專利名稱：：掃描型曝光裝置、微元件的制造方法、光掩模、投影光學裝置以及光掩模的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明是關(guān)于將第1物體(光掩模(mask)、光掩模(reticle)等)的像投影曝光至第2物體(基板等)上的掃描型曝光裝置、使用該掃描型曝光裝置的微元件的制造方法、用于該掃描型曝光裝置的光掩模、將第1物體的像投影至第2物體上的投影光學裝置以及用于該掃描型曝光裝置的光掩模的制造方法。
背景技術(shù)：
：在制造例如半導體元件或液晶顯示元件等時，使用了投影曝光裝置，該投影曝光裝置將光掩模(reticle,photomask等)的圖案經(jīng)過投影光學系統(tǒng)，投影至涂敷著抗蝕劑(resist)的薄板(玻璃板(glassplate)或半導體晶圓等)上。先前多使用投影曝光裝置(步進式曝光機(stepper))，該投影曝光裝置以步進重復(fù)(stepandrepeat)方式，將各個光掩模的圖案一并曝光至薄板上的各照射(shot)區(qū)域。近年來，取代使用1個大的投影光學系統(tǒng)，提出了步進掃描(Stepandscan)方式的投影曝光裝置，其沿著掃描方向，將具有相等倍率的多個小的部分^:影光學系統(tǒng)以規(guī)定間隔配置為多行，且一邊對光掩模及薄板進行掃描，一邊利用各部分投影光學系統(tǒng)將各個光掩模的圖案曝光至薄板上。在上述步進掃描方式的投影曝光裝置中，利用裝備反射棱鏡、凹面鏡以及各透鏡而構(gòu)成的反射折射光學系統(tǒng)，一次形成中間像，進一步利用另一層的反射折射光學系統(tǒng)，將光掩模上的圖案以正立正像等倍率地曝光至薄板上。近年來，薄板日益大型化，已使用超過2m見方的薄板。此處，使用上述步進掃描方式的曝光裝置于大型薄板上進行曝光時，由于部分投影光學系統(tǒng)具有等倍的倍率，因此光掩模亦將大型化。關(guān)于光掩模的成本，由于必須維持光掩模基板的平面性，因而光掩模越大型化，其成本越高。又，為了形成通常的薄膜電晶體(thinfilmtransistor,TFT)部，必須具有4~5層光掩模，故而需要花費巨大的成本。因此，提出一種投影曝光裝置，將投影光學系統(tǒng)的放大倍率擴大，以此減小光掩模的大小(參照專利文獻l)。專利文獻l:日本專利特開平11-265848號公報然而，在上述投影曝光裝置的投影光學系統(tǒng)中，各投影光學系統(tǒng)配置了整個多透鏡(multilens)系統(tǒng)，以形成放大倍率。亦即，4吏由各投影光學系統(tǒng)所投影的掃描方向的位置以錯開倍率值的方式來配置各投影光學系統(tǒng)。因此，例如當將投影倍率設(shè)為1.25倍，且將投影光學系統(tǒng)的光掩模側(cè)的視場間隔設(shè)為200醒時，必須將投影光學系統(tǒng)薄板側(cè)的像場的間隔，設(shè)為投影光學系統(tǒng)光掩模側(cè)的視場的間隔的1.25倍，即250mm。然而，當投影光學系統(tǒng)光掩模側(cè)的視場間隔與投影光學系統(tǒng)薄板側(cè)的像場間隔相差超過數(shù)十腿時，會使透鏡設(shè)計上的自由度狹窄，且會牽連使投影光學系統(tǒng)的制造成本增加。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的課題在于提供一種搭載著具有放大的投影倍率的廉價的投影光學系統(tǒng)的掃描型曝光裝置、使用該掃描型曝光裝置的微元件的制造方法、用于該掃描型曝光裝置的光掩模、具有放大的投影倍率的廉價的投影光學裝置、以及用于該掃描型曝光裝置的光掩^^莫的制造方法。本發(fā)明的掃描型曝光裝置使用配置于掃描方向前方側(cè)的第1投影光學系統(tǒng)(PL2)、與配置于上述掃描方向后方側(cè)的第2投影光學系統(tǒng)(PL1),可一邊改變上述第l投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)與第l物體(M)及第2物體(P)在上述掃描方向上的位置關(guān)系，一邊將上述第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光至上述第2物體上。上述掃描型曝光裝置的特征在于上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)，分別使第1物體上的視場內(nèi)的放大像形成于第2物體上的像場內(nèi)，當將上述第14殳影光學系統(tǒng)及上述第2^:影光學系統(tǒng)的上述^L場的中心;波此在上述掃描方向上的間隔-沒為Dm，上述第l投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的上述像場的中心彼此在上述掃描方向上的間隔設(shè)為Dp，且將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為13時，滿足Dp〈DmxIpI(其中，IPI>1)。又，本發(fā)明的微元件的制造方法的特征在于包括曝光步驟，使用本發(fā)明的掃描型曝光裝置將光掩模(M)的圖案曝光至感光基板(P)上；以及顯影步驟，使通過上述曝光步驟所曝光的上述感光基板顯影。本發(fā)明的光掩模是形成了轉(zhuǎn)印用的圖案的光掩模(M),其特征在于包括沿著該光掩模上有沿第l方向所配置的第l行圖案部(M10)及第2行圖案部(M20)，且上述第1行圖案部的整個區(qū)域與上述第2行圖案部的整個區(qū)域，在與上述第1方向正交的第2方向上錯開規(guī)定量而配置。又，本發(fā)明的投影光學裝置是將第1物體的放大像形成于第2物體上的投影光學裝置(PL1)，其特征在于包括形成上述第1物體的中間像的第1成像光學系統(tǒng)(PL11);以及使上述中間像與上述第2物體(P)光學共軛的第2成像光學系統(tǒng)(PL12);且上述第1成像光學系統(tǒng)與上述第2成像光學系統(tǒng)中的一個光學系統(tǒng)，具有大致等倍的投影倍率，其中的另一個光學系統(tǒng)具有放大的投影倍率，在具有上述大致等倍的投影倍率的上述光學系統(tǒng)的光路中，配置著光學特性調(diào)整機構(gòu)(L1L4)。又，本發(fā)明的光掩模是具有圖案部的光掩模，該光掩模的特征在于上述圖案部包括沿著第1方向，在第奇數(shù)行的奇數(shù)行圖案部(M12)，及在第偶數(shù)行的偶數(shù)行圖案部(M22)，上述奇數(shù)行圖案部(M12)與上述偶數(shù)行圖案部(M22)中相鄰接的至少一對圖案部，在上述第l方向的端部，具有相同圖案的共通區(qū)域(M3a、M3b、M3c、M3d)，上述奇數(shù)行圖案部的整個區(qū)域與上述偶數(shù)行圖案部的整個區(qū)域，在與上述第1方向正交的第2方向上錯開規(guī)定量而配置。又，本發(fā)明的光掩模的制造方法的特征在于包括下述步驟將形成于光掩模上的全部圖案所對應(yīng)的圖案資料在第1方向上進行分割的步驟；在分割后的至少1個區(qū)域的第1方向的端部，附加與共通區(qū)域相對應(yīng)的圖案資料，以制作描繪資料的步驟；以及使用分割后的各區(qū)域所對應(yīng)的上述描繪資料，將圖案在第2方向上錯開規(guī)定量而描繪于光掩模上的步驟。根據(jù)本發(fā)明的掃描型曝光裝置，因投影光學系統(tǒng)具有放大倍率，故即使在將光掩模的圖案轉(zhuǎn)印至大型薄板上的情況下，亦可避免光掩模的大型化。又，投影光學系統(tǒng)盡管具有放大倍率，但無須使第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向上的間隔，相對于第l投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向上的間隔而擴大，因此，投影光學系統(tǒng)的設(shè)計自由度增加，且可使制造成本降低。又，根據(jù)本發(fā)明的微元件的制造方法，可避免光掩模的大型化，并且可使用大型基板進行微元件的制造，因而可以低成本而制造微元件。又，根據(jù)本發(fā)明的光掩模，即使將光掩模的圖案轉(zhuǎn)印至大型薄板上時，亦可避免光掩模的大型化，因此可降低光掩模的制造成本。又，根據(jù)本發(fā)明的投影光學裝置，其包括具有大致等倍的投影倍率的第1成像光學系統(tǒng)與具有放大的投影倍率的第2成像光學系統(tǒng)，且將光學特性調(diào)整機構(gòu)配置于具有投影倍率的光學系統(tǒng)的光路中，因此，即使在進行光學特性的調(diào)整時，亦可防止產(chǎn)生像差(aberration)變化。又，根據(jù)本發(fā)明的光掩模的制造方法，可使光掩模的制造成本降低。以上說明的實施形態(tài)是為了易于理解本發(fā)明而揭示，并非為了限定本發(fā)明而揭示。