如本領(lǐng)域中所熟知的，眼科鏡片產(chǎn)生自確定鏡片的凸和凹光學(xué)表面的幾何結(jié)構(gòu)的一系列的模制、表面修整和平滑處理步驟、接著是適當(dāng)?shù)谋砻嫣幚?。眼科鏡片的最后的精加工步驟是磨邊操作，該磨邊操作在于機(jī)加工該鏡片的周邊或邊緣面以便使該鏡片適配于其在給定框架中裝配所要求的尺寸和形狀。如還熟知的，這種磨邊操作是使用包括金剛石砂輪的研磨機(jī)進(jìn)行的。在該磨邊操作期間，鏡片通過軸向封阻元件保持，該鏡片通過粘附、特別是借助于粘性墊緊固到這些封阻元件之一上。在此磨邊操作期間該鏡片的良好保持因此基本上取決于該鏡片的表面與該封阻元件的良好的粘附。此外，如還熟知的，總體上在鏡片的凸表面(在磨邊操作期間旨在通過粘附(使用墊)緊固到封阻元件上的表面)上形成的最后的功能層是具有低表面能的防污層。這些防污層，典型地由基于氟硅烷的材料形成，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了如此程度的性能，特別是如此的低表面能值，以致將不再可能通過粘附將涂覆有此類防污層的鏡片緊固到用于其磨邊的封阻元件的粘性墊上。為了解決這種困難，已經(jīng)提出用臨時(shí)頂涂層涂覆鏡片的防污層，該臨時(shí)頂涂層增加該鏡片的表面的表面能并且因此使能夠使用粘性墊緊固到封阻元件上用于該鏡片的無風(fēng)險(xiǎn)磨邊。此有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層，典型地金屬氟化物和/或氧化物層，容易被去除，特別是通過簡(jiǎn)單的擦拭，一旦進(jìn)行了磨邊，同時(shí)保留有效的防污層。這樣的解決方案尤其在專利EP1392613和EP1633684中進(jìn)行了描述。雖然以上解決方案是令人滿意的，但是諸位發(fā)明人確定，當(dāng)有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層在防污層的沉積之后被快速沉積時(shí)(也就是說在此防污層的沉積之后的15天的時(shí)間內(nèi))，在去除該有助于磨邊的頂涂層之后出現(xiàn)該防污層的特性的相當(dāng)大的劣化。特別地，如根據(jù)以下描述的方法在測(cè)試鏡片上測(cè)量的，液體如水在已經(jīng)經(jīng)受或尚未經(jīng)受耐久性測(cè)試的防污層上的后退角，相對(duì)于在相同條件下形成的但在其上沒有沉積有助于磨邊的頂涂層的防污層，是顯著減小的。測(cè)試已經(jīng)表明當(dāng)有助于磨邊的頂涂層是在防污層的沉積之后沒有減壓下快速沉積的時(shí)，該防污層的劣化是甚至更大的。諸位發(fā)明人還已經(jīng)觀察到該防污層的劣化隨著有助于磨邊的頂涂層在其去除之前在該防污層上存在的持續(xù)時(shí)間而增加。然而，為了有助于尤其是眼科鏡片的工業(yè)制造，并且為了減少這種制造的成本，將希望的是有一種方法，該方法使能夠在防污層的形成之后盡可能快速地沉積有助于磨邊的頂涂層。類似地，為了應(yīng)用的最佳適配，將希望的是，一旦沉積了有助于磨邊的頂涂層，能夠在去除該頂涂層之前將鏡片儲(chǔ)存長(zhǎng)的時(shí)間而不劣化防污層。以下目的是根據(jù)本發(fā)明使用一種用于制造適合于磨邊的光學(xué)物品的方法實(shí)現(xiàn)的，該光學(xué)物品包括防污層，在該防污層上沉積有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層，該方法包括：-在光學(xué)基底上沉積包含至少一種氟聚合物化合物的有機(jī)防污層，該至少一種氟聚合物化合物包含可水解官能團(tuán)；并且-在該防污層上沉積無機(jī)性質(zhì)的有利于磨邊的頂涂層，該頂涂層包含一種或多種金屬氟化物和/或一種或多種金屬氧化物或氫氧化物；該方法的特征在于，為了減少或防止由于該有助于磨邊的頂涂層的臨時(shí)存在的該防污層的劣化，該方法附加包括，在沉積該有助于磨邊的頂涂層之前，該防污層的加速接枝的步驟，該步驟選自：(a)在濕氣氛中，優(yōu)選在處于大氣壓下、具有從45％至95％的相對(duì)濕度(RH)程度和從15℃至75℃的溫度的空氣氣氛中，沉積的防污層的處理，優(yōu)選持續(xù)1至15天的持續(xù)時(shí)間；或者(b)該沉積的防污層的酸性或堿性蒸氣相中的催化處理。