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一種調(diào)焦調(diào)平裝置的制作方法

文檔序號(hào):2795809閱讀:585來源:國知局
專利名稱:一種調(diào)焦調(diào)平裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于投影光刻機(jī)調(diào)焦調(diào)平技術(shù),具體地涉及一種具有光柵和參考光柵的調(diào)焦調(diào)平裝置。
背景技術(shù)
調(diào)平調(diào)焦系統(tǒng)中主要的技術(shù)路線有基于光柵莫爾條紋技術(shù)(US5191200),基于狹縫和探測(cè)器陣列的技術(shù)(us 6765647B1)和基于針孔和CCD的調(diào)焦技術(shù)(US 6081614),其中只有US 5191200為差分光路,穩(wěn)定性高,它通過偏振片起偏得到兩束強(qiáng)度相等的O光(ordinary rays,尋常光線)和 e 光(extraordinary rays,非尋常光線),利用 SAVART 板得到有偏置的兩束光路,最后經(jīng)過差分得到硅片的位置。但為得到強(qiáng)度相等的O光和e光,起偏器須呈45度放置,這樣只利用了從硅片上反射回來光的一半能量,能量利用率低,信噪比差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種調(diào)焦調(diào)平裝置,充分利用硅片反射回來的光線,提高光能的有效利用率和調(diào)焦調(diào)平信號(hào)的信噪比。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供的調(diào)焦調(diào)平裝置,由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)組成,其中成像系統(tǒng)中包括有第一偏振片、1/4波片和SAVART板組成的起偏光路,由該起偏光路將接收到的硅片反射光分成兩束偏振方向垂直,空間上錯(cuò)開半個(gè)周期的兩幅圖像。所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,照明系統(tǒng)為遠(yuǎn)心科勒照明系統(tǒng)。所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,探測(cè)系統(tǒng)將起偏光路的光線匯聚到探測(cè)器上。所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,探測(cè)系統(tǒng)中包括有光彈調(diào)制器和第二偏振片,光彈調(diào)制器將偏振方向不同的兩幅圖像沿時(shí)間軸進(jìn)行調(diào)制。所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,光彈調(diào)制器由驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制。本發(fā)明提供的調(diào)焦調(diào)平裝置,利用第一偏振片和1/4波片作為起偏光路產(chǎn)生O光和e光,并充分利用硅片反射回來的光線,提高光能的有效利用率,提高調(diào)焦調(diào)平信號(hào)的信噪比。


圖I是本發(fā)明的調(diào)焦調(diào)平裝置的總體光路圖;圖2是光線在硅片光刻膠上的反射率;圖3是本發(fā)明調(diào)焦調(diào)平裝置中起偏光路圖。
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1,為本發(fā)明提供的用于投影光刻機(jī)的調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)裝置,包含有照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)。其中的照明系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)均采用公知技術(shù)而成,因此對(duì)此兩部分不作過多的描述。照明系統(tǒng)中,s為寬光譜光源,可以是鹵素?zé)艋蚨囝wLED組成。L1、L2和L3構(gòu)成遠(yuǎn)心科勒照明系統(tǒng),其中STl為照明系統(tǒng)的視場(chǎng)光闌,ST2為照明系統(tǒng)的孔徑光闌,L4、L5為照明系統(tǒng)中的投影物鏡。