因此，上述實施形態(tài)中所揭示的各要素，其主要內(nèi)容亦包含屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)的所有設(shè)計變更及與之等同的變動。又，上述實施形態(tài)的各構(gòu)成要素等亦可進行任意的組合。圖1是表示第1實施形態(tài)的掃描型曝光裝置的構(gòu)成圖。圖2是表示第1實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖3是表示第1實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖4是表示第1實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模的構(gòu)成圖。圖5是表示利用第1實施形態(tài)的掃描型曝光裝置來將光掩^t的圖案轉(zhuǎn)印曝光至薄板上的狀態(tài)圖。圖6是表示第2實施形態(tài)的掃描型曝光裝置所具備的投影光學系統(tǒng)的構(gòu)成圖。圖7是表示第2實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模的構(gòu)成圖。圖8是用以說明實施形態(tài)的^t元件的制造方法的流程圖。圖9是表示實施形態(tài)的光掩模(正立正像用)的構(gòu)成圖。圖IO是表示實施形態(tài)的光掩模(倒立像用)的構(gòu)成圖。圖ll是用以說明實施形態(tài)的光掩模(正立正像用)的制造方法圖。圖12是用以說明實施形態(tài)的光掩模(正立正像用)的制造方法圖。圖13是用以說明實施形態(tài)的光掩模(倒立像用)的制造方法圖。圖14是用以說明實施形態(tài)的光掩模(倒立像用)的制造方法圖。2橢圓鏡3雙色鏡波長選擇濾光片聚光透鏡4:準直透鏡5:6:衰減濾光片7:8:光纖8a:入射口8b、8c、8d、射出口8e、8f、8g、8h:射出口S401:圖案形成步驟S402:彩色濾光片形成步驟S403:單元組裝步驟S404:;f莫塊組裝步驟50:移動鏡52:對準系統(tǒng)54:自動對焦系統(tǒng)AD:光學特性調(diào)整^/L構(gòu)AS:孔徑光闌CCM2、CCMll、CCM12:凹面反射4竟Dm、Dp:間隔EB:曝光裝置FM12、FM22:第2光路偏向面FM13:第3光路偏向面FM14:第4光路偏向面FMll、FM21:第1光路偏向面Gll、G21:第l透鏡群G12、G22:第2透鏡群IL1、IL2、IL3、IL4、IL5、IL6、IL7:部分照明光學系統(tǒng)Ll、L2、L3、L4:平行平板(光學特性調(diào)整機構(gòu))L5、L7、L13、L18、L28:雙凸透4竟L6、Lll、L14、L15、L16、L17、L21、L26、L27:負彎月透鏡L8:雙凹透4竟L9、LIO、L12:正彎月透4竟L22、L25:正彎月透4竟LM2、ML2:主透鏡群M、M2、M3、M4:光掩模M3a、M3b、M3c、M3d、M4a、M4b、M4c、M4d、共通區(qū)域MIO、Mil:第l行圖案部M12、M13:奇數(shù)行圖案部M12(1)、M22(2)、M12(3):M22(4)、M12(5)、M13(1):M23(2)、M13(3)、M23(4)、M20、M21:第2行圖案部ML11:第1主透鏡群PL:投影光學裝置PL11:第1成^^光學系統(tǒng)P、P2:薄板P20:第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域具體實施例方式圖案資料圖案資料M13(5):圖案資料M22、M23:偶數(shù)行圖案部ML12:第2主透鏡群PL1PL7、PL20:投影光學系統(tǒng)PL12:第2成像光學系統(tǒng)P10:第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域(3:投影倍率以下，參照圖示來說明本發(fā)明的第1實施形態(tài)。本實施形態(tài)中，列舉步進掃描方式的掃描型投影曝光裝置為例加以說明，該步進掃描方式使光掩模M與薄板P在掃描方向上相對于投影光學系統(tǒng)裝置PL而同步移動，并將形成于光掩模M上的圖案的像掃描曝光至薄板P上，其中，上述投影光學系統(tǒng)裝置PL由多個反射折射型投影光學系統(tǒng)PL1PL7而構(gòu)成，該等投影光學系統(tǒng)PL1~PL7將一部分光掩模(第1物體)M的圖案，部分地投影至作為感光基板的外形大于500mm的薄板(第2物體)P上。此處，所謂外形大于500mm,是指一邊或?qū)蔷€大于500mm。圖1是表示本實施形態(tài)的掃描型投影曝光裝置的整體概略構(gòu)成的立體圖。本實施形態(tài)的掃描型投影曝光裝置具備例如由超高壓水銀燈光源而構(gòu)成的光源。從光源射出的光束經(jīng)橢圓鏡2及雙色鏡(dichroicmirror)3反射后，入射至準直透鏡(collimatelens)4。亦即，藉由橢圓鏡2的反射膜及雙色鏡3的反射膜，取出包含g線(波長436nm)、h線(波長405nm)以及i線(波長365nm)的光的波長域的光，包含g線、h線、i線的光的波長域的光入射至準直透鏡4。又，因光源配置于橢圓鏡2的第1焦點位置處，故包含g線、h線、i線的光的波長域的光在橢圓鏡2的第2焦點位置處形成光源像。來自形成于橢圓鏡2的第2焦點位置處的光源像的發(fā)散光束，藉由準直透鏡4而變?yōu)槠叫泄?，且透過僅使規(guī)定的曝光波長域的光束透過的波長選擇濾光片5。通過波長選4奪濾光片5的光束會通過衰減濾光片(attenuatingfilter)6，并藉由聚光透鏡7而聚光于光纖(lightguidefiber)8的入射口8a。此處，光纖8例如是隨機地集合多條光纖線而構(gòu)成的隨機(random)光纖，具有入射口8a與7個射出口(以下，稱為射出口8b、8c、8d、8e、8f、8g、8h)。入射至光纖8的入射口8a的光束在光纖8的內(nèi)部傳播后，自7個射出口8b8h分割而射出，且分別入射至對光掩模M部分地照明的7個部分照明光學系統(tǒng)(以下，稱為部分照明光學系統(tǒng)IL1、IL2、IL3、IL4、IL5、IL6、IL7)。自光纖8的射出口8b射出的光束，入射至部分照明光學系統(tǒng)IL1,并利用配置于射出口8b附近的準直透鏡而變?yōu)槠叫泄猓蓽手蓖哥R而成為平行的光束入射至作為光學積分器(opticalintegrator)的復(fù)眼透鏡(flyeyelens)。形成于復(fù)眼透鏡的后側(cè)焦點面上的多個二次光源的光束，利用聚光透鏡來對光掩模M大致均勻地進行照明。再者，部分照明光學系統(tǒng)IL2~IL7具有與部分照明光學系統(tǒng)IL1相同的構(gòu)成，利用各部分照明光學系統(tǒng)IL2~IL7的聚光透鏡來對光掩模M大致均勻地進行照明。來自光掩才莫M的照明區(qū)域，亦即來自對應(yīng)于部分照明光學系統(tǒng)IL1的照明區(qū)域的光，入射至7個投影光學系統(tǒng)(以下，稱為投影光學系統(tǒng)PLl、PL2、PL3、PL4、PL5、PL6、PL7)中的投影光學系統(tǒng)PL1，上述7個投影光學系統(tǒng)以與各照明區(qū)域?qū)?yīng)的方式而排列，且分別將一部分光掩模M的圖案像投影至薄板P上。透過投影光學系統(tǒng)PL1的光，使光掩模M的圖案像成像于薄板P上。再者，來自對應(yīng)于部分照明光學系統(tǒng)IL2-IL7的照明區(qū)域的光入射至投影光學系統(tǒng)PL2~PL7,上述投影光學系統(tǒng)PL2~PL7以與各照明區(qū)域?qū)?yīng)的方式而配置，且使一部分光掩模M的圖案像投影至薄板P上。透過各個投影光學系統(tǒng)PL2PL7的光，分別使光掩模M的圖案像成像于薄板P上。此處，光掩模M由光掩模固持器(maskholder)(未圖示)所固定，且載置于光掩模載物臺(maskstage)(未圖示)上。又，在光掩模載物臺上配置著雷射干涉儀(laserinterferometer)(未圖示)，光掩沖莫載物臺雷射干涉儀測量及控制光掩模載物臺的位置。又，薄板P由薄板固持器(未圖示)所固定，且載置于薄板載物臺(未圖示)上。又，在薄板載物臺上設(shè)置著移動鏡50。自未圖示的薄板載物臺雷射干涉儀所射出的雷射光入射至移動鏡50,并由移動鏡50反射。根據(jù)該入射/反射的雷射光的干涉，測量及控制薄板載物臺的位置。上述部分照明光學系統(tǒng)IL1、IL3、IL5、IL7在與掃描方向正交的方向上具有規(guī)定間隔，且作為第1行而配置于掃描方向的后方側(cè)，對應(yīng)于部分照明光學系統(tǒng)IL1、IL3、IL5、IL7而設(shè)置的投影光學系統(tǒng)PL1、PL3、PL5、PL7亦同樣地，在與掃描方向正交的方向上具有規(guī)定間隔，且作為第l行而配置于掃描方向的后方側(cè)。