本說明書的其余部分指的是附圖，這些附圖分別代表：圖1，在耐久性測(cè)試之前和之后，在根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)沉積的有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層的沉積和去除之后，防污層的后退角的變化的圖；圖2，在耐久性測(cè)試之前和之后，在根據(jù)本發(fā)明的方法的實(shí)施例和現(xiàn)有技術(shù)的方法沉積的有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層的沉積和去除之后，防污層的后退角的變化的圖；圖3，針對(duì)在防污層的沉積之后在頂涂層的沉積之前的不同儲(chǔ)存時(shí)間和在該頂涂層的去除之前的不同時(shí)間，在耐久性測(cè)試之前和之后，在根據(jù)本發(fā)明的方法的實(shí)施例和現(xiàn)有技術(shù)的方法沉積的有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層的沉積和去除之后，該防污層的后退角的變化的圖；圖4，用本發(fā)明的方法和現(xiàn)有技術(shù)的方法在耐久性測(cè)試之前和之后的后退角的變化的圖；并且圖5，在后退角的測(cè)量期間液滴的滯后的簡(jiǎn)圖。根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)物品，優(yōu)選地眼科鏡片，包括由玻璃制成的基底，優(yōu)選地由有機(jī)玻璃制成的基底，例如由熱塑性或熱固性塑料材料制成的基底。該基底可以選自在申請(qǐng)WO2008/062142中提及的基底，例如通過二乙二醇雙(碳酸烷基酯)的(共)聚合獲得的基底，聚(硫代)甲烷基底或由聚碳酸酯(PC)制成的基底。如熟知的，該基底可以，在沉積防污層之前，涂覆有一個(gè)或多個(gè)功能性涂層如耐沖擊底涂層、耐刮擦和/或耐磨損涂層和減反射涂層。其他功能層，如抗靜電涂層、偏振涂層或光致變色涂層，可以在沉積防污層之前存在。用于形成本發(fā)明的防污層的材料是本領(lǐng)域中熟知的并且被定義為疏水和/或疏油涂料，其與去離子水的靜態(tài)接觸角是大于或等于75°、優(yōu)選大于或等于90°并且還更好地大于或等于100°。該靜態(tài)接觸角可以使用液滴方法確定，在該方法中將具有小于2mm的直徑的液滴輕輕地沉積在非吸收性的固體表面上并且測(cè)量在該液體與該固體表面之間的界面處的角度。根據(jù)本發(fā)明的防污層是有機(jī)涂層，該有機(jī)涂層包含至少一種包含可水解官能團(tuán)的氟聚合物化合物，這些可水解官能團(tuán)能夠與基底化學(xué)反應(yīng)以便接枝到其上。優(yōu)選地，該氟聚合物化合物是硅烷和/或硅氮烷性質(zhì)的可以參與水解和縮合反應(yīng)并帶有一個(gè)或多個(gè)氟化基團(tuán)、特別是氟化的或甚至全氟化的烴基的聚合物化合物。這些聚合物化合物還被稱為氟硅烷和氟硅氮烷。優(yōu)選地，這些可水解官能團(tuán)是烷氧基硅烷官能團(tuán)(-Si(OR)n，其中n是從1至3的整數(shù)并且-R是C1-C4烷基、優(yōu)選-CH3或-C2H5基團(tuán))。更優(yōu)選地，這些可水解官能團(tuán)僅存在于該聚合物化合物的鏈的一個(gè)末端。