專利名稱：銘版結(jié)構(gòu)及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種銘版結(jié)構(gòu)及其制造方法，且特別是有關(guān)于一種質(zhì) 輕、成本低廉且具金屬質(zhì)感的銘版結(jié)構(gòu)及其制造方法。
背景技術(shù)：
目前的銘版可分為塑膠銘版與金屬銘版兩種，其中在金屬銘版的制程 中，多是在金屬材料上以機械加工或蝕刻的方式制作出極具立體感的圖文， 加上金屬材料本身具有表面光亮的特性，故金屬銘版具有較為美觀的優(yōu)點。 然而，金屬銘版通常成本高且制程費時，又不易印刷，且一般的金屬銘版厚 重且撓性差，以致于具有不便貼附于輕薄物品或是弧形物品的缺點。此外， 塑膠銘版雖然具有輕且薄，并方便貼附于各種物品上的優(yōu)點，但其卻僅能顯 現(xiàn)出平面式的圖文，又不具金屬質(zhì)感，外觀上較金屬銘版單調(diào)無變化。因此，需使用何種材料及制程來制作銘版才能使其同時兼具金屬銘版與 塑膠銘版的優(yōu)點，實為相關(guān)產(chǎn)業(yè)亟欲探討與研發(fā)的方向之一。發(fā)明內(nèi)容有鑒于現(xiàn)有技術(shù)所制成的金屬銘版與塑膠銘版分別存在有高成本、制程 耗時、厚重、撓性差、不易印刷及不具立體感及金屬質(zhì)感的問題，本發(fā)明遂 揭露一種銘版結(jié)構(gòu)及其制造方法，以提供兼具成本低廉、容易印刷、具可撓 性易貼附、輕且薄，以及有金屬質(zhì)感與立體感之優(yōu)點的銘版。本發(fā)明提供一種銘版的制造方法，其實行步驟包括提供具有第一表面 與第二表面的透光基板，其中透光基板的第一表面具有至少一組圖案；在該 透光基板的該第一表面上形成至少一色層；于該色層上形成至少一共形反射 層；以及于該共形反射層上形成至少一第一保護層。本發(fā)明提供一種銘版結(jié)構(gòu)，包括透光基板、至少一色層、至少一共形反 射層以及至少一第一保護層。其中，透光基板具有第一表面及第二表面，且 第一表面具有至少一組圖案；色層是配置于透光基板的第一表面上，共形反 射層是配置于色層上，第一保護層則是配置于共形反射層上。本發(fā)明所揭露的銘版結(jié)構(gòu)及其制造方法如上，與現(xiàn)有技術(shù)之間的差異在 于本發(fā)明是先在光阻層上形成納米等級的圖案，接著將此圖案轉(zhuǎn)印至銘版制 程中所需的射出成型的母模上，并利用此母模進行射出成型，以將納米等級 的圖案復制于塑膠基板上，使塑膠基板具有納米等級的圖案。后續(xù)再于塑膠 基板上形成共形反射層，以顯現(xiàn)出因光線在這些圖案間產(chǎn)生衍射而造成的炫 彩效果。通過上述手段，本發(fā)明可以制程時間短、容易印刷、具可撓性易貼 附、輕且薄及成本低廉的塑膠材質(zhì)，制作出具有金屬質(zhì)感及立體感圖案的銘 版。


圖1A至圖1C為本發(fā)明銘版在第一實施例中的制造流程剖面示意圖。 圖2A至圖2E為本發(fā)明的透光基板在一實施例中的制造流程剖面示意圖。圖3為本發(fā)明銘版在第二實施例中的剖面示意圖。圖4為本發(fā)明銘版在第三實施例中的剖面示意圖。圖5為本發(fā)明銘版母基板在第四實施例中的剖面示意圖。圖6為本發(fā)明銘版母基板在第二實施例中的剖面示意圖。圖7為本發(fā)明銘版母基板在第三實施例中的剖面示意圖。
具體實施方式
以下將配合附圖及實施例來詳細說明本發(fā)明的實施方式，藉此對本發(fā)明 如何應用技術(shù)手段來解決技術(shù)問題并達成技術(shù)效果的實現(xiàn)過程能充分理解 并據(jù)以實施。圖1A至圖1C繪示為本發(fā)明銘版在第一實施例中的制造流程剖面示意 圖。請參照圖1A，首先提供透光基板110,其中透光基板110的第一表面112是具有圖案113,而圖案113可以包括文字(如廠商名或產(chǎn)品名等)、 數(shù)字、符號及圖像(如商標等)至少其中之一。構(gòu)成透光基板110的材質(zhì)例 如是透光性佳的聚合物材料，如聚苯乙烯(polystyrene, PS)、環(huán)烯烴共聚 物(metallocene based Cyclic Olefin Copolymer , mCOC )或聚碳酸酉旨 (polycarbonate, PC)等。而且，透光基板110例如是通過射出成型制程所 形成。以下將舉實施例詳述形成透光基板110的流程。圖2A至圖2E繪示為本發(fā)明的透光基板在一實施例中的制造流程剖面 示意圖。