又，部分照明光學系統(tǒng)IL2、IL4、IL6在與掃描方向正交的方向上具有規(guī)定間隔，且作為第2行而配置于掃描方向的前方側(cè)，對應(yīng)于部分照明光學系統(tǒng)IL2、IL4、IL6而設(shè)置的"^殳影光學系統(tǒng)PL2、PL4、PL6亦同樣地，在與掃描方向正交的方向上具有規(guī)定間隔，且作為第2行而配置于掃描方向的前方側(cè)。在第1行的投影光學系統(tǒng)與第2行的投影光學系統(tǒng)之間，為了將薄板P進行位置對準，設(shè)有偏向軸(off-axis)的對準系統(tǒng)52、或為使光掩模M及薄板P進行對焦，配置著自動對焦系統(tǒng)54。圖2是表示投影光學系統(tǒng)PL1的構(gòu)成圖。再者，投影光學系統(tǒng)PUPL7具有與投影光學系統(tǒng)PL1相同的構(gòu)成。投影光學系統(tǒng)PL1是將光掩模M上視場內(nèi)的放大像形成于薄板P上的像場內(nèi)的投影光學系統(tǒng)。亦即，上述投影光學系統(tǒng)PL1具備第1成像光學系統(tǒng)PL11及第2成像光學系統(tǒng)PL12,其中，上述第1成像光學系統(tǒng)PL11是形成光掩模M的中間像，且具有大致等倍的投影倍率，上述第2成像光學系統(tǒng)PL12是使中間像與薄板P光學共軛，且具有放大的投影倍率。第1成像光學系統(tǒng)PL11具備凹面反射鏡CCM11,其配置于光掩模M與中間像之間的光路中；光學特性調(diào)整機構(gòu)AD,其配置于光掩模M與凹面反射鏡CCM11之間的光路中；第l光路偏向面FMll，其以相對于光掩模M面成45°的角度斜設(shè)于光學特性調(diào)整機構(gòu)AD與凹面反射鏡CCMll之間的光路中，以使自光學特性調(diào)整機構(gòu)AD向-Z軸方向行進的光朝向-X軸方向反射，且使光路偏向；第1主透鏡群MLll，其配置于第1光路偏向面FM11與凹面反射鏡CCM11之間的光路中，且至少由1片透鏡而構(gòu)成；以及第2光路偏向面FM12，其以相對于光掩模M面成45。的角度斜設(shè)于第l主透鏡群ML11與中間像之間的光路中，以使自第1主透鏡群MLll向X軸方向行進的光朝向-Z軸方向反射，且使光路偏向。再者，在凹面反射鏡CCM11(光瞳位置)的附近，設(shè)置著孔徑光闌(aperturestop)AS。此處，光學特性調(diào)整機構(gòu)AD包括平行平板L1、L2、L3、L4，第1主透鏡群MLll由以下部分組成雙凸透鏡L5;凸面朝向凹面反射鏡CCM11側(cè)的負彎月透鏡(meniscuslens)L6;雙凸透鏡L7;雙凹透鏡L8;以及凸面朝向凹面反射4竟CCM11側(cè)的正彎月透4竟(meniscuslens)L9。第2成像光學系統(tǒng)PL12包括凹面反射鏡CCM12,其配置于中間像與薄板P之間的光路中；第1透鏡群Gll,其配置于中間像與凹面反射鏡CCM12之間的光路中，有助于放大；第3光路偏向面FM13，其以相對于光掩模M面成45。角度斜設(shè)于第1透鏡群G11與凹面反射鏡CCM12之間的光路中，以使自第1透鏡群Gll向-Z軸方向行進的光朝向-X軸方向反射，且使光路偏向；第2主透鏡群ML12,其配置于第3光路偏向面FM13與凹面反射鏡CCM12之間的光路中；第4光路偏向面FM14,其以相對于光掩模M面成45。角度斜設(shè)于第2主透鏡群L12與薄板P之間的光路中，以使自第2主透鏡群L12向X軸方向行進的光朝向-Z軸方向反射，且使光路偏向；以及第2透鏡群G12,其配置于第4光路偏向面FM14與薄板P之間的光路中，有助于放大。此處，第2成像光學系統(tǒng)PL12的第1透鏡群Gll由以下部分組成凸面朝向第3光路偏向面FM13側(cè)的正彎月透鏡L10;凸面朝向第3光路偏向面FM13側(cè)的負彎月透鏡L11;以及凸面朝向第3光路偏向面FM13側(cè)的正彎月透鏡L12。又，第2主透鏡群ML12由以下部分組成雙凸透鏡L13;凹面朝向第3光路偏向面FM13側(cè)的負彎月透鏡L14;以及凹面朝向第3光路偏向面FM13側(cè)的負彎月透鏡L15。又，第2透鏡群G12由以下部分組成凹面朝向第4光路偏向面FM14側(cè)的負彎月透鏡L16;凸面朝向第4光路偏向面FM14側(cè)的負彎月透鏡L17;以及雙凸透鏡L18。圖3是自非掃描方向(Y軸方向)對投影光學裝置PL的投影光學系統(tǒng)PL1與PL2的觀察圖。當將投影光學系統(tǒng)PL1及投影光學系統(tǒng)PL2的視場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dm，將投影光學系統(tǒng)PL1及第2投影光學系統(tǒng)PL2的像場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dp，且將投影光學系統(tǒng)PL1及投影光學系統(tǒng)PL2各自的投影倍率設(shè)為P時，滿足Dp〈DmxIpI(其中，IpI>1)。圖4是表示本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模的構(gòu)成圖。再者，圖4表示用于掃描型曝光裝置的光掩模，該掃描型曝光裝置于掃描方向的后方側(cè)(-X軸方向)，沿著非掃描方向以規(guī)定間隔配置著3個投影光學系統(tǒng)(以下，稱為后方側(cè)投影光學系統(tǒng))，在掃描方向的前方側(cè)(X軸方向)，沿著非掃描方向以規(guī)定間隔配置著2個投影光學系統(tǒng)(以下，稱為前方側(cè)投影光學系統(tǒng))，且具備形成正立正像的投影光學裝置。如圖4所示，光掩模M具備沿著非掃描方向(Y軸方向)所配置的第1行圖案部M10及第2行圖案部M20。此處，第1行圖案部MIO的整個區(qū)域與第2行圖案部M20的整個區(qū)域，錯開規(guī)定量而配置于掃描方向(X軸方向)上。此處，在第1行圖案部MIO中，定位著投影光學裝置的后方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場，在第2行圖案部M20中，定位著投影光學裝置的前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場。在該光掩模M中，當將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向上的間隔設(shè)為Dm,將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向上的間隔設(shè)為Dp，且將后方側(cè)影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為P時，上述規(guī)定量為(DmxI|3I-Dp)+IpI。在將該光掩模M的圖案轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上時，使用后方側(cè)投影光學系統(tǒng)將光掩模M上的第1行圖案部M10轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上的第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域PIO(參照圖5)，使用前方側(cè)投影光學系統(tǒng)將光掩模M上的第2行圖案部M20轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上的第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20。圖5中顯示使用本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置來將該光掩模M的圖案轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上的狀態(tài)。該掃描型曝光裝置中，因投影光學裝置具有放大的投影倍率，故在光掩模M上，使在非掃描方向隔開規(guī)定間隔而形成的第1行圖案部M10與第2行圖案部M20,在第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P10與第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20的非掃描方向上部分重迭后轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上。