它可以通過沉積每分子優(yōu)選地包含至少兩個(gè)可水解基團(tuán)的氟硅烷或氟硅氮烷前體來獲得。這些氟硅烷前體優(yōu)選地含有氟聚醚基團(tuán)并且還更好地全氟聚醚基團(tuán)。這些氟硅烷是熟知的并且尤其被描述于專利US5,081,192、US5,763,061、US6,183,872、US5,739,639、US5,922,787、US6,337,235、US6,277,485以及EP0933377中。當(dāng)此類化合物沉積在表面上時(shí)，它們能夠直接地或在水解后經(jīng)歷與基底的接枝反應(yīng)。優(yōu)選地，該外部防污涂層具有小于或等于14mJ/m2、優(yōu)選地小于或等于13mJ/m2、還更好地小于或等于12mJ/m2的表面能。該表面能是使用在文章：“聚合物的表面力能的估算(Estimationofthesurfaceforceenergyofpolymers)”，歐文斯D.K.(OwensD.K.)和溫特R.G.(WendtR.G.)(1969)，應(yīng)用聚合物科學(xué)期刊(J.Appl.Polym.Sci.)，13，1741-1747中描述的歐文斯-溫特(Owens-Wendt)方法計(jì)算的?？捎糜讷@得此類防污涂層的化合物描述于專利JP2005/187936和US6,183,872中。特別優(yōu)選的氟聚合物化合物是對(duì)應(yīng)于下式(C)的那些：(C)：F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o-(CH2)p-X(CH2)r-(CH2)t-Si(X')3-a(R1)a其中q是從1至3的整數(shù)；m、n和o獨(dú)立地是從0至200的整數(shù)；p是1或2；X為O或二價(jià)有機(jī)基團(tuán)；r是從2至20的整數(shù)；t是從1至10的整數(shù)，R1是直鏈或支鏈的C1-C22烴基；a是從0至2的整數(shù)；并且X’是可水解基團(tuán)、-OH基團(tuán)或-NH2基團(tuán)。典型地，這些可水解基團(tuán)是氯、-OR烷氧基和-NHR或-NR2烷基氨基，其中R是C1-C22烷基。優(yōu)選的材料是包含對(duì)應(yīng)于以上式(C)其中X’是烷基氨基的化合物的材料。此類產(chǎn)品描述于國(guó)際專利申請(qǐng)WO2011/060047中。使得有可能制備防污涂層的商業(yè)組合物是由信越化學(xué)公司(Shin-EtsuChemical)銷售的組合物(對(duì)應(yīng)于在專利JP2005/187936中的式)和KP以及由大金工業(yè)公司(DaikinIndustries)銷售的組合物OPTOOL(包含全氟丙烯基團(tuán)的氟化的樹脂，對(duì)應(yīng)于在專利US6,183,872中的式)。組合物OPTOOL是優(yōu)選的防污涂層組合物。一種特別優(yōu)選的產(chǎn)品是在WO2011/060047的實(shí)例4中描述的、并且在此處之后由HDTC表示的產(chǎn)品(YY)。典型地，該防污層具有從1nm至30nm、優(yōu)選從1nm至25nm、還更好地從1至20nm、甚至還更好地從1至10nm并且理想地從1至5nm的物理厚度。一般而言，該防污層的厚度是從3至20nm、優(yōu)選從3至8nm。用于沉積這些防污層的方法也是熟知的并尤其描述在上述的文件中。類似地，無機(jī)性質(zhì)的有助于磨邊的頂涂層以及還有它們的方法是本領(lǐng)域中熟知的并且特別是描述于專利EP1392613和EP1633684中。如所指出的，有助于磨邊的頂涂層是無機(jī)性質(zhì)的并且更具體地由以下項(xiàng)組成：一種或多種金屬氟化物如氟化鎂(MgF2)、氟化鑭(LaF3)、氟化鋁(AlF3)和氟化鈰(CeF3)；一種或多種金屬氧化物和/或氫氧化物如氧化鎂(MgO)、氫氧化鎂(Mg(OH)2)，以及鈦、鋁、鋯和鐠的氧化物；以及還有這些氟化物和這些氧化物的混合物。