專利名稱：一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其涉及一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)。
背景技術(shù)：
眾所周知，曝光機(jī)是指通過開啟燈光發(fā)出UVA波長(zhǎng)的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉(zhuǎn)移到涂有感光物質(zhì)的表面上的設(shè)備。以往在對(duì)產(chǎn)品曝光的過程中是使用單面曝光的。隨著世界微電子技術(shù)的不斷創(chuàng)新，一些特殊器件如傳感器、雙向可控硅、大功率整流器件的需求量與日俱增，半導(dǎo)體制造行業(yè)越來越多地需要用特殊的光刻方法作為電力半導(dǎo)體器件的加工手段，因此雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)的特殊地位越來越突出。但是現(xiàn)有的雙面曝光機(jī)在進(jìn)行曝光的過程中，首先把產(chǎn)品放置在加工平臺(tái)上由掩膜板蓋在所要曝光產(chǎn)品的表面上，之后通過光源對(duì)掩膜板照射，將掩膜板內(nèi)的圖案投印在產(chǎn)品表面，之后取出產(chǎn)品再放入下一個(gè)待加工產(chǎn)品，這樣分段的操作不僅在加工的時(shí)候帶來許多不方便，同時(shí)影響了生產(chǎn)的效率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型公開了一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，用以解決現(xiàn)有技術(shù)曝光機(jī)在工作的過程中效率不高的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:—種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，包括:上臺(tái)框與下臺(tái)框，所述上臺(tái)框設(shè)于所述下臺(tái)框上方，所述上臺(tái)框與所述下臺(tái)框之間的空間形成曝光區(qū)域，所述上臺(tái)框與下臺(tái)框均為矩形，所述下臺(tái)框下側(cè)面頂角處均設(shè)有一小氣缸，所述上臺(tái)框下側(cè)面頂角處均設(shè)有一大氣缸，所述上臺(tái)框與下臺(tái)框兩側(cè)下方均設(shè)有一支撐板，所述小氣缸與所述大氣缸均連接于所述支撐板頂面，每一所述支撐板的長(zhǎng)度長(zhǎng)于所述上臺(tái)框與所述下臺(tái)框的長(zhǎng)度，兩所述支撐板之間設(shè)有一滾軸，且所述滾軸位于曝光區(qū)域的一側(cè)，所述滾軸與所述曝光區(qū)域之間設(shè)有固定傳送滑輪。上述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，每一所述支撐板頂面位于所述大氣缸的外側(cè)各設(shè)有一上燈滑軌支架，兩所述上燈滑軌支架之間設(shè)有一上燈滑軌。上述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，所述上燈滑軌下側(cè)設(shè)有上發(fā)光元件。上述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，兩所述支撐板之間且位于所述下臺(tái)框下方設(shè)有一下燈滑軌。 上述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，所述下燈滑軌上方設(shè)有一下發(fā)光元件。上述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，所述支撐板頂面呈階梯型，所述支撐板頂面由高至下依次為小氣缸、大氣缸以及上燈滑軌支架。本實(shí)用新型的一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，采用了如上方案的具有以下的效果，有效地提高曝光機(jī) 在生產(chǎn)過程中連續(xù)性減少加工時(shí)運(yùn)輸材料的時(shí)間。
通過閱讀參照如下附圖對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，實(shí)用新型的其它特征，目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯。圖1為本實(shí)用新型一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)的示意圖；圖2為本實(shí)用新型一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)的俯視曝光區(qū)域的示意圖；圖3為本實(shí)用新型一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)中固定傳送滑輪的示意圖。如圖參考:上臺(tái)框1、下臺(tái)框2、小氣缸3、大氣缸4、支撐板5、滾軸6、固定傳送滑輪
7、上燈滑軌支架8、上燈滑軌81、上發(fā)光元件811、下燈滑軌9、下發(fā)光元件911。
具體實(shí)施方式
為了使實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)造特征、達(dá)成目的和功效易于明白了解，下結(jié)合具體圖示，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。圖1為實(shí)用新型一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)。如圖1所示，一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，包括:上臺(tái)框I與下臺(tái)框2，上臺(tái)框I設(shè)于下臺(tái)框2上方，上臺(tái)框I與下臺(tái)框2之間的空間形成曝光區(qū)域，該曝光區(qū)域(圖中未顯示標(biāo)識(shí))用于對(duì)產(chǎn)品的曝光，上臺(tái)框I與下臺(tái)框2均為矩形，下臺(tái)框2下側(cè)面頂角處均設(shè)有一小氣缸3，上臺(tái)框I下側(cè)面頂角處均設(shè)有一大氣缸4，上臺(tái)框I與下臺(tái)框2兩側(cè)下方均設(shè)有一支撐板5，小氣缸3與大氣缸4均連接于支撐板5頂面 ，每一支撐板5的長(zhǎng)度長(zhǎng)于上臺(tái)框I與下臺(tái)框2的長(zhǎng)度，兩支撐板5之間設(shè)有一滾軸6，且滾軸6位于曝光區(qū)域的一側(cè)，滾軸6與所述曝光區(qū)域之間設(shè)有固定傳送滑輪7。 