再者，此時較好的是，使照明視場形成為梯形等，從而難以看見第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域PIO與第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20的非掃描方向的重迭部。于此情形時，較理想的是，將視場光闌(visualfielddiaphragm)i殳置于照明系統(tǒng)內(nèi)。又，本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置的投影光學裝置具有放大的投影倍率，但使后方側(cè)投影光學系統(tǒng)與前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔，小于將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)與前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔、乘以放大的投影倍率后所得的距離。然而，使定位著后方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的第1行圖案部M10在掃描方向上的位置、與定位著投影光學裝置的前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的第2行圖案部M20在掃描方向上的位置，在掃描方向上錯開與放大的投影倍率相對應(yīng)的距離而配置，藉此，以使第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P10與第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20在掃描方向的端部位置一致而轉(zhuǎn)印曝光至薄板上。因此，根據(jù)該掃描型曝光裝置，即使在將光掩模的圖案轉(zhuǎn)印至大型薄板上時，亦可僅使光掩模在掃描方向的長度增加量為，使第1行圖案部與第2行圖案部錯開而配置的距離，以此即可避免光掩模更加大型化。又，投影光學系統(tǒng)盡管具有放大倍率，但無須使后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向上的間隔，相對于后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向上的間隔而擴大，因此，投影光學系統(tǒng)的設(shè)計自由度增大，且可使制造成本降低。其次，iJL明本發(fā)明的第2實施形態(tài)的掃描型曝光裝置。該第2實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中，使用具備7個示于圖6的投影光學系統(tǒng)的投影光學裝置，以作為構(gòu)成投影光學裝置的投影光學系統(tǒng)。其他方面，與第l實施形態(tài)的掃描型曝光裝置相同。投影光學系統(tǒng)PL20是使光掩模M2的視場內(nèi)的放大像形成于薄板P2上的像場內(nèi)的投影光學系統(tǒng)。該投影光學系統(tǒng)PL20具備凹面反射鏡CCM2，其配置于光掩模M2與薄板P2之間的光路中；第1透鏡群G21，其配置于光掩模M2與凹面反射鏡CCM2之間的光路中，有助于放大；第1光路偏向面FM21,其相對于光掩模M2面而斜設(shè)于第1透鏡群G21與凹面反射鏡CCM2之間的光路中，以使自第1透鏡群G21向-Z軸方向行進的光朝向X軸方向反射，且使光路偏向；主透鏡群ML2，其配置于第1光路偏向面FM21與凹面反射鏡CCM2之間的光路中；第2光路偏向面FM22,其相對于光掩模M2面而斜設(shè)于主透鏡群ML2與薄板P2之間的光路中，以使自主透鏡群ML2向-X軸方向行進的光朝向-Z軸方向反射，且使光路偏向；以及第2透鏡群G22，其配置于第2光路偏向面FM22與薄板P2之間的光路中，有助于放大；且該投影光學系統(tǒng)PL20將光掩模M2的圖案的倒立像形成于薄板P2上。此處，第1透鏡群G21由以下部分組成凹面朝向光掩模M2的正彎月透鏡L20;凹面朝向光掩模M2的負彎月透鏡L21;以及凹面朝向光掩模M2的正彎月透鏡L22。主透鏡群ML2由以下部分組成雙凸透鏡L23;凸面朝向凹面反射鏡CCM2側(cè)的負彎月透鏡L24;以及凸面朝向凹面反射鏡CCM2側(cè)的正彎月透鏡L25。第2透鏡群G22由以下部分組成凸面朝向薄板P2側(cè)的負彎月透鏡L26;凹面朝向薄板P2側(cè)的負彎月透鏡L27;以及雙凸透鏡L28。具備該投影光學系統(tǒng)PL20的投影光學裝置，在將投影光學系統(tǒng)PL20作為配置于掃描方向前方側(cè)的前方側(cè)^:影光學系統(tǒng)的情形下，當將前方側(cè)投影光學系統(tǒng)PL20與未圖示的配置于掃描方向后方側(cè)的后方側(cè)影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dm,將前方側(cè)才殳影光學系統(tǒng)PL20及后方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔設(shè)為Dp,且將前方側(cè)投影光學系統(tǒng)PL20及后方側(cè)投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為P時，滿足Dp〈DmxIPl(其中，IPI>1)。圖7是表示本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模的構(gòu)成圖。再者，在圖7中，顯示用于掃描型曝光裝置的光掩模，該掃描型曝光裝置具備形成倒立像的投影光學裝置，其沿著非掃描方向以規(guī)定間隔配置3個后方側(cè)投影光學系統(tǒng)，并且沿著非掃描方向以規(guī)定間隔配置2個前方側(cè)投影光學系統(tǒng)。如圖7所示，光掩模M2具備沿著非掃描方向(Y軸方向)所配置的第l行圖案部Mll以及第2行圖案部M21。此處，第1行圖案部Mll的整個區(qū)域與第2行圖案部M21的整個區(qū)域，在掃描方向(X軸方向)上錯開規(guī)定量此處，在第l行圖案部Mll中，定位著后方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場，在第2行圖案部M21中，定位著前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場。在該光掩模M2中，當將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)與前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向上的間隔設(shè)為Dm，將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向上的間隔設(shè)為Dp，且將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為P時，上述規(guī)定量為<formula>formulaseeoriginaldocumentpage15</formula>。在將該光掩模M2的圖案轉(zhuǎn)印曝光至薄板P2上時，使用后方側(cè)投影光學系統(tǒng)，將光掩才莫M2上的第1行圖案部Mil轉(zhuǎn)印曝光至薄板P2上的第115圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域PIO,且使用前方側(cè)投影光學系統(tǒng)，將光掩模M2上的第2行圖案部M21轉(zhuǎn)印曝光至薄板P2上的第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20。在圖5中，顯示使用本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置來將該光掩模的圖案轉(zhuǎn)印曝光至薄板上的狀態(tài)。該掃描型曝光裝置中，在光掩模M2上，使在非掃描方向隔開規(guī)定間隔而形成的第l行圖案部Mll與第2行圖案部M21，以在非掃描方向上反轉(zhuǎn)的狀態(tài)，轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上。此時，因投影光學裝置具有放大的投影倍率，故在第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P10與第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20的非掃描方向上部分重迭后轉(zhuǎn)印曝光至薄板P上。