優(yōu)選地，有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層由以下項(xiàng)組成：金屬氟化物、特別是MgF2的層，以及任選的氧化物或氫氧化物、特別是MgO或Mg(OH)2的層，如在專利EP1633684中描述的。工業(yè)上，令人希望的是能夠在盡可能短的時(shí)間內(nèi)依次地進(jìn)行防污涂層和有助于磨邊的頂涂層在光學(xué)物品、特別是眼科鏡片上的沉積的操作，并且能夠在將所獲得的物品磨邊至給定的形狀(在眼科鏡片的情況下特別是眼鏡框架的形狀)用于在該有助于磨邊的臨時(shí)頂涂層的消除之后的最終用途之前將其儲(chǔ)存持續(xù)相對(duì)長(zhǎng)的時(shí)間。然而，諸位發(fā)明人已經(jīng)證明在沉積防污層之后立即或稍等之后沉積臨時(shí)頂涂層以及還有在這些沉積之后得到的物品在去除該臨時(shí)頂涂層之前的延長(zhǎng)儲(chǔ)存導(dǎo)致該防污層的特性的劣化，特別是后退角的減小。如前面指出的，上述缺陷可以根據(jù)本發(fā)明通過使防污層在其沉積之后并且在有助于磨邊的頂涂層的沉積之前經(jīng)受加速接枝的步驟來克服，該步驟或者由在濕空氣氣氛中的處理組成、或者由在酸性或堿性相中的催化處理組成。在空氣氣氛中的處理在于將提供有該防污層的物品置于處于大氣壓下的具有從45％至95％的相對(duì)濕度(RH)程度和從15℃至75℃的溫度的空氣中，優(yōu)選持續(xù)1至15天的持續(xù)時(shí)間。環(huán)境條件表示處于大氣壓下的具有從45％至小于65％、優(yōu)選從50％至小于65％的RH和從18℃至小于35℃、優(yōu)選從20℃至小于35℃的溫度的空氣氣氛。熱帶條件表示處于大氣壓下的具有從65％至95％的RH和從35℃至75℃的溫度的空氣氣氛。優(yōu)選使用的是具有從50％至95％、還更好地從50％至90％的RH和從25℃至75℃、還更好地從25℃至50℃的溫度的空氣氣氛。更優(yōu)選地，相對(duì)濕度的程度是從70％至90％，并且溫度是從35℃至50℃。優(yōu)選地，處理時(shí)間是從1至7天、還更好地從2至5天。這種在空氣氣氛中的處理可以在用于防污層的沉積的腔室中、在此沉積之后直接進(jìn)行。因此，防污層和有助于磨邊的頂涂層的沉積是在真空下進(jìn)行，并且該防污層的加速接枝的步驟是該防污層的在濕氣氛中的處理，該處理通過在沉積該防污層與沉積該有助于磨邊的頂涂層之間的返回至在大氣壓下的空氣氣氛的步驟進(jìn)行。在一個(gè)具體的實(shí)施例中，該防污層和該有助于磨邊的頂涂層的沉積是在真空下在真空腔室中進(jìn)行，并且該防污層的加速接枝的步驟是該防污層的在濕氣氛中的處理，該處理在沒有在沉積該防污層與沉積該有助于磨邊的頂涂層之間的返回至大氣壓的步驟下通過將水釋放到該真空腔室中進(jìn)行的。優(yōu)先地，該水是通過“邁斯納(Meissner)”的除冰釋放到該真空腔室中，現(xiàn)在將更詳細(xì)地描述這個(gè)步驟。該邁斯納是位于該真空腔室內(nèi)部的低溫阱。典型地，它由長(zhǎng)的線圈狀銅管組成，在該銅管中低溫流體循環(huán)。在次級(jí)泵送步驟開始時(shí)，該邁斯納被激活(該邁斯納的“結(jié)冰”的步驟)：行進(jìn)穿過它的流體然后被置于低于-100℃的溫度。然后將水分子以冰的形式截留在該管的壁上，這導(dǎo)致在腔室內(nèi)部的殘余壓力的下降。當(dāng)邁斯納被除冰(邁斯納的“除冰”的步驟)時(shí)：行進(jìn)穿過它的流體被置于接近25℃的溫度。然后將水分子汽化并釋放到腔室中，使得有可能進(jìn)行本發(fā)明的防污層的加速接枝的步驟。在另一個(gè)實(shí)施例中，該接枝步驟通過附加強(qiáng)加溫度的增加而加速。