請參照圖2A，首先在底板101上形成具有第一圖案102a的圖案化 光阻層102，其中底板101例如是一玻璃板，而形成圖案化光阻層102的方 法例如是先在底板101上形成一層光阻層(未繪示)，然后再對此光阻層進 行曝光及顯影制程，即可形成圖案化光阻層102。其中，此光阻層的曝光制 程中所使用的光源例如是波長介于0.7微米至0.75微米之間的激光，以便于 在光阻層上蝕刻出納米等級的第一圖案102a。具體來說，本實施例在曝光 制程中所使用的光源是波長為0.74微米的激光，而圖案化光阻層102的第 一圖案102a的高度h例如是介于60微米至110微米之間。請參照圖2B，在完成圖案化光阻層102后，接著即是在圖案化光阻層 102上形成金屬層103。在本實施例中，金屬層103可以通過蒸鍍 (evaporation)制程、濺鍍(sputtering)制程或電鍍(electroplating)制程 等來完成。之后，將金屬層103從底板101上剝離，如圖2C所示。此時， 金屬層103上是轉(zhuǎn)印有與圖案化光阻層102的第一圖案102a相反的圖案。值得注意的是，在從底板101上將金屬層103剝離下來后，還可以再次 以激光束或其他光源對金屬層103進行微影及蝕刻制程，以便于在金屬層 103上再次形成其他圖案。后續(xù)再利用金屬層103作為母模，并將透光塑料 104填入射出成型機(未繪示)，由噴嘴105將透光塑料104射出成型，如 圖2D所示。之后成型于母膜(金屬層103)上的即為圖1A的透光基板110, 如圖2E所示。其中，透光基板110的第一表面112所具有的圖案113即是 從金屬層103上的圖案轉(zhuǎn)印而來。也就是說，圖案113可以包括圖案化光阻 層102上的第一圖案102a，也可以包括有在將金屬層103從底板101上剝 離后所進行的微影及蝕刻制程生成的圖案。請繼續(xù)參照圖1A，形成色層120的方法例如是絲網(wǎng)印刷(silk screen printing)或膠版印刷(offset printing)。值得注意的是，雖然圖中僅繪示出 單一色層120,但其并非用以限定本發(fā)明，熟悉此技藝者可自行依照實際所 需來決定色層120的層數(shù)。而且，在具有多層色層120的實施例中，可以是 一并通過絲網(wǎng)印刷制程或膠版印刷制程來形成所有色層120,也可以是分別 以不同的印刷制程來形成不同的色層120。請參照圖1B，在透光基板110的第一表面112上形成色層120后，接 著在色層120上形成共形反射層130，其中形成共形反射層130的方法例如 是將金屬材料通過蒸鍍制程或濺鍍制程形成于色層120上，而共形反射層 130的材質(zhì)可以是鋁、銅、金、銀、鎳或其他合金金屬，但并不限定于此。 值得一提的是，由于共形反射層130是依照透光基板110的第一表面112的 圖案113而共形地形成于透光基板110的第一表面112上方，因此能夠?qū)⒐?線在第一表面112的圖案113間的衍射效果顯現(xiàn)出來，進而使這些圖案113 4交具立體感。請參照圖1C，在共形反射層130形成至少一層第一保護層140a，此時 即完成銘版100的制作。其中，形成第一保護層140a的方法例如是將硬化 膠涂布于共形反射層130上。在本實施例中，第一保護層140a例如是共形 膜層，也就是說，第一保護層140a是共形地配置于共形反射層130上，且 為了使銘版100的表面平順光滑，還可以在第一保護層140a上形成一層平 坦層150。其中，平坦層150例如是通過油墨噴灑制程所形成的油墨層，以 借由顆粒較大的油墨分子來填平第一保護層140a的凹凸表面。除了在共形反射層130上形成第一保護層140a之外，本實施例亦可以 同時形成至少一第二保護層140b在透光基板IIO的第二表面114上。其中， 第二保護層140b的制程與材質(zhì)例如是與第一保護層140a相同。由此可知， 第一保護層140a除了可以保護共形反射層130以外，亦可以與第二保護層 140b同時增強銘版100的表面硬度，以防止銘版100表面遭外力刮傷而受 損。以圖1C的銘版100來說，外界光線是從透光基板110的第二表面114 入射至銘版100內(nèi)，并在透光基板110的圖案113之間產(chǎn)生書于射后，再由共形反射層130將其從透光基板110的第二表面114反射出，進而使觀看者能 夠觀看到具立體感的圖案113。特別的是，在本發(fā)明的其他實施例中，更可以利用摻有摻質(zhì)的材料來形 成具有特殊紋路或圖案的第二保護層140b。如此一來，觀看者會在從第二 保護層140b上方觀看銘版100的圖案的同時，看到第二保護層140b內(nèi)的特 殊紋路或圖案，而此特殊紋路或圖案即可用以作為銘版100防偽的判斷依據(jù)。