再者，此時較好的是，使照明視場形成為梯形等，從而難以看見第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P10與第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20的非掃描方向的重迭部。于此情形時，較理想的是，將視場光闌配置于照明系統(tǒng)內(nèi)。又，本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置的投影光學裝置具有放大的投影倍率，但使后方側(cè)投影光學系統(tǒng)與前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔，小于將后方側(cè)投影光學系統(tǒng)與前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向(X軸方向)上的間隔、乘以放大的投影倍率后所得的距離。然而，將定位著后方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的第1行圖案部Mil在掃描方向上的位置、與定位著投影光學裝置的前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的第2行圖案部M21在掃描方向上的位置，在掃描方向上錯開與放大的投影倍率相對應(yīng)的距離而配置，藉此，以使第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P10與第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域P20在掃描方向的端部位置一致而轉(zhuǎn)印曝光至薄板上。因此，根據(jù)該掃描型曝光裝置，即使在將光掩模的圖案轉(zhuǎn)印至大型薄板上時，亦可僅使光掩模在掃描方向的長度增加量為，使第1行圖案部與第2行圖案部錯開而配置的距離，以此即可避免光掩模更加大型化。又,投影光學系統(tǒng)盡管具有放大倍率，但仍無須使后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在掃描方向上的間隔，相對于后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向上的間隔而擴大，因此，投影光學系統(tǒng)的設(shè)計自由度增大，且可使制造成本降低。再者，上述第1實施形態(tài)中，在具有大致等倍的投影倍率的第1成像光學系統(tǒng)PL11中，具備構(gòu)成光學特性調(diào)整機構(gòu)AD的平行平板Ll~L4，使該平行平板Ll~L4的任一個對光軸傾斜，則可使〗象位置相對于光軸而移位。又，使平行平板成為楔狀的雙夾層(pair)玻璃，并使雙夾層玻璃沿著楔角而移動，以改變玻璃厚度，藉此可對焦或調(diào)整像面傾斜。進一步，使具有第l光路偏向面FM11及第2光路偏向面FM12的棱鏡旋轉(zhuǎn)，藉此可調(diào)整像的旋轉(zhuǎn)。第1成像光學系統(tǒng)PL11具有大致等倍的投影倍率，故可調(diào)整像的旋轉(zhuǎn)位置，而不會產(chǎn)生像差變化。又，在第1實施形態(tài)的第1成像光學系統(tǒng)PL11與第2成像光學系統(tǒng)PL12、以及第2實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)PL20中，反復(fù)使用透鏡，以使主透鏡群朝向凹面反射鏡的光與藉由凹面反射鏡所反射的光可通過，由此可減少透鏡片數(shù)，且由于具有棱鏡，該棱鏡具備用以使透鏡像以高成分進行視場分離的光路偏向面，因而可減小后方側(cè)投影光學系統(tǒng)及前方側(cè)投影光學系統(tǒng)在掃描方向上的間隔，而無須將透鏡切成矩形狀。又，上述第2實施形態(tài)的投影光學系統(tǒng)P20中不具備像調(diào)整機構(gòu)，但像調(diào)整機構(gòu)可配置于光掩模M2與第1透鏡群G21之間、第1透鏡群G21與第1光路偏向面FM21之間、第2光路偏向面FM22與第2透鏡群G22之間、第2透鏡群G22與薄板P2之間等。像旋轉(zhuǎn)可通過使具備第1及第2光路偏向面的棱鏡進行微小量旋轉(zhuǎn)而實現(xiàn)；對焦調(diào)整可通過朝向具備第1及第2光路偏向面的棱鏡的主透鏡群LM2的方向移動而實現(xiàn)；朝向掃描方向的像移位，可通過使具備第1及第2光路偏向面的棱鏡在光掩模M2與薄板P2之間的垂直方向(上下方向)上移動而實現(xiàn)。又，朝向Y方向的像移位與倍率調(diào)整可通過以下方法而實現(xiàn)將以3片相同曲率透鏡而構(gòu)成的透鏡群配置于上述空間的任一位置處，且使該3片相同曲率透鏡而構(gòu)成的透鏡群的中央部的透鏡，在光掩才莫M2與薄板P2之間的垂直方向(上下方向)上移動。又，亦可使3片透鏡為一體并向Y方向傾斜，以此修正Y方向的像位置。又，上述第1實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中，使用的投影光學裝置具備:具有等倍的投影倍率的第l成像光學系統(tǒng)、與具有放大的投影倍率的第2成像光學系統(tǒng)，但若使用2個具有放大的投影倍率的成像光學系統(tǒng)，則可使投影光學裝置整體的放大倍率更大，且不會使光掩模大型化，故可易于曝光至大的薄板上。又，在上述第1實施形態(tài)中，具備形成光掩模M的圖案的中間像的第1成像光學系統(tǒng)PLll、以及使中間像與薄板光學共軛的第2成像光學系統(tǒng)PL12，因此可容易配置像調(diào)整機構(gòu)，且可將視場光闌或孔徑光闌配置于預(yù)期的位置。圖9是表示具備上述實施形態(tài)的形成正立正像的投影光學裝置的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模圖。如圖9所示，光掩模M3在非掃描方向(Y軸方向)上包括奇數(shù)行圖案部M12與偶數(shù)行圖案部M22。此處，所謂奇數(shù)行圖案部M12與偶數(shù)行圖案部M22例如圖9所示，是指在非掃描方向上從圖9的左側(cè)數(shù)起，將第1、第3、第5個圖案部作為奇數(shù)行圖案部M12，將第2、第4個圖案部作為偶數(shù)行圖案部M22。再者，奇凝:行圖案部M12與偶數(shù)行圖案部M22亦可分別具有至少1個圖案部。奇數(shù)行圖案部M12與偶數(shù)行圖案部M22中，相鄰接的至少一對圖案部在非掃描方向的端部上，形成具有相同圖案的共通區(qū)域。此處，共通區(qū)域分別形成于相鄰接的一對奇數(shù)行圖案部(M12)與偶數(shù)行圖案部(M22)的鄰接側(cè)。例如圖9所示，分別形成共通區(qū)域M3a、M3b、M3c、M3d。又，奇數(shù)行圖案部M12與偶數(shù)行圖案部M22在掃描方向(X軸方向)上錯開規(guī)定量{(DmxI(3I-Dp)+I(3I}而配置。圖IO是表示具備上述實施形態(tài)的形成倒立像的投影光學裝置的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模圖。如圖10所示，光掩模M4與圖9相同，在非掃描方向(Y軸方向)上具有奇數(shù)行圖案部M13與偶數(shù)行圖案部M23。奇數(shù)行圖案部M13與偶數(shù)行圖案部M23中，相鄰接的至少一對圖案部在非掃描方向的端部，形成具有相同圖案的共通區(qū)域。此處，共通區(qū)域分別形成于相鄰接的一對奇數(shù)行圖案部M13與偶數(shù)行圖案部M23的鄰接側(cè)的相反側(cè)。例如圖IO所示，分別形成共通區(qū)域M4a、M4b、M4c、M4d。又，將奇數(shù)行圖案部M13與偶數(shù)行圖案部M23在掃描方向(X軸方向)上錯開規(guī)定量{(DmxI(3I-Dp)+I(3I}而配置。再者，圖9及圖IO所示的光掩模中，奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部無須接觸，可分開規(guī)定的距離。為了實現(xiàn)奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部中相鄰接的至少一對圖案部的共通區(qū)域相互重合，以形成1個圖案的方式使共通區(qū)域的全部或一部分重迭后轉(zhuǎn)印曝光。又，為了實現(xiàn)奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部中相鄰接的至少一對共通區(qū)域相互重合，只要能夠形成1個圖案即可，無須使形成于一對共通區(qū)域的圖案完全相同。例如，一對共通區(qū)域中，奇數(shù)行圖案部的共通區(qū)域或偶數(shù)行圖案部的共通區(qū)域中的任一個，可有完全不使用的無需要的圖案。