在這種情況下，在其下進(jìn)行本發(fā)明的方法的溫度優(yōu)選地高于60℃、還更好地高于70℃、甚至還更好地高于80℃。催化處理在于將提供有防污層的物品置于酸性或堿性氣氛，例如含有鹽酸(HCl)或氨(NH3)的蒸氣相中。有可能使用用HCl或NH3飽和的空氣，其中HCl或NH3的液相呈在大氣壓和環(huán)境溫度(18℃-35℃)、優(yōu)選18℃-25℃下的水溶液，特別是37wt％飽和的HCl水溶液。在沒有頂涂層的情況下的防污層的最佳特性在該層的完全接枝后獲得?？梢哉J(rèn)為，當(dāng)表面層是均勻的時(shí)獲得了完全的接枝，這是由甚至在使用氟化溶劑沖洗表面(其目的是消除非接枝的分子)后仍然是最大的后退角表示的。直到完全接枝的時(shí)間取決于防污層的性質(zhì)，但通常是大約一周或更長(zhǎng)時(shí)間。然而，在不使用加速接枝處理的情況下，即使通過在此接枝時(shí)間后在防污層上沉積有助于磨邊的頂涂層，觀察到該防污層的特性的劣化。出人意料地，根據(jù)本發(fā)明的加速接枝處理使得有可能幾乎保留防污層的特性，特別是后退角的值。本發(fā)明通過以下實(shí)例以非限制性的方式說明。實(shí)例1.通用程序1.1.基底所使用的基底是具有65nm的直徑、-2.00屈光度的焦度和1.2mm的中心厚度的ESSILOR鏡片基底。這些基底的凹面涂覆有i)基于含有聚酯單元的聚氨酯膠乳、在90℃下固化1小時(shí)的耐沖擊底涂層(來自巴辛頓化學(xué)品公司(BAXENDENCHEMICALS)的234，以1500rpm旋涂10至15秒)；ii)在專利EP0614957的實(shí)例3中披露的耐磨損和耐刮擦涂層(硬涂層)(具有等于1.50的折射率)，基于環(huán)氧三烷氧基硅烷(γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷，GLYMO)和二烷基二烷氧基硅烷(二甲基二乙氧基硅烷，DMDES)的水解產(chǎn)物、膠體二氧化硅和乙酰丙酮鋁；和iii)減反射涂層。所述耐磨損和耐刮擦涂層是通過沉積和固化包含按重量計(jì)以下項(xiàng)的組合物獲得的：224份的GLYMO、80.5份的0.1NHCl、120份的DMDES、718份的在甲醇中30％的膠體二氧化硅、15份的乙酰丙酮鋁(固化催化劑)以及44份的乙基溶纖劑。該組合物還包含相對(duì)于該組合物的總重量按重量計(jì)0.1％的來自3M的FLUORADTM表面活性劑。該減反射涂層的層是不加熱這些基底、通過真空蒸發(fā)任選地(當(dāng)指定時(shí))在沉積過程中通過氧離子束輔助(蒸發(fā)源：電子槍)來沉積的。該減反射涂層是疊層：材料光學(xué)厚度(nm)第一層ZrO255第二層SiO230第三層ZrO2160第四層SiO2120這些光學(xué)厚度是對(duì)于λ＝550nm給出的。1.2.防污層所使用的材料是或者HDTC，或來自大金公司(DAIKIN)的OPTOOL防污層的沉積是通過真空沉積使用SYRUS模型的真空處理(VT)機(jī)，以17nm或19nm的編程厚度在減反射涂層上直接進(jìn)行的，除了第五系列的玻璃(SATIS1200DLF真空處理機(jī))。所沉積的層的厚度的測(cè)量。編程到蒸發(fā)裝置中的厚度值與實(shí)際沉積的那些不同。因此，確定需要應(yīng)用以沉積疏水單層、金屬氟化物單層和準(zhǔn)金屬或金屬氫氧化物或氧化物單層所需的物理厚度的蒸發(fā)條件。這些厚度使用橢偏計(jì)測(cè)量。使用WoollamVB-400VASE光譜-橢偏計(jì)(spectro-ellipsometer)的技術(shù)對(duì)于疏水層描述了該技術(shù)，但該技術(shù)適用于具有小厚度并且優(yōu)選小于或等于25-30nm并且還更好地(<≈10-15nm)的厚度的任何層。