成像系統(tǒng)中,由第一組成像物鏡L6、L7共同將調(diào)焦標(biāo)記Gl成像到參考光柵G2的位置。本發(fā)明的成像系統(tǒng)中設(shè)有起偏光路,該起偏光路的結(jié)構(gòu)可參閱圖3所示,起偏光路由第一偏振片1、1/4波片2和SAVART板3組成。照明系統(tǒng)的調(diào)焦標(biāo)記Gl成像通過硅片A產(chǎn)生的反射光,經(jīng)由起偏光路分成兩束偏振方向垂直,空間上錯(cuò)開半個(gè)周期的兩幅圖像,并由探測(cè)系統(tǒng)的第二組成像物鏡L8、L9將經(jīng)過參考光柵G2的光線匯聚到探測(cè)器B上,由放大電路7和光彈調(diào)制器4的驅(qū)動(dòng)6的共同作用下完成信號(hào)的放大。探測(cè)系統(tǒng)第二成像物鏡L8、L9之間設(shè)有光彈調(diào)制器4和第二偏振片5,在驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)6的作用下,光彈調(diào)制器4將偏振方向不同的兩幅圖像沿時(shí)間軸進(jìn)行調(diào)制,前半個(gè)周期通過O光,后半個(gè)周期通過e光,當(dāng)硅片不離焦時(shí),前后半個(gè)周期信號(hào)強(qiáng)度相同,當(dāng)硅片離焦時(shí),前后半個(gè)周期信號(hào)強(qiáng)度不同,通過比較前后半個(gè)周期的光強(qiáng)差,就可以判斷硅片的離焦方向和離焦量,最后經(jīng)放大電路7通過控制機(jī)構(gòu)8將信號(hào)反饋給執(zhí)行機(jī)構(gòu)9,實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)調(diào)焦調(diào)平。本發(fā)明的技術(shù)特征是,采用第一偏振片、1/4波片和SAVART板組成起偏光路,由此起偏方式得到最大的光強(qiáng),提高探測(cè)信噪比。入射到硅片上的光線為自然光,沒有明顯的偏振態(tài),經(jīng)過硅片反射后,其中s偏振態(tài)光的反射率如圖2中曲線a所示,p偏振態(tài)光的反射率如圖2中曲線b所示。美國專利US 5191200中利用45度偏振片產(chǎn)生O光和e光,光總強(qiáng)度為Ii(a+b)/2,光強(qiáng)度變?yōu)槿肷涔鈴?qiáng)度的(a+b)/2倍。本發(fā)明的起偏方式如圖3所示,第一偏振片I是0度放置,讓s偏振態(tài)光全部透光,p偏振態(tài)被遮擋,再利用1/4波片產(chǎn)生一個(gè)圓偏振光,圓偏振光同樣可以分解強(qiáng)度相等的為O光和e光,效果等同于偏振片起偏法,但光總強(qiáng)度變?yōu)?@,因?yàn)閍>b,所以1^> Ii(a+b)/2,因此本發(fā)明得到更強(qiáng)的出射光用于調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)的探測(cè),得到更高的信噪比。
權(quán)利要求
1.一種調(diào)焦調(diào)平裝置,由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)組成,其中 成像系統(tǒng)中包括有第一偏振片、1/4波片和SAVART板組成的起偏光路,由該起偏光路將接收到的硅片反射光分成兩束偏振方向垂直,空間上錯(cuò)開半個(gè)周期的兩幅圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,照明系統(tǒng)為遠(yuǎn)心科勒照明系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,探測(cè)系統(tǒng)將起偏光路的光線匯聚到探測(cè)器上。
4.根據(jù)權(quán)利要求I或3所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,探測(cè)系統(tǒng)中包括有光彈調(diào)制器和第二偏振片,光彈調(diào)制器將偏振方向不同的兩幅圖像沿時(shí)間軸進(jìn)行調(diào)制。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的調(diào)焦調(diào)平裝置,其中,光彈調(diào)制器由驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制。
全文摘要
一種調(diào)焦調(diào)平裝置,由照明系統(tǒng)、成像系統(tǒng)和探測(cè)系統(tǒng)組成,其中成像系統(tǒng)中包括有第一偏振片、1/4波片和SAVART板組成的起偏光路,由該起偏光路將接收到的硅片反射光分成兩束偏振方向垂直,空間上錯(cuò)開半個(gè)周期的兩幅圖像。本發(fā)明提供的調(diào)焦調(diào)平裝置,利用第一偏振片和1/4波片作為起偏光路產(chǎn)生o光和e光,并充分利用硅片反射回來的光線,提高光能的有效利用率,提高調(diào)焦調(diào)平信號(hào)的信噪比。
文檔編號(hào)G03F9/00GK102778822SQ201110321960
公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2011年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月20日
發(fā)明者劉廣義, 周翊, 王宇, 齊月靜 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院光電研究院
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