又，將例如圖9及圖10所示而構(gòu)成的光掩模用于本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置時，奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部在掃描方向上錯開的規(guī)定量無特別限定，較理想的是36mm~150mm。若投影光學系統(tǒng)的放大倍率小，則奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部在掃描方向上錯開的規(guī)定量變小，從而可減小光掩模的尺寸，但曝光區(qū)域不太會擴大。另一方面，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率大，則錯開的規(guī)定量變大，從而光掩模的尺寸變大。考慮上述情況，本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置的投影光學系統(tǒng)的放大倍率無特別限定，較理想的是1.25倍-4倍左右。此處，例如在將第l投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的光掩模側(cè)的視場的間隔設(shè)為200mm時，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為1.25倍，則相對于第l投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的光掩模側(cè)的視場的間隔，第1投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的像場的間隔為250mm，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率是4倍，則必須使第1投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的像場的間隔為800mm。因此，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為1.25倍，則光掩模上的奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部在掃描方向上錯開的規(guī)定量為40mm,若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為4倍，則光掩模上的奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部在掃描方向上錯開的規(guī)定量為150咖。又，例如在將第l投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的光掩模側(cè)的視場的間隔設(shè)為180mm時，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為1.25倍，則相對于第l投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的光掩模側(cè)的視場的間隔，第1投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的像場的間隔為225mm、若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為4倍，則必須使第1投影光學系統(tǒng)與第2投影光學系統(tǒng)的像場的間隔為720mm。因此，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為1.25倍，則光掩模上的奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部在掃描方向上錯開的規(guī)定量為36mm，若投影光學系統(tǒng)的放大倍率為4倍，則光掩模上的奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部在掃描方向上錯開的規(guī)定量為135mm。其次，對上述實施形態(tài)的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模的制造方法加以說明。首先，說明具備上述實施形態(tài)的形成正立正像的投影光學裝置的掃描型曝光裝置中所使用的光掩^^莫的制造方法。如圖ll所示，首先，在非掃描方向即第1方向(Y方向)上，將形成于光掩模上的全部圖案所對應(yīng)的圖案資料進行分割。亦即，將圖案資料分割為M12(1)、M22(2)、M12(3)、M22(4)、M12(5)五個。其次，如圖12所示，在分割后的至少1個區(qū)域的第1方向(Y方向)的端部，附加與共通區(qū)域相對應(yīng)的圖案資料，制作成描繪資料。亦即，如圖12所示，在M12(1)與M22(2)的共通區(qū)域，制作M3a的圖案資料，在M22(2)與M12(3)的共通區(qū)域，制作M3b的圖案資料。在其他共通區(qū)域，亦同樣地制作M3c、M3d的圖案資料。其次，根據(jù)與分割后的各區(qū)域相對應(yīng)的描繪資料，使用EB曝光裝置等，在掃描方向即第2方向上錯開規(guī)定量，將圖案描繪于光掩?；?blanks)上。藉此，可制造圖9所示的光掩;f莫。其次，說明具備上述實施形態(tài)的形成倒立像的投影光學裝置的掃描型曝光裝置中所使用的光掩模的制造方法。如圖13所示，首先，在非掃描方向即第l方向(Y方向)上，將形成于光掩模上的全部圖案所對應(yīng)的圖案資料進行分割。亦即，將圖案資料分為M13(1)、M23(2)、M13(3)、M23(4)、Ml3(5)此5個。其次，如圖14所示，在分割后的至少1個區(qū)域的第1方向(Y方向)的端部，附加與共通區(qū)域相對應(yīng)的圖案資料，制作成描繪資料。亦即，如圖14所示，在M13(1)與M23(2)的共通區(qū)域，制作M4a的圖案資料，在M23(2)與Ml3(3)的共通區(qū)域，制作M4b的圖案資料。在其他共通區(qū)域，亦同樣地制作M4c、M4d的圖案資料。其次，根據(jù)與分割后的各區(qū)域相對應(yīng)的描繪資料，使用EB曝光裝置等，在掃描方向即第2方向上錯開規(guī)定量，將圖案描繪于光掩?；?blanks)上。藉此，可制造圖IO所示的光掩模。再者，上述圖9及圖IO所示的光掩模的制造方法中，是將與全部圖案相對應(yīng)的圖案資料進行分割，其后附加與共通區(qū)域相對應(yīng)的圖案資料，亦可將具有共通區(qū)域的全部圖案資料分割為，相鄰接的至少一對奇數(shù)行圖案部與偶數(shù)行圖案部所對應(yīng)的圖案資料，且才艮據(jù)分割后的圖案資料,使用EB曝光裝置等，在第2方向上錯開規(guī)定量，將圖案描繪于光掩模基板(blanks)上。又，本實施形態(tài)的曝光裝置中，在薄板(玻璃基板)上形成規(guī)定的圖案(電路圖案、電極圖案等)，以此可獲得作為微元件的液晶顯示元件。以下，參照圖8的流程圖，說明此時的方法的一例。在圖8中，在圖案形成步驟401中，執(zhí)行所謂光微影步驟，即，使用本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置，將光掩模的圖案轉(zhuǎn)移曝光至感光基板上。利用該光微影步驟，在感光性基板上形成包含多個電極等的規(guī)定圖案。其后，經(jīng)過顯影步驟、蝕刻步驟、抗蝕劑剝離步驟等各步驟，使所曝光的基板上形成規(guī)定的圖案，并進入下一步驟，即彩色濾光片形成步驟402。其次，在彩色濾光片形成步驟402中形成彩色濾光片，該彩色濾光片中，矩陣狀地排列著多個與R(Red,紅)、G(Green，綠)、B(Blue，藍)對應(yīng)的3個點(dot)的組，或者在多條水平掃描線方向上排列著R、G、B的3根條紋(stripe)的濾光片的組。并且，在彩色濾光片形成步驟402之后，執(zhí)行單元組裝步驟403。在單元組裝步驟403中，使用具有在圖案形成步驟401中所獲得的規(guī)定圖案的基板、以及在彩色濾光片形成步驟402中所獲得的彩色濾光片等，來組裝液晶面板(液晶單元(liquidcrystalcell))。在單元組裝步驟403中，例如在具有于圖案形成步驟401中所獲得的規(guī)定圖案的基板、及在彩色濾光片形成步驟402中所獲得的彩色濾光片之間，注入液晶，以此制造液晶面板(液晶單元)。其后，在模塊組裝步驟404中，安裝使組裝而成的液晶面板(液晶單元)進行顯示動作的電路、背光源(backlight)等各零件后，完成液晶顯示元件。根據(jù)上述液晶顯示元件的制造方法，由于其使用本實施形態(tài)的掃描型曝光裝置，因此可低成本地制造液晶顯示元件。