將疏水單層沉積在已經(jīng)經(jīng)歷離子預(yù)清潔(IPC)處理(60秒1A-100V)的單晶硅基底上。測(cè)量沉積在硅盤上的厚度。疏水層的指數(shù)為約1.36。假定這些層已沉積在2nm的天然SiO2氧化物上并且柯西(Cauchy)模型被用于該層的折射率：對(duì)于波長(zhǎng)λ，n＝a+b/λ+c/λ2。典型地，對(duì)于疏水氟化層，a＝1.36；b＝0.003并且c＝0。該方法然后在于測(cè)量在75°的入射下在300與800nm之間的ψ和Δ，并且在于計(jì)算地調(diào)整這些值(入射角和層的厚度)，以獲得使用tan(ψ)和cos(Δ)的樣品的理論模擬與實(shí)際測(cè)量之間的良好擬合(曲線的最佳重疊)。如果在調(diào)整期間獲得的角度的值接近75°(75°+/-0.5°)，則厚度測(cè)量被確認(rèn)。為了使用這種方法來測(cè)量其他層、并且特別是MgO層的厚度，a的值必須被替換為對(duì)應(yīng)于所討論的材料的值(在本領(lǐng)域中已知的)。對(duì)于更厚的層，特別是MgF2層，常規(guī)的厚度測(cè)量使用WoolamVB-400VASE橢偏計(jì)進(jìn)行(在3個(gè)入射角：65°、70°和75°下的測(cè)量)。該調(diào)整通過改變柯西參數(shù)和厚度進(jìn)行。用于計(jì)算的起點(diǎn)是a(取決于材料)，b＝0.003并且c＝0和厚度的估計(jì)值(對(duì)于MgF2典型地a＝1.38)。1.3.有利于磨邊的頂涂層該頂涂層由使用與防污層相同的機(jī)器通過蒸發(fā)沉積的MgF2層和MgO層組成。a)MgF2層的沉積蒸發(fā)材料是由默克公司(Merck)銷售的1-2.5nm粒徑的式MgF2的化合物。對(duì)于該MgF2，沉積速率被調(diào)整至約0.75nm/s。b)MgO層的沉積具有等于2nm的厚度的MgO然后使用來自優(yōu)美科公司(UMICORE)的MgO粒料(參考0481263)通過蒸發(fā)直接沉積在該MgF2層上。2.測(cè)試2.1.后退角的測(cè)量后退角在以下項(xiàng)中進(jìn)行了定義：博士論文–巴黎第七大學(xué)-丹尼斯·狄德羅，由NolwennLeGrand-Piteira呈現(xiàn)并且在2006年6月21日在ESCPI答辯的，特別是第1章，第19-20頁，第1.3.4段“Uneloiinsuffisantedanslaréalité–Hystérésisdumouillage”[實(shí)際上不適當(dāng)?shù)亩?潤(rùn)濕的滯后](doctoralthesis–UniversitéParis7–DenisDiderot,presentedbyNolwennLeGrand–PiteiraanddefendedatESCPIonJune21,2006,inparticularChapter1,pages19-20,paragraph1.3.4“Uneloiinsuffisantedanslaréalité–Hystérésisdumouillage”[Alawthatisinadequateinreality-Hysteresisofwetting])。使用配備有傾斜工作臺(tái)選項(xiàng)(PA3220)的KRUSS-DSA100圖象采集和分析半自動(dòng)測(cè)角儀進(jìn)行這些測(cè)量。這些測(cè)量在具有>100mm的曲率半徑的球面鏡片的凹面的幾何中心處進(jìn)行。這些測(cè)量以三個(gè)步驟進(jìn)行：·在該幾何中心處施用一滴去離子水(具有25μl的體積)；·以恒速(3°/秒)自動(dòng)傾斜該工作臺(tái)并且連續(xù)采集移動(dòng)液滴的圖像；·分析從采集序列得到的圖像，其中確定該液滴的移動(dòng)速度和該液滴三相點(diǎn)處的接觸角(前面θa和后面θr)(參見圖5)。