美術(shù)畫架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種美術(shù)繪畫用器具，具體為一種美術(shù)畫架，屬于美術(shù)與繪畫用具技術(shù)領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，畫架是美術(shù)繪畫愛好者練習(xí)繪畫不可缺少的工具，現(xiàn)在所使用的寫生畫架不方便，畫架的高度以及傾斜角度不能方便的調(diào)節(jié)，而且，畫架結(jié)構(gòu)雖然簡單，但是，繪畫的用具放置不方便，不能有效的為繪畫者提供放置繪畫用具的空間，從而容易影響繪畫質(zhì)量，增加繪畫者的負(fù)擔(dān)。
[0003]為解決以上的各個(gè)技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了美術(shù)畫架，其結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、可靠，通過采用螺紋調(diào)節(jié)的方式，能夠快速、方便的實(shí)現(xiàn)畫板高度和傾斜角度的調(diào)整，通過設(shè)置畫筆放置槽和掛鉤，能夠在繪畫時(shí)，方便將畫筆等器械放置或者懸掛在畫架上，十分方便，此外，將調(diào)色腔設(shè)置在底座上，不僅能方便繪畫者調(diào)色，而且能夠保證調(diào)色盤出現(xiàn)傾翻的危險(xiǎn)情況。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對上述情況，為解決現(xiàn)有技術(shù)之缺陷，本實(shí)用新型之目的就是提供了美術(shù)畫架，其包括框架、支撐腿、底座、畫板、畫板擋塊和掛鉤，其特征在于，所述的框架的底端可轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述底座上，所述框架的中上部鉸接設(shè)置有可調(diào)節(jié)長度的支撐腿，所述支撐腿的底端支撐設(shè)置在所述底座上，所述框架的中下部設(shè)置有畫板擋塊，所述畫板擋塊上部的所述框架上設(shè)置有畫板，所述畫板的兩邊設(shè)置有多個(gè)畫筆放置槽，所述畫板的側(cè)面上設(shè)置有至少一個(gè)掛鉤，所述畫板的中心設(shè)置有用于放置和固定畫紙的凹槽，所述底座的前端設(shè)置有多個(gè)用于放置顏料的調(diào)色腔。
[0005]進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述支撐腿包括支撐桿一、支撐套筒和支撐桿二，所述支撐桿一的頂端鉸接設(shè)置在所述框架的中上部，所述支撐桿一的下端設(shè)置有左旋外螺紋，所述支撐套筒的上端設(shè)置有左旋內(nèi)螺紋，所述支撐桿二的上端設(shè)置有右旋外螺紋，所述支撐套筒的下端設(shè)置有右旋內(nèi)螺紋，所述左旋外螺紋與所述左旋內(nèi)螺紋、所述右旋外螺紋與所述右旋內(nèi)螺紋螺紋配合，所述支撐桿二的下端支撐設(shè)置在所述底座的后端。
[0006]進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述畫筆放置槽為四個(gè)，且對稱設(shè)置在所述畫板的兩端。
[0007]進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述底座的前端的用于放置顏料的調(diào)色腔為四個(gè)。
[0008]進(jìn)一步，作為優(yōu)選，所述畫板的側(cè)面上的掛鉤為兩個(gè)，且對稱設(shè)置在所述畫板的兩端。
[0009]本實(shí)用新型的有益效果:本實(shí)用新型提供的美術(shù)畫架，其結(jié)構(gòu)簡單、使用方便、可靠，通過采用螺紋調(diào)節(jié)的方式，能夠快速、方便的實(shí)現(xiàn)畫板高度和傾斜角度的調(diào)整，通過設(shè)置畫筆放置槽和掛鉤，能夠在繪畫時(shí)，方便將畫筆等器械放置或者懸掛在畫架上，十分方便，此外，將調(diào)色腔設(shè)置在底座上，不僅能方便繪畫者調(diào)色，而且能夠保證調(diào)色盤出現(xiàn)傾翻的危險(xiǎn)情況。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型提供的美術(shù)畫架的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]其中，1、框架，2、支撐腿，3、底座，4、調(diào)色腔，5、畫板擋塊，6、畫筆放置槽，7、畫板，8、支撐桿一，9、支撐套筒，10、支撐桿二，11、掛鉤。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。