以下將說明本發(fā)明銘版結(jié)構(gòu)。請參照圖1C,銘版100包括透光基板110、 至少一色層120、至少一共形反射層130、至少一第一保護層140a以及至少 一第二保護層140b。其中，透光基板110具有第一表面112與第二表面114, 且其第一表面112具有至少一組圖案113。色層120是配置于透光基板110 的第一表面112上，且其可以是絲網(wǎng)印刷層或是膠版印刷層。在其他實施例 中，銘版IOO可以包括多層色層120，且這些色層可以是通過相同印刷制程 所形成，也可以是通過不同的印刷制程所形成，本發(fā)明并未對其加以限制。承上述，共形反射層130是共形地配置于色層120上，以便于將光線在 透光基板110的第一表面112的圖案113間的衍射效果顯現(xiàn)出來。其中，共 形反射層130的厚度例如是55納米。第一保護層140a是共形地配置于共形 反射層130上，用以保護共形反射層130，并同時與透光基板110的第二表 面114上的第二保護層140b增加鋁版100的表面硬度。其中，第一保護層 140a與第二保護層140b的材質(zhì)例如是硬化膠。在本實施例中，在第一保護層140a上更配置有平坦層150,以使銘版 IOO的表面平順光滑。其中，平坦層150例如是通過油墨噴灑制程所制成的 油墨層。為了方便將本發(fā)明銘版貼附在各式各樣的產(chǎn)品上，本發(fā)明在第二實施例 中還可以在完成圖1C所示的銘版100后，于第一保護層140a上形成背膠 160,如圖3所示。另一方面，本發(fā)明于第三實施例中亦可在第二保護層140b 上形成一透明膜170,如圖4所示，以便于更進一步保護銘版110。雖然前文系舉單一銘版的制程為例做說明，但其并非用以限定本發(fā)明。 本發(fā)明所揭露的方法亦適用于批量生產(chǎn)銘版的制程中，以下將舉實施例進行說明。圖5繪示為本發(fā)明在第四實施例中的銘版母基板的剖面示意圖。請同時 參照圖1C與圖5，本實施例與前述實施例的相異處在于前述實施例所使用的透光基板110尺寸與形狀即為銘版100的尺寸與形狀，而本實施例所使用 的透光基板510尺寸則是可以同時容納多片銘版100的大小，以便于在透光 基板上510利用上述制程制作至少一色層120、至少一共形反射層130、至 少一第一保護層140a以及至少一第二保護層140b，因而形成圖5所示的銘 版母基板501后，將其切成多片如圖1C所示的銘版100。其中，透光基板 510的第一表面512是具有多組可由文字及圖像至少其中之一所組成的圖案 113，且這些組圖案113可以是相同的圖案，也可以是不同的圖案。在切割 銘版母基板501的過程中，即是依據(jù)各組圖案113的所在位置及所欲制成的 銘版形狀來進行切割，以使切割出來的每片銘版100均具有一組圖案113。值得一提的是，如欲以批量制程生產(chǎn)具有背膠的銘版(如圖3所示)或 具有透明膜的銘版(如圖4所示)，則需先在第一保護層140a上形成背膠 160,如圖6所示，或是在第二保護層140b上形成透明膜170，如圖7所示， 之后再對銘版母基板501進行切割，即可制成與圖3及圖4所示相同的銘版。綜上所述，可知本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)之間的差異在于本發(fā)明是先在光阻層 上形成納米等級的圖案，接著將此圖案轉(zhuǎn)印至銘版制程中所需的射出成型的 母模上，再利用此母模進行射出成型,以將納米等級的圖案復制于塑膠基板 上，使塑膠基板具有納米等級的圖案。后續(xù)再于塑膠基板上形成共形反射層， 以顯現(xiàn)出因光線在這些圖案中產(chǎn)生衍射而造成的炫彩效果。通過上述手段， 本發(fā)明不但可以縮短銘版制程所需花費的時間，更可以容易印刷、具可撓性 易貼附、輕且薄及成本低廉的塑膠材質(zhì)，制作出具有金屬質(zhì)感及立體感圖案 的銘版。雖然本發(fā)明所揭露的實施方式如上，膽所述的內(nèi)容并非用以直接限定本 發(fā)明的專利保護范圍。任何本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者，在不脫 離本發(fā)明所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實施的形式上及細節(jié)上作些 許的更動。本發(fā)明的專利保護范圍，仍須以所附的權(quán)利要求書所界定者為準。
權(quán)利要求