它是在該三相點(diǎn)(液體/水/固體接合點(diǎn))處的該液滴的切線與在同一三相點(diǎn)處的該鏡片的表面的切線之間形成的接觸角，該液滴以輪廓進(jìn)行檢查。按照慣例，該角度是位于該液滴內(nèi)的那個(gè)。后退角θr對(duì)應(yīng)于在該液滴的移動(dòng)方向上的相反的點(diǎn)處確定的角度。在我們的測(cè)試中考慮的后退角的值是該液滴的移動(dòng)速度是在0.05與0.1mm/秒之間的角度的值的平均值。2.2.耐久性測(cè)試此測(cè)試在于通過使用后退角的測(cè)量值評(píng)價(jià)在加速老化(機(jī)械應(yīng)力)循環(huán)后的光學(xué)物品的性能來表征這些光學(xué)物品的防污層的耐久性。測(cè)試說明1.頂涂層的去除在時(shí)刻時(shí)，去除有助于磨邊的頂涂層并且測(cè)量表面的后退角。2.老化序列將來自法口公司(FACOL)的30X40M840S微纖維織物浸入25℃的水中持續(xù)1分鐘然后放置回空氣中。此微纖維織物然后被用于在施用3.5kg的負(fù)載的同時(shí)(在25℃、40％至60％濕度的空氣中)以來回移動(dòng)(對(duì)應(yīng)于一次向前移動(dòng)和一次返回移動(dòng)的一個(gè)循環(huán))機(jī)械摩擦包括(疏水的)防污涂層的光學(xué)物品的表面1200次(即600個(gè)循環(huán))、2400次(即1200個(gè)循環(huán))、3600次(即1800個(gè)循環(huán))、4800次(即2400個(gè)循環(huán))。后退角是在2400個(gè)摩擦循環(huán)之后測(cè)量的。調(diào)整機(jī)械摩擦設(shè)備以實(shí)現(xiàn)7分鐘內(nèi)600個(gè)循環(huán)。3.后退角的測(cè)量(耐久性測(cè)試后)在所描述的測(cè)試中，后退角已經(jīng)通過比較其在老化之前和之后的值呈現(xiàn)。3.實(shí)驗(yàn)3.1.第一系列的鏡片(眼鏡片)如以下指出的使用HDTC材料以17nm的編程厚度制造三批鏡片。第一批(批次號(hào)1)的鏡片不包含有利于磨邊的頂涂層。其他兩個(gè)批次(批次號(hào)2和號(hào)3)的鏡片在沉積防污層之后涂覆有頂涂層。在耐久性測(cè)試之前和之后，該防污層的后退角是在環(huán)境條件下儲(chǔ)存并去除頂涂層之后測(cè)量的。結(jié)果(對(duì)于3個(gè)鏡片的測(cè)量平均值)在圖1中給出。對(duì)于來自批次號(hào)2和號(hào)3的涂覆有有助于磨邊的頂涂層的鏡片，特別是在耐久性測(cè)試之后，注意到后退角的值的極大減小。3.2.第二系列的鏡片如在通用程序中指出的(HDTC，17nm)制造三批鏡片。批次號(hào)4和批次號(hào)6的鏡片類似于分別來自第一系列的批次號(hào)1和號(hào)3的那些。批次號(hào)5的鏡片是根據(jù)本發(fā)明的方法通過將提供有防污層的鏡片在沉積頂涂層之前儲(chǔ)存在熱帶空氣氣氛(40℃和80％RH)下持續(xù)一周生產(chǎn)的。然后將這些涂覆的鏡片在去除頂涂層之前在環(huán)境條件下儲(chǔ)存若干天。在耐久性測(cè)試之前和之后，該防污層的后退角是在儲(chǔ)存并去除頂涂層之后測(cè)量的。環(huán)境條件：25℃-50％RH-大氣壓熱帶條件：40℃-80％RH-大氣壓結(jié)果(對(duì)于三個(gè)鏡片的測(cè)量平均值)在圖2中給出。這些結(jié)果表明，根據(jù)本發(fā)明處理的鏡片(批次號(hào)5)具有，特別是在耐久性測(cè)試后，至少等于尚未涂覆有助于磨邊的頂涂層的鏡片(批次號(hào)4)的那些和比未根據(jù)本發(fā)明處理的鏡片(批次號(hào)6)(其有利于磨邊的臨時(shí)頂涂層是在該防污層的沉積之后立即并且沒有處理地沉積的)的那些高得多的后退角值。