng)為5°以上且低于10°5：錐角變動(dòng)為10°以上表3表4如上述表中所示的那樣，實(shí)施例的涂布性良好，所得到的固化膜與上層的密合性優(yōu)異。另一方面，比較例的涂布性、及與上層的密合性中的至少一個(gè)差。<顯示裝置的制作>(實(shí)施例1001)對(duì)于日本特開(kāi)2012-203121號(hào)公報(bào)的圖1中記載的顯示裝置，除了將像素分離膜(19)及平坦化膜(17)使用實(shí)施例1的感光性組合物來(lái)制作以外，按照日本特開(kāi)2012-203121號(hào)公報(bào)來(lái)制作。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例1002～1080)除了在實(shí)施例1001中，將實(shí)施例1的感光性組合物替換成實(shí)施例2～80的感光性組合物以外，與實(shí)施例1001同樣地操作而制作顯示裝置。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例2001)對(duì)于日本特開(kāi)2013-196919號(hào)公報(bào)的圖1中記載的顯示裝置，除了將像素間絕緣膜(16)及層間絕緣膜(14)使用實(shí)施例1的感光性組合物來(lái)制作以外，按照日本特開(kāi)2013-196919號(hào)公報(bào)來(lái)制作。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例2002～2080)除了在實(shí)施例2001中，將實(shí)施例1的感光性組合物替換成實(shí)施例2～80的感光性組合物以外，與實(shí)施例2001同樣地操作而制作顯示裝置。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例3001)對(duì)于日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的液晶顯示裝置，除了將有機(jī)絕緣膜PAS使用實(shí)施例1的感光性組合物來(lái)制作以外，按照日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)來(lái)制作。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例3002～3080)除了在實(shí)施例3001中，將實(shí)施例1的感光性組合物替換成實(shí)施例2～80的感光性組合物以外，與實(shí)施例3001同樣地操作而制作顯示裝置。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例4001)對(duì)于日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)的圖1中記載的液晶顯示裝置，除了將有機(jī)絕緣膜PAS使用實(shí)施例1的感光性組合物如下述那樣制作以外，按照日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)來(lái)制作。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。按照日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)，制作至IN2。之后，按照加熱固化后的膜厚成為規(guī)定膜厚的一半的方式狹縫涂布實(shí)施例1的感光性組合物，接著，除去溶劑，接著，以孔形狀進(jìn)行圖案曝光，接著，用四甲基氫氧化銨(TMAH)的0.5質(zhì)量％水溶液進(jìn)行60秒鐘旋覆浸沒(méi)顯影，接著用超高壓汞燈以600mJ/cm2的曝光量進(jìn)行整面曝光，接著在氮?dú)夥罩性?05℃下加熱20分鐘，進(jìn)一步在氮?dú)夥罩性?40℃下加熱40分鐘，形成規(guī)定膜厚的一半的膜厚的固化膜。在上述的固化膜上，同樣地用實(shí)施例1的感光性組合物形成規(guī)定膜厚的一半的膜厚的固化膜。由此，形成固化膜的層疊體(一半的膜厚的固化膜2層的層疊結(jié)構(gòu))即PAS。之后，按照日本特開(kāi)2007-328210號(hào)公報(bào)來(lái)制作液晶顯示裝置。(實(shí)施例4002～4080)除了在實(shí)施例4001中，將實(shí)施例1的感光性組合物替換成實(shí)施例2～80的感光性組合物以外，與實(shí)施例4001同樣地操作而制作顯示裝置。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。(實(shí)施例4081)除了在實(shí)施例4001中，將有機(jī)絕緣膜PAS的第1層變更為實(shí)施例57的感光性組合物，將第2層變更為實(shí)施例77的感光性組合物以外，與實(shí)施例4001同樣地操作而制作顯示裝置。為顯示特性優(yōu)異的顯示裝置。符號(hào)說(shuō)明1：TFT、2：布線、3：絕緣膜、4：平坦化膜、5：第一電極、6：玻璃基板、7：接觸孔、8：絕緣膜、10：液晶顯示裝置、12：背光源單元、14，15：玻璃基板、16：TFT、17：固化膜、18：接觸孔、19：ITO透明電極、20：液晶、22：濾色器、30：靜電容量方式的觸摸面板、31：正面板、32：框架層、33：第一透明電極圖案、33a：焊盤部分、33b：連接部分、34：第二透明電極圖案、35：絕緣層、36：導(dǎo)電性要素、37：透明保護(hù)層、38：開(kāi)口部、110：像素基板、111：偏振片、112：透明基板、113：共同電極、114：絕緣層、115：像素電極、116：取向膜、120：對(duì)置基板、121：取向膜、122：濾色器、123：透明基板、124：相位差膜、126：粘接層、127：偏振片、130：傳感器部、200：下部顯示板、210：絕緣基板、220：門電極、240：門絕緣膜、250：半導(dǎo)體層、260：歐姆接觸層、270：源電極、272：漏電極、280：絕緣膜、282：接觸孔、290：像素電極、300：上部顯示板、310：絕緣基板、320：遮光部件、330：濾色器、350：取向膜、370：共同電極、400：液晶層、410：傳感電極、420：絕緣膜、430：觸摸驅(qū)動(dòng)電極、600：保護(hù)膜、CT：對(duì)置電極、GI：門絕緣膜、GT：門電極、IN1：第1層間絕緣膜、IN2：第2層間絕緣膜、IN3：第3層間絕緣膜、PAS：有機(jī)絕緣膜、PS：半導(dǎo)體膜、PX：像素電極、RAL：反射膜、SD1：漏電極、SD2：源電極、SUB1：玻璃基板、UC：基底膜。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3 當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3