1、一種銘版的制造方法，包括下列步驟提供一透光基板，該透光基板具有一第一表面與一第二表面，且該第一表面具有至少一組圖案；在該透光基板的該第一表面上形成至少一色層；于該色層上形成至少一共形反射層；以及于該共形反射層上形成至少一第一保護層。
2、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，其中該第一保護層為共形膜 層，且在形成該第一保護層之后，更包括在該第一保護層上形成至少一平坦層。
3、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，其中形成該平坦層的方法包 括油墨噴灑制程。
4、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，更包括于該透光基板的該第 二表面上形成一第二保護層。
5、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，更包括于該第二保護層上形 成一透明膜。
6、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，其中該透光基板的形成方法 包括下列步驟提供一底板；于該底板上形成一圖案化光阻層，其中該圖案化光阻層具有至少一第一 圖案；于該圖案化光阻層上形成一金屬層；將該金屬層從該底板上剝離，以將該第一圖案轉(zhuǎn)印至該金屬層；以及 利用該金屬層為母模，以透光塑料進行射出成型，以形成該透光基板。
7、 如權(quán)利要求6所述的銘版的制造方法，其中在該底板上形成該圖案 化光阻層的方法包括曝光及顯影制程，且該曝光制程系以波長介于0.7微米 至0.75微米之間的激光作為曝光光源。
8、 如權(quán)利要求6所述的銘版的制造方法，其中在將該金屬層從該底板 上剝離之后以及利用該金屬層為母膜進行射出成型之前，更包括對該金屬層 進行微影蝕刻制程。
9、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，其中形成該些色層的方法包 括絲網(wǎng)印刷與膠版印刷至少其中之一 。
10、 如權(quán)利要求1所述的銘版的制造方法，其中形成該共形反射層的方 法包括蒸鍍及濺鍍其中之一 。
11、 一種銘版結(jié)構(gòu)，包括一透光基板，具有一第一表面與一第二表面，其中該第一表面具有至少 一組圖案；至少一色層，配置于該透光基板的該第一表面上； 至少一共形反射層，共形地配置于該色層上；以及 至少一第一保護層，配置于該共形反射層上。
12、 如權(quán)利要求11所述的銘版結(jié)構(gòu)，其中該第一保護層為共形膜層， 且該銘版結(jié)構(gòu)更包括一平坦層，配置于該第一保護層上。
13、 如權(quán)利要求12所述的鋁版結(jié)構(gòu)，其中該平坦層為油墨層。
14、 如權(quán)利要求11所述的銘版結(jié)構(gòu)，更包括至少一第二保護層，配置 于該透光基纟反的該第二表面上。
15、 如權(quán)利要求14所述的銘版結(jié)構(gòu)，其中該第二保護層的材質(zhì)為硬化膠。
16、 如權(quán)利要求14所述的銘版結(jié)構(gòu)，更包括至少一透明膜，配置于該第二保護層上。
17、 如權(quán)利要求11所述的銘版結(jié)構(gòu)，其中該共形反射層的厚度為55 納米。
18、 如權(quán)利要求11所述的銘版結(jié)構(gòu)，其中該第一保護層的材質(zhì)為硬化膠。
19、 如權(quán)利要求11所述的銘版結(jié)構(gòu)，其中該些色層包括絲網(wǎng)印刷層及 膠版印刷層至少其中之一。
20、 如權(quán)利要求11所述的銘版結(jié)構(gòu)，其中該組圖案包括文字、數(shù)字、 符號及圖像至少其中之一。
全文摘要
一種銘版結(jié)構(gòu)及其制造方法，其系先在光阻層上形成納米等級的圖案，再將此光阻層上的圖案轉(zhuǎn)印至銘版制程中所需的射出成型的母模上，然后依據(jù)此母模制作出具有納米等級的圖案的塑膠基板，并于此塑膠基板上形成共形反射層，以將光線在這些納米等級的圖案間的衍射效果顯現(xiàn)出來。通過此技術(shù)手段，即可制作出成本低廉、容易印刷、具可撓性易貼附、輕且薄，以及具有金屬質(zhì)感與立體感的銘版。
文檔編號G03F7/20GK101556754SQ20081008965
公開日2009年10月14日 申請日期2008年4月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月11日
發(fā)明者邱健臺, 邱德誠, 陳志盟 申請人:嵩格光電股份有限公司