3.3.第三系列的鏡片復(fù)制第二系列的鏡片的測(cè)試，但通過改變沉積有助于磨邊的頂涂層之前和之后的鏡片的儲(chǔ)存時(shí)間和條件。批次號(hào)6作為參考重復(fù)。結(jié)果在圖3中描繪。這些結(jié)果表明，根據(jù)本發(fā)明處理的鏡片(批次號(hào)8至12)具有等于尚未涂覆有助于磨邊的頂涂層的鏡片(批次號(hào)7)的那些的初始()后退角值和在耐久性測(cè)試后比未根據(jù)本發(fā)明處理的鏡片(批次號(hào)6)(其有利于磨邊的臨時(shí)頂涂層是在沉積該防污層之后立即并且沒有處理地沉積的)的那些高得多的后退角值。3.4.第四系列的鏡片如在通用程序中指出的用SYRUS3機(jī)器使用OPTOOL和19nm的編程厚度制造三批鏡片(批次號(hào)13、14和15)。條件如下：在耐久性測(cè)試之前和之后的后退角測(cè)量的結(jié)果在圖4中給出。這些結(jié)果表明，本發(fā)明的方法(批次號(hào)13)使該防污層能保留其初始特性(即在沉積和去除有助于磨邊的頂涂層之前的特性(批次號(hào)14))，特別是后退角的值，根據(jù)本發(fā)明處理的鏡片的后退角比對(duì)照鏡片(批次號(hào)15)的后退角大至少8°。3.5第五系列的鏡片(其中將水釋放到真空沉積機(jī)中的實(shí)例)。用于沉積的真空裝置是SATIS1200DLF機(jī)器。根據(jù)以上1.1中描述的程序制備鏡片，除了減反射涂層是由以下項(xiàng)組成的疊層：二氧化硅子層、約20nm的薄氧化鋯層(Z1)、約20nm的薄二氧化硅層(Q1)、約70nm的厚氧化鋯層(Z2)、非常薄的ITO(銦錫氧化物)層、約80nm的厚二氧化硅層(Q2)，約6nm(實(shí)際獲得的厚度)的OptoolDSX防污層，MgF2(約20nm)+1nmMgO頂涂層。在參比(對(duì)比)實(shí)例中，邁斯納的除冰是在沉積MgO層之后并在減壓開始時(shí)進(jìn)行的(參比)。相對(duì)于該參比，批次號(hào)16(本發(fā)明)的實(shí)例在于在沉積DSX之后并在沉積MgF2之前進(jìn)行邁斯納的除冰。相對(duì)于批次號(hào)16的實(shí)例，實(shí)例(批次號(hào)17)(本發(fā)明)在于在高溫：在機(jī)器的加熱器(位于圓盤傳送器上方的金屬電阻器)上讀取的100℃下進(jìn)行整個(gè)過程。批次號(hào)17(本發(fā)明)的實(shí)例使能夠汽化位于邁斯納上的水用于在沉積MgF2之前引發(fā)DSX的水解和加速接枝。此實(shí)例將水解反應(yīng)與濕度和溫度的增加結(jié)合。工藝參數(shù)。參比測(cè)試Q2：在沉積之前的壓力9.1E-4PaOptoolDSX：在沉積之前的壓力6.9E-4PaMgF2：在沉積之前的壓力6.5E-4PaMgO：在沉積之前的壓力5.9E-4Pa實(shí)例批次號(hào)16Q2：在沉積之前的壓力1E-3PaOptoolDSX：在沉積之前的壓力7.9E-4Pa在下一步驟之前的邁斯納除冰和泵送：達(dá)到的最大壓力1.06E0Pa/時(shí)間10分鐘MgF2：在沉積之前的壓力2E-3PaMgO：在沉積之前的壓力1.7E-3Pa實(shí)例批次號(hào)17在100°下加熱Q2：在沉積之前的壓力8.5E-3PaOptoolDSX：在沉積之前的壓力6E-4Pa在下一步驟之前的邁斯納除冰和泵送：達(dá)到的最大壓力1.25E0Pa/時(shí)間13分鐘MgF2：在沉積之前的壓力2E-3PaMgO：在沉積之前的壓力1.8E-3Pa結(jié)果參比(對(duì)比)測(cè)試：在耐久性測(cè)試之后的后退角：小于90°批次號(hào)16(本發(fā)明)：在耐久性測(cè)試之后的后退角：95°批次號(hào)17(本發(fā)明)：在耐久性測(cè)試之后的后退角：97.5°當(dāng)前第1頁1 2 3