再者，在上述實施形態(tài)中，應(yīng)用反射折射成像光學系統(tǒng)以作為投影光學系統(tǒng)PL1、PL2、PLIO、PL20,但并非限于此，例如可應(yīng)用具備沿著1根以直線狀延伸的光軸而排列的多個折射光學元件的折射成像光學系統(tǒng)。此時較好的是，使折射成像光學系統(tǒng)的視場的中心與像場的中心一致。上述折射成像光學系統(tǒng)可使用例如美國專利第5，903，400號所揭示的投影光學系統(tǒng)。此處，參照上述美國專利第5,903,400號并引用。又，投影光學系統(tǒng)PL1、PL2、PLIO、PL20亦可應(yīng)用反射成像光學系統(tǒng)。以下說明實施例1及實施例2，由于實施例1及實施例2的反射折射光學系統(tǒng)的構(gòu)成，分別與圖2、圖6所示的第1、第2實施形態(tài)的反射折射光學系統(tǒng)的構(gòu)成相同，因此在實施例l、實施例2的反射折射光學系統(tǒng)的說明中，使用第l、第2實施形態(tài)的反射折射光學系統(tǒng)的說明中所使用的符號。又，表l、表2中顯示實施例1、實施例2的反射折射光學系統(tǒng)PL1、PL20的光學部件規(guī)格。表l、表2的光學部件規(guī)格中，第l行(column)的面編號表示沿著來自物體側(cè)的光線行進方向的面的順序，第2行表示各面的曲率半徑(mm),第3行的面間隔表示光軸上的面間隔(mm),第4行表示光學部件的有效半徑，第5行表示光學部件的硝材的i線的折射率，第6行表示光學部件的硝材的h線的折射率，第7行表示光學部件的硝材的g線的折射率。以下表示實施例1的反射折射光學系統(tǒng)PL1的規(guī)格值。(規(guī)格)投影倍率1.2倍(表l)(光學部件規(guī)格)<table>tableseeoriginaldocumentpage21</column></row><table>35)159.6"7-6272.87136)oo100.3484103.06137)3055.23330.8388572.981,4667121.4696371.47455938)-575.856458.325772.79139)-461.75918.9952152.32，.4667121.4696371.47455940)-2030.4910.3366955.67141)-804.17422,918657.66"咖191.4827251.48676942)-412.81510-7429461.17143)-973.178-10.742963.58一144)-412.815-22.9賜64.26-1.48032-1.48273-1.4867745)-804.174-10.336763,9一146)-2030.49-18.995264-1.46671-1.469641.4745647)-461.759-458.32663.96一148)-575朋6-30.838992.9S-l.46671-1.46964-1,4745649)3055.233-100.34892.78—150)oo181,8825123.69151)-828.64520.6229584.931.4803191.482725"8676952)-2102.184.5483985.27153〉499.576921,6435985.29t加41521.咖8591.61278654)275.922714.7297583.57155)298鵬122.584821,480319'.48272556)-3532.1576.3164484.481以下表示實施例2的反射折射光學系統(tǒng)PL20的規(guī)格值。(規(guī)格)投影倍率1.25倍(表2)(光學部件規(guī)格)mendE.Radn(i)n(h〕n(g)0)40.511)—881.7425.770.171掘76S1.4827251.4803192)-197.346.171.6813)-179.0921.671.51.6127861.6008591.5941524)-298.9112.075.2415)-198.1225.775.671.4867691.4827251.4803196)-177.7770.079.5417)CO-142.0112.83_18)-1132.29-41.685.75-1.47456-1.46964-1.466719)761.59-387.985.53一110)477.18-24.860-83-1.47456-"6964-1.4667111)7398.48-11.760.79—112)727.98-18.660.73-1.48677-1.48273-1.4803213)388.24—8.961.11_114)958.618.960,6115)388.2418.661.321.4867691.4827251.48031916)727.9811.761.13117)7398.4824.861.351.4745591.4696371.46671218)477.18387.961.73119)761.5941.693-791.4745591.4696371-44671220)-1132.29152.094.28121)oo-192.7127.44一l22)662.55-22.088.47-"8677-,.48273-1.4803223)1777.62—0.489.31_124)-532.47-47.189.56-1.61279-1.600861.5941525)-269.87一7,786.88_126)-289.53-33.887.79-1.48677-"8273-1.4803227)835.50-58.987.51_128)CO86.08一1以上說明的實施形態(tài)是為了易于理解本發(fā)明而揭示，并非為了限定本發(fā)明而揭示。因此，上述實施形態(tài)中所揭示的各要素，其主要內(nèi)容亦包含屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍內(nèi)的所有設(shè)計變更及與之等同的變動。又，上述實施形態(tài)的各構(gòu)成要素等亦可進行任意的組合。權(quán)利要求1.一種掃描型曝光裝置，使用配置于掃描方向前方側(cè)的第1投影光學系統(tǒng)及配置于上述掃描方向后方側(cè)的第2投影光學系統(tǒng)，一邊改變上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)與第1物體及第2物體在上述掃描方向上的位置關(guān)系，一邊將上述第1物體的圖案曝光轉(zhuǎn)印在上述第2物體上，上述掃描型曝光裝置的特征在于:上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)，分別將第1物體上的視場內(nèi)的放大像形成于第2物體上的像場內(nèi)，當將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的上述視場的中心彼此在上述掃描方向上的間隔設(shè)為Dm，將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的上述像場的中心彼此在上述掃描方向的間隔設(shè)為Dp，且將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為β時，滿足Dp<Dm×|β|(其中，|β|>1)。2.如權(quán)利要求1所述的掃描型曝光裝置，其特征在于其中所述的第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)由反射折射光學系統(tǒng)所構(gòu)成，上述第l投影光學系統(tǒng)的上述反射折射光學系統(tǒng)包括第1凹面反射鏡，其配置于上述第1物體與上述第2物體之間的光路中；第1光路偏向面，其配置于上述第1物體與上述第1凹面反射鏡之間的光路中，JU吏光^備偏向；第1主透鏡群，其配置于上述第1光路偏向面與上述第1凹面反射鏡之間的光路中；以及第2光路偏向面，其配置于上述第1主透鏡群與上述第2物體之間的光^各中，且使光路偏向。3.如權(quán)利要求1或2所述的掃描型曝光裝置，其特征在于其中所述的第1物體包括第1行圖案部，其定位著上述第1投影光學系統(tǒng)的上述視場，及第2行圖案部，其定位著上述第2投影光學系統(tǒng)的上述視場，且上述第1行圖案部的整個區(qū)域與上述第2行圖案部的整個區(qū)域，在上述掃描方向上錯開(DmxI(3I-Dp)+I(3I而配置。4.如權(quán)利要求1至3中任一項權(quán)利要求所述的掃描型曝光裝置，其特征在于其中，藉由上述第1投影光學系統(tǒng)的上述像場而形成于上述第2物體上的第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域、與藉由上述第2投影光學系統(tǒng)的上述像場而形成于上述第2物體上的第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域，在橫切上述掃描方向的方向上部分重迭。