[0013]如圖1所示，本實(shí)用新型提供了美術(shù)畫架，其包括框架1、支撐腿2、底座3、畫板7、畫板擋塊5和掛鉤11，框架I的底端可轉(zhuǎn)動設(shè)置在底座3上，框架I的中上部鉸接設(shè)置有可調(diào)節(jié)長度的支撐腿2，支撐腿2的底端支撐設(shè)置在底座3上，框架I的中下部設(shè)置有畫板擋塊5，畫板擋塊5上部的框架I上設(shè)置有畫板7，畫板7的兩邊設(shè)置有多個(gè)畫筆放置槽6，畫板7的側(cè)面上設(shè)置有至少一個(gè)掛鉤11，畫板7的中心設(shè)置有用于放置和固定畫紙的凹槽，底座3的前端設(shè)置有多個(gè)用于放置顏料的調(diào)色腔4。
[0014]在本實(shí)施例中，支撐腿包括支撐桿一 8、支撐套筒9和支撐桿二 10，支撐桿一 8的頂端鉸接設(shè)置在框架I的中上部，支撐桿一 8的下端設(shè)置有左旋外螺紋，支撐套筒9的上端設(shè)置有左旋內(nèi)螺紋，支撐桿二 10的上端設(shè)置有右旋外螺紋，支撐套筒9的下端設(shè)置有右旋內(nèi)螺紋，左旋外螺紋與左旋內(nèi)螺紋、右旋外螺紋與右旋內(nèi)螺紋螺紋配合，支撐桿二 10的下端支撐設(shè)置在底座3的后端。畫筆放置槽6為四個(gè)，且對稱設(shè)置在畫板7的兩端。底座3的前端的用于放置顏料的調(diào)色腔4為四個(gè)。畫板7的側(cè)面上的掛鉤11為兩個(gè)，且對稱設(shè)置在畫板7的兩端。
[0015]本實(shí)用新型通過采用螺紋調(diào)節(jié)的方式，能夠快速、方便的實(shí)現(xiàn)畫板高度和傾斜角度的調(diào)整，通過設(shè)置畫筆放置槽和掛鉤，能夠在繪畫時(shí)，方便將畫筆等器械放置或者懸掛在畫架上，十分方便，此外，將調(diào)色腔設(shè)置在底座上，不僅能方便繪畫者調(diào)色，而且能夠保證調(diào)色盤出現(xiàn)傾翻的危險(xiǎn)情況。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.美術(shù)畫架，其包括框架、支撐腿、底座、畫板、畫板擋塊和掛鉤，其特征在于，所述的框架的底端可轉(zhuǎn)動設(shè)置在所述底座上，所述框架的中上部鉸接設(shè)置有可調(diào)節(jié)長度的支撐腿，所述支撐腿的底端支撐設(shè)置在所述底座上，所述框架的中下部設(shè)置有畫板擋塊，所述畫板擋塊上部的所述框架上設(shè)置有畫板，所述畫板的兩邊設(shè)置有多個(gè)畫筆放置槽，所述畫板的側(cè)面上設(shè)置有至少一個(gè)掛鉤，所述畫板的中心設(shè)置有用于放置和固定畫紙的凹槽，所述底座的前端設(shè)置有多個(gè)用于放置顏料的調(diào)色腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美術(shù)畫架，其特征在于，所述支撐腿包括支撐桿一、支撐套筒和支撐桿二，所述支撐桿一的頂端鉸接設(shè)置在所述框架的中上部，所述支撐桿一的下端設(shè)置有左旋外螺紋，所述支撐套筒的上端設(shè)置有左旋內(nèi)螺紋，所述支撐桿二的上端設(shè)置有右旋外螺紋，所述支撐套筒的下端設(shè)置有右旋內(nèi)螺紋，所述左旋外螺紋與所述左旋內(nèi)螺紋、所述右旋外螺紋與所述右旋內(nèi)螺紋螺紋配合，所述支撐桿二的下端支撐設(shè)置在所述底座的后端。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的美術(shù)畫架，其特征在于，所述畫筆放置槽為四個(gè)，且對稱設(shè)置在所述畫板的兩端。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的美術(shù)畫架，其特征在于，所述底座的前端的用于放置顏料的調(diào)色腔為四個(gè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述的美術(shù)畫架，其特征在于，所述畫板的側(cè)面上的掛鉤為兩個(gè)，且對稱設(shè)置在所述畫板的兩端。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供的美術(shù)畫架，其包括框架、支撐腿、底座、畫板、畫板擋塊和掛鉤，框架的底端可轉(zhuǎn)動設(shè)置在底座上，框架的中上部鉸接設(shè)置有可調(diào)節(jié)長度的支撐腿，支撐腿的底端支撐設(shè)置在底座上，框架的中下部設(shè)置有畫板擋塊，畫板擋塊上部的框架上設(shè)置有畫板，畫板的兩邊設(shè)置有多個(gè)畫筆放置槽，畫板的側(cè)面上設(shè)置有至少一個(gè)掛鉤，畫板的中心設(shè)置有用于放置和固定畫紙的凹槽，底座的前端設(shè)置有多個(gè)用于放置顏料的調(diào)色腔，本實(shí)用新型能夠快速、方便的實(shí)現(xiàn)畫板高度和傾斜角度的調(diào)整，能夠在繪畫時(shí)，方便將畫筆等器械放置或者懸掛在畫架上，不僅能方便繪畫者調(diào)色，而且能夠保證調(diào)色盤出現(xiàn)傾翻的危險(xiǎn)情況。
【IPC分類】B44D3-18
【公開號】CN204472416
【申請?zhí)枴緾N201520083637
【發(fā)明人】楊靜
【申請人】吉首大學(xué)
【公開日】2015年7月15日
【申請日】2015年2月4日