上述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，每一支撐板5頂面位于大氣缸4的外側(cè)各設(shè)有一上燈滑軌支架8，兩上燈滑軌支架8之間設(shè)有一上燈滑軌81。在本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，上燈滑軌81下側(cè)設(shè)有上發(fā)光元件811，在本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，兩支撐板5之間且位于下臺(tái)框2下方設(shè)有一下燈滑軌9。在本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，下燈滑軌9上方設(shè)有一下發(fā)光元件911。在本實(shí)用新型的具體實(shí)施例中，支撐板5頂面呈階梯型，支撐板5頂面由高至下依次為小氣缸3、大氣缸4以及上燈滑軌支架8。在本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
中，首先將所要曝光的材料放置在滾軸6，將產(chǎn)品的一端插入固定傳送滑輪7內(nèi)由固定傳送滑輪7控制產(chǎn)品送入上臺(tái)框I與下臺(tái)框2之間的曝光區(qū)域內(nèi)，之后由大氣缸4控制上臺(tái)框I的上下移動(dòng)，由小氣缸3控制下臺(tái)框2的上下移動(dòng)，將送入曝光區(qū)域內(nèi)的產(chǎn)品進(jìn)行曝光，完成曝光后上臺(tái)框I向上，下臺(tái)框2向下通過固定傳送滑輪7使曝光后的產(chǎn)品送出并同時(shí)將待加工的產(chǎn)品送入曝光區(qū)域內(nèi)。綜上所述，本實(shí)用新型一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，有效地提高曝光機(jī)在生產(chǎn)過程中連續(xù)性減少加工時(shí)運(yùn)輸材料的時(shí)間，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，給人的使用帶來了更大的便捷。以上對(duì)實(shí)用新型的具體實(shí)施例進(jìn)行了描述。需要理解的是，實(shí)用新型并不局限于上述特定實(shí)施方式，其中未盡詳細(xì)描述的設(shè)備和結(jié)構(gòu)應(yīng)該理解為用本領(lǐng)域中的普通方式予以實(shí)施；本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在權(quán)利要求的范圍內(nèi)做出各種變形或修改，這并不影響實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)內(nèi)容。
權(quán)利要求1.一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其特征在于，包括:上臺(tái)框與下臺(tái)框，所述上臺(tái)框設(shè)于所述下臺(tái)框上方，所述上臺(tái)框與所述下臺(tái)框之間的空間形成曝光區(qū)域，所述上臺(tái)框與下臺(tái)框均為矩形，所述下臺(tái)框下側(cè)面頂角處均設(shè)有一小氣缸，所述上臺(tái)框下側(cè)面頂角處均設(shè)有一大氣缸，所述上臺(tái)框與下臺(tái)框兩側(cè)下方均設(shè)有一支撐板，所述小氣缸與所述大氣缸均連接于所述支撐板頂面，每一所述支撐板的長(zhǎng)度長(zhǎng)于所述上臺(tái)框與所述下臺(tái)框的長(zhǎng)度，兩所述支撐板之間設(shè)有一滾軸，且所述滾軸位于曝光區(qū)域的一側(cè)，所述滾軸與所述曝光區(qū)域之間設(shè)有固定傳送滑輪。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其特征在于，每一所述支撐板頂面位于所述大氣缸的外側(cè)各設(shè)有一上燈滑軌支架，兩所述上燈滑軌支架之間設(shè)有一上燈滑軌。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其特征在于，所述上燈滑軌下側(cè)設(shè)有上發(fā)光元件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其特征在于，兩所述支撐板之間且位于所述下臺(tái)框下方設(shè)有一下燈滑軌。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其特征在于，所述下燈滑軌上方設(shè)有一下發(fā)光兀件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其特征在于，所述支撐板頂面呈階梯型，所述 支撐板頂面由高至下依次為小氣缸、大氣缸以及上燈滑軌支架。
專利摘要本實(shí)用新型公開一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，其中，包括上臺(tái)框與下臺(tái)框，所述上臺(tái)框與所述下臺(tái)框之間的空間形成曝光區(qū)域，所述上臺(tái)框與下臺(tái)框兩側(cè)下方均設(shè)有一支撐板，兩所述支撐板之間設(shè)有一滾軸，且所述滾軸位于曝光區(qū)域的一側(cè)，所述滾軸與所述曝光區(qū)域之間設(shè)有固定傳送滑輪。通過使用本實(shí)用新型一種新型蝕刻片連續(xù)曝光機(jī)，有效地提高曝光機(jī)在生產(chǎn)過程中連續(xù)性減少加工時(shí)運(yùn)輸材料的時(shí)間，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，給人的使用帶來了更大的便捷。
文檔編號(hào)G03F7/20GK203133475SQ20132013226
公開日2013年8月14日 申請(qǐng)日期2013年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2013年3月22日
發(fā)明者何公明 申請(qǐng)人:寧波東盛集成電路元件有限公司