5.如;k利要求1所述的掃描型曝光裝置，其特征在于其中所述的第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)包括光學特性調(diào)整機構(gòu)。6.如權(quán)利要求5所述的掃描型曝光裝置，其特征在于其中所述的第2投影光學系統(tǒng)包括與上述第1投影光學系統(tǒng)不同的另一個反射折射光學系統(tǒng)，該另一個反射折射光學系統(tǒng)具有等倍的投影倍率，且包括第2凹面反射鏡，其配置于上述第1物體與上述第2物體之間的光路中；第3光路偏向面，其配置于上述第1物體與上述第2凹面反射鏡之間的光路中，使光路偏向；第2主透鏡群，其配置于上述第3光路偏向面與上述第2凹面反射鏡之間的光路中；以及第4光路偏向面，其配置于上述第2主透鏡群與上述第2物體之間的光路中，使光路偏向；且上述光學特性調(diào)整機構(gòu)設(shè)置在上述另一個反射折射光學系統(tǒng)的光路內(nèi)。7.如權(quán)利要求1所述的掃描型曝光裝置，其特征在于其中所述的第2物體是外徑大于500腿的感光基板。8.—種微元件的制造方法，其特征在于包括曝光步驟，使用權(quán)利要求1項至第7項中任一項所述的掃描型曝光裝置，將光掩模圖案曝光至感光基板上；以及顯影步驟，使通過上述曝光步驟所曝光的上述感光基板顯影。9.一種光掩才莫，形成有轉(zhuǎn)印用的圖案，該光掩模的特征在于包括沿著該光掩;f莫上的第1方向所配置的第1行圖案部及第2行圖案部，且上述第l行圖案部的整個區(qū)域與上述第2行圖案部的整個區(qū)域，在與上述第1方向正交的第2方向上錯開規(guī)定量而配置。10.如權(quán)利要求9所述的光掩才莫，其特征在于其中所述的光掩^f莫用于掃描型曝光裝置，該掃描型曝光裝置包括在上述第2方向上具有各不相同的視場的第l及第2投影光學系統(tǒng)，使用該第l投影光學系統(tǒng)，將上述光掩模上的上述第1行圖案部轉(zhuǎn)印曝光至基板上的第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域，并且使用上述第2投影光學系統(tǒng)，將上述光掩模上的上述第2行圖案部轉(zhuǎn)印曝光至上述基板上的第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域，該掃描型曝光裝置一邊改變上述第1及第2投影光學系統(tǒng)與上述光掩模及基板在上述第2方向上的位置關(guān)系，一邊進行上述轉(zhuǎn)印曝光，且當將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的上述視場的中心彼此在上述第2方向上的間隔設(shè)為Dm,將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在上述掃描方向上的間隔設(shè)為Dp,且將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為P時，上述規(guī)定量為(DmxI(3I-Dp)+IPI。11.一種投影光學裝置，將第1物體的放大像形成于第2物體上，該投影光學裝置的特征在于包括第1成像光學系統(tǒng)，形成上述第1物體的中間像；以及第2成像光學系統(tǒng)，使上述中間像與上述第2物體光學共軛；且上述第l成像光學系統(tǒng)與上述第2成像光學系統(tǒng)中的一個光學系統(tǒng)，具有大致等倍的投影倍率，其中的另一個光學系統(tǒng)具有放大的投影倍率，在具有上述大致等倍的投影倍率的上述光學系統(tǒng)的光路中，配置著光學特性調(diào)整機構(gòu)。12.如權(quán)利要求11所述的投影光學裝置，其特征在于其中所述的第1成像光學系統(tǒng)具有上述大致等倍的投影倍率，用以決定上述投影光學裝置的上述第2物體側(cè)的數(shù)值孔徑的孔徑光闌，配置于上述第1成像光學系統(tǒng)內(nèi)。13.—種光掩模，具有圖案部，該光掩才莫的特征在于上述圖案部沿著第l方向，在第奇數(shù)行包括奇數(shù)行圖案部，在第偶數(shù)行包括偶數(shù)行圖案部，上述奇數(shù)行圖案部與上述偶數(shù)行圖案部中相鄰接的至少一對圖案部，在上述第l方向的端部，包括具有相同圖案的共通區(qū)域，上述奇數(shù)行圖案部的整個區(qū)域與上述偶數(shù)行圖案部的整個區(qū)域，在與上述第1方向正交的第2方向上^l普開規(guī)定量而配置。14.如權(quán)利要求13所述的光掩模，其特征在于其中所述的共通區(qū)域分別形成于相鄰接的一對上述奇數(shù)行圖案部與上述偶數(shù)行圖案部的鄰接側(cè)。15.如權(quán)利要求13所述的光掩模，其特征在于其中所述的共通區(qū)域分別形成于相鄰接的一對上述奇數(shù)行圖案部與上述偶數(shù)行圖案部的鄰接側(cè)的相反側(cè)。16.如權(quán)利要求13至15中任一項權(quán)利要求所述的光掩模，其特征在于其中所述的光掩^^莫用于掃描型曝光裝置，該掃描型曝光裝置包括于第2方向上具有各不相同的視場的上述第l投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)，使用該第1投影光學系統(tǒng)，將上述光掩模上的上述奇數(shù)行圖案部轉(zhuǎn)印曝光至基板上的第1圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域，并且使用上述第2投影光學系統(tǒng)，將上述光掩^^莫上的上述偶數(shù)行圖案部轉(zhuǎn)印曝光至上述基板上的第2圖案轉(zhuǎn)印區(qū)域，該掃描型曝光裝置一邊改變上述第1及上述第2投影光學系統(tǒng)與上述光掩模及上述基板在上述第2方向上的位置關(guān)系，一邊進行上述轉(zhuǎn)印曝光，當將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的上述視場的中心彼此在上述第2方向上的間隔設(shè)為Dm，將上述第1投影光學系統(tǒng)及上述第2投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在上述第2方向上的間隔設(shè)為Dp，且將上述第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為p時，上述規(guī)定量為(DmxI(3I-Dp)+IpI。17.如權(quán)利要求13所述的光掩模，其特征在于其中所述的規(guī)定量為36mm~150mm的范圍內(nèi)。18.—種光掩模的制造方法，為權(quán)利要求13至17中任一項權(quán)利要求所述的光掩模的制造方法，其特征在于包括下述步驟將形成于光掩模上的全部圖案所對應(yīng)的圖案資料，在第1方向上進行分割的步驟；在分割后的至少1個區(qū)域的第1方向的端部，附加與共通區(qū)域相對應(yīng)的圖案資料，制作描繪資料的步驟；以及使用分割后的各區(qū)域所對應(yīng)的上述描繪資料,將圖案于第2方向上4晉開規(guī)定量而描繪于光掩模上的步驟。全文摘要一種掃描型曝光裝置，使用配置于掃描方向前方側(cè)的第1投影光學系統(tǒng)PL2及配置于掃描方向后方側(cè)的第2投影光學系統(tǒng)PL1，一邊改變第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)與第1物體M及第2物體P在掃描方向上的位置關(guān)系，一邊將第1物體的圖案轉(zhuǎn)印曝光至第2物體上，且第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)分別將第1物體上的視場內(nèi)的放大像形成于第2物體上的像場內(nèi)，當將第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)的視場的中心彼此在掃描方向上的間隔設(shè)為Dm，將第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)的像場的中心彼此在上述掃描方向上的間隔設(shè)為Dp，且將第1投影光學系統(tǒng)及第2投影光學系統(tǒng)各自的投影倍率設(shè)為β時，滿足Dp＜Dm×|β|(其中，|β|＞1)。文檔編號G03F1/70GK101384968SQ200780005789公開日2009年3月11日申請日期2007年3月16日優(yōu)先權(quán)日2006年3月20日發(fā)明者